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Fターム[4K057WB08]の内容

Fターム[4K057WB08]に分類される特許

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【課題】 本発明の課題は、ガラス浸食性、面内不均一性、残渣、長い処理時間などの問題点を解決した、TiまたはTi合金層を有する金属積層膜の一括エッチング液を提供することにある。
【解決手段】 本発明は、少なくとも1層のTiまたはTi合金層と少なくとも1層の他の金属層からなる金属積層膜を一括にエッチングするためのエッチング液であって、フッ素を含む酸または該酸を生じさせるフッ素化合物と、フッ素が配位可能なイオンとを含有する、前記エッチング液、該エッチング液の製造方法、ならびに、該エッチング液を用いたエッチング方法に関する。 (もっと読む)


【課題】酸洗に要する時間を短くして導電性が良好な被膜を表面に形成できる固体高分子型燃料電池セパレータ用チタン材並びにその製造方法およびそれを用いた固体高分子型燃料電池を提供する。
【解決手段】質量%で、白金族元素:0.005%〜0.15%および希土類元素:0.002〜0.10%を含有し、残部がTiおよび不純物からなることを特徴とする固体高分子型燃料電池セパレータ用チタン材である。本発明のチタン材は、非酸化性酸を用いた酸洗によりチタン材の表面にチタン酸化物および白金族元素からなる被膜を形成でき、その被膜の厚さを50nm以下とするのが好ましく、被膜の表面における白金族元素の濃度を1.5質量%以上とするのが好ましい。このように被膜が形成されることにより、本発明のチタン材は、初期の接触抵抗の低減が実現できるとともに、良好な耐食性が確保することができる。 (もっと読む)


【課題】 本発明の課題は、銅層および/または銅合金層を有する金属膜や、該層と他の金属からなる層との積層膜を精度良くエッチングでき、液寿命が長いエッチング液組成物を提供することにある。
【解決手段】 本発明は、銅層および/または銅合金層を含む金属膜をエッチングするためのエッチング液組成物であって、銅(II)イオン、β−アラニンおよび水を含む、前記エッチング液組成物、ならびに、該エッチング液組成物を用いたエッチング方法に関する。 (もっと読む)


【課題】
銅及びモリブデンを含む多層膜用エッチング液、及びこれを用いた銅及びモリブデンを含む多層膜のエッチング方法を提供する。
【解決手段】
(A)分子内にカルボキシル基を二つ以上有し、かつヒドロキシル基を一つ以上有する有機酸イオン供給源、(B)銅イオン供給源、及び(C)アンモニア及び/又はアンモニウムイオン供給源を配合してなり、pHが5〜8であり、(C)アンモニア及び/又はアンモニウムイオン供給源の(B)銅イオン供給源に対する配合比(モル比)が0.1〜20である銅及びモリブデンを含む多層膜用エッチング液、及びこれを用いたエッチング方法である。 (もっと読む)


【課題】 銅及びモリブデン積層膜を一液でエッチングでき、しかも工業的に好ましい形状にエッチングできるエッチング液を提供する。
【解決手段】 過酸化水素、グリシン、燐酸及び水を含むエッチング液を、銅及びモリブデン積層膜のエッチングに用いる。 (もっと読む)


【課題】不溶性金属電極を構成する電極基体と不溶性電極物質被覆とを、前記電極基体に損傷を与えることなく分離して回収する方法の提供。
【解決手段】チタニウム及び/チタニウム合金で形成されたなる電極基体と白金、パラジウムイリジウム等の金属及び/又は該金属の酸化物を含む不溶性電極物質被覆とからなる不溶性金属電極を、フッ化カリウム等のアルカリフッ化物と硫酸カリウム等の無機酸塩を含有する混合水溶液に接触させることからなる電極基体に損傷を与える事なく回収する方法。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、Cr含有基材のエッチングに際して、エッチング速度が早く、サイドエッチングの少ないエッチングが可能であり、それによって生産性並びに歩留まりを向上させることができ、微細な部分のエッチングが可能となるCr含有基材用エッチング剤組成物及び該エッチング剤組成物を用いるCr含有基材のエッチング方法を提供することにある。
【解決手段】本発明のCr含有基材用エッチング剤組成物は、(A)フェリシアン化金属塩成分、(B)無機アルカリ化合物及び有機アルカリ化合物からなる群から選択される少なくとも1種類以上であるアルカリ成分、(C)ノニオン性界面活性剤成分を含む水溶液からなることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】Tiを含む層を優先的に溶解する選択的なウエットエッチングを可能とし、しかもエッチング・アッシング等により生じる残渣をも効果的に洗浄除去することができるエッチング方法及びこれに用いるエッチング液、これを用いた半導体基板製品の製造方法を提供する。
【解決手段】
Tiを含む第1層と、Cu、SiO、SiN、SiOC、及びSiONの少なくとも1種を含む第2層とを有する半導体基板に特定のエッチング液を適用し、前記第1層を選択的にエッチングする方法であり、前記特定のエッチング液が、有機アミン化合物からなる塩基性化合物と酸化剤とを水性媒体中に含み、そのpHが7〜14であるエッチング方法。 (もっと読む)


