Fターム[4K057DD00]の内容
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プラズマエッチング装置
【課題】装置を特に複雑化することなく、被処理物上でのプラズマの均一性を損なわずに、耐圧誘電体部材の内表面における不均一な反応生成物の付着防止と削れ防止とがバランスよくほぼ均一に達成できるようにする。
【解決手段】耐圧誘電体部材5を介し減圧可能なチャンバ1内に反応ガスからのプラズマ6を発生させて対向電極3上の被処理物2に働かせエッチングなどのプラズマ処理を行わせる第1の電極4と、第1の電極4と前記耐圧誘電体部材5との間に設けられて耐圧誘電体部材5の内表面5aの反応生成物が付着するのを防止する第2の電極7とを備え、第2の電極7の耐圧誘電体部材5の内表面5aからの電極距離L2を、それらの各対向域における耐圧誘電体部材5の内表面5aでの反応生成物の付着度と耐圧誘電体部材5の削れ量との部分的な違いに応じて設定することにより、上記の目的を達成する。
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プラズマ酸化および酸化材料の除去
【課題】プラズマ酸化および酸化材料の除去
【解決手段】導電層をエッチングする方法は、導電層の少なくとも一部を転換し、導電層の転換部分を実質的に除去し、残存表面を露出させるために、導電層をエッチングすることを含む。残存表面は、約10nm未満の平均表面粗さを有する。導電層をエッチングするための方法も開示される。
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