【課題】信頼性の高い導電膜パターンの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る導電膜パターンの製造方法は、基板10上に導電膜21を成膜し、導電膜21の表面に対して他の層を積層する前に、酸素をプラズマ化したプラズマアッシング処理を施し、表面処理した導電膜21上に、当該導電膜21をパターン形成するためのマスクパターン30を形成する。次いで、マスクパターン30を用いて導電膜21をウェットエッチングによりパターン形成する。基板10は、半導体基板であることが好ましい。導電膜パターンは、例えば、配線、電極パッド等である。 (もっと読む)


【課題】Ti等の特定の金属材料からなる層を優先的に溶解する選択的なウエットエッチングを可能とし、しかもエッチング・アッシング等により生じる残渣をも効果的に洗浄除去することができるエッチング方法及びこれに用いるエッチング液、これを用いた半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】Ti、Mo、Ag、V、Al、及びGeの少なくとも1種を含む金属材料層と、SiC、SiOC、及びSiONの少なくとも1種を含むケイ素化合物層とを有する半導体基板にエッチング液を適用し、前記金属材料層を選択的に溶解するエッチング方法であって、前記エッチング液として、フッ素化合物と、炭素数が8以上の疎水性基と1つ以上の親水性基とを有する特定有機化合物とを含み、pHを3〜7に調整したものを使用するエッチング方法。 (もっと読む)


【課題】 小型で簡便でありつつ、均一な研磨を行えるステント研磨装置を提供する。
【解決手段】 ステント研磨装置10は、研磨液PLを上流から下流に流す傾斜槽11と、研磨液PLの中にステント69を浸し、下流から上流に、ステント69を回転させつつ搬送させる搬送ユニット29と、を含む。 (もっと読む)


【課題】 合金製品の表面に、優れた密着強度で各種樹脂等の有機コーティング層を形成するための表面改質処理剤と、この表面改質処理剤による合金製品の表面改質方法とを提供する。
【解決手段】鉄又はチタンを主成分とする合金製品における表面を改質するための水溶液であって、合金の表面に存する酸化安定被膜を除去する化学研磨溶液と、酸化安定被膜が除去されることによって活性化した合金製品の活性表面にカップリングし、活性表面が酸化安定皮膜を形成するのを遅らせる改質剤とからなる表面改質処理剤である。改質剤は、活性表面の金属イオンと錯体を構成する錯体形成用物質である。錯体形成用物質は、没食子酸、ピロガロール、タンニン酸のうちから選ばれた少なくとも何れか1種以上からなるものである。 (もっと読む)


【課題】母材を腐食させずに、残存なく金属結合層を酸洗剥離する方法を提供することを目的とする。
【解決手段】酸洗処理方法は、表面に溶射膜を備えた母材を強酸性水溶液に浸漬して酸洗処理する酸洗処理工程と、母材が浸漬された強酸性水溶液の電位を測定する電位測定工程と、測定した電位の変化に基づき、測定した電位が上昇傾向を示したか否かを判定する判定工程と、を備え、測定した電位が上昇傾向を示したと判定された場合に、酸洗処理を終了する。 (もっと読む)


【課題】硬度のばらつきが少なく、金属光沢を備えた時計部品40の製造方法を提供する。
【解決手段】時計部品40を熱処理して、チタン等の複数の結晶41,42,43を粗大化する熱処理工程と、時計部品40の形状を加工する形状加工工程と、チタン等をエッチングして各結晶41,42,43の表面41s,42s,43sを鏡面化し、各結晶41,42,43の表面41s,42s,43sの法線方向41v,42v,43vを相互に異ならせるエッチング工程と、時計部品40の表面40sを陽極酸化処理する陽極酸化工程と、を有する構成とした。 (もっと読む)


【課題】基板上に形成されたモリブデン系導電性薄膜、または、モリブデン系導電性薄膜とアルミニウム系導電性薄膜とが積層された積層導電性薄膜を、効率よく、側面が良好な順テーパー形状となるようなエッチングを行うことが可能なエッチング液、および、該エッチング液を用いたエッチング方法を提供することを目的とする。
【解決手段】(a)リン酸30〜80重量%と、(b)硝酸0.1〜20重量%と、(c)有機酸塩0.1〜20重量%と、(d)水とを含有するエッチング液を用いてエッチングを行う。
また、上記エッチング液を用いて、アルミニウム系導電性薄膜と、モリブデン系導電性薄膜とを備えてなる2層構造の積層導電性薄膜、または、アルミニウム系導電性薄膜と、アルミニウム系導電性薄膜を挟み込むようにその両主面側に配設された第1のモリブデン系導電性薄膜および第2のモリブデン系導電性薄膜を備えてなる3層構造の積層導電性薄膜をエッチングする。 (もっと読む)


【課題】EUV光及び検査光において吸収体層での反射率を低減でき、EUV光および検査光の両方において高コントラストな反射型フォトマスクを提供する。
【解決手段】基板1と基板1上に形成された反射体層2と、反射体層2上に形成された吸収体層3を持つEUVマスクブランクにおいて、吸収体層3の表面に所定の大小二つの表面粗さの凹凸4を形成する。 (もっと読む)


【課題】表面及び裏面にチタン含有膜が形成された基板の裏面からチタン含有膜を除去するときに、基板の裏面に残留するチタン元素を従来より短い時間で除去することができる液処理方法を提供する。
【解決手段】処理液により基板の裏面を処理する液処理方法において、回転可能に設けられた、基板を支持する支持部により、表面及び裏面にチタン含有膜が形成されている基板を支持し、支持部に支持されている基板を、支持部とともに回転させ、回転する基板の裏面にフッ酸を含む第1の処理液を供給し、供給した第1の処理液により基板の裏面を処理する第1の工程S11と、第1の工程S11の後に、回転する基板の裏面にアンモニア過水を含む第2の処理液を供給し、供給した第2の処理液により基板の裏面を処理する第2の工程S12とを有する。 (もっと読む)


【課題】母材へ与える影響をより低減させたTi系被膜除去剤、特に、その母材がコバルトを結合相とする超硬質材料である場合にも、コバルトの溶出が抑制でき、これにより従来の除去剤を使用した場合に生じていた再コーティングしたTi系被膜の膜剥がれの問題を解決できるTi系被膜除去剤の提供。
【解決手段】(A)塩化水素5〜20質量%、(B)フッ化アンモニウム、フッ化カリウム、フッ化ナトリウム及びフッ化リチウムから選ばれる少なくとも1種のフッ化塩化合物0.5〜10質量%、(C)下記一般式(1)で表される化合物又はその塩を1〜10質量%含む水溶液からなるTi系被膜除去剤。
HS−X1−Y (1)
(式中、X1は、炭素数1〜4のカルボキシル基で置換されてもよいアルキレン基を表し、Yは、カルボキシル基又はアミノ基を表す。) (もっと読む)


【課題】金属膜のウェットエッチングの終点を的確に検出できる回路基板の製造方法を提供する。
【解決手段】回路基板の製造方法は、基板上に、少なくとも第1の金属材料よりなる第1の金属層を介して、前記第1の金属材料とは異なる第2の金属材料よりなる第2の金属層を形成する工程と、前記第2の金属層上に第3の金属材料よりなる金属配線パタ―ンを形成する工程と、前記金属配線パタ―ンの形成工程の後、エッチング液中におけるウェットエッチングにより前記第2の金属層をエッチングし、前記第2の金属層を前記第1の金属層に対して選択的に除去するエッチング工程と、を含み、前記ウェットエッチング工程は、前記エッチング液中における前記第2の金属層の浸漬電位の時間変化を測定する工程を含み、前記浸漬電位がいったん降下した後上昇に転じ、その後さらに前記浸漬電位の時間変化率が減少したのが検出された場合に、前記ウェットエッチング工程を終了する。 (もっと読む)


【課題】コンパクトに構成でき膨大なエッチング酸の浪費を防止することができるエッチング酸廃液処理システム及びエッチング酸廃液処理方法及びこれに適用するエッチング酸廃液処理装置を提供する。
【解決手段】フィルタ2にて固形物を除去する固形物除去工程と、陽金属イオン交換樹脂塔3によって金属イオンとして陽金属イオンを除去する陽金属イオン除去工程とをエッチング酸廃液処理循環流路5によって連続して行い、陽金属イオン除去工程よりも上流側で固形物除去工程を行い、さらに陽金属イオン除去工程の後に、エッチング酸廃液処理循環流路5の下流側でキレート形成性繊維又はキレート形成性樹脂によって少なくともBを除去する陰金属イオン除去工程を行うことによってエッチング酸廃液をエッチング酸廃液処理循環流路5によって連続して循環再利用する。 (もっと読む)


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