【課題】超硬材工具類又は金型類等の超硬材表面の硬質被膜を選択的に除去でき、かつ、超硬母材の劣化を最小限に抑制することが可能な超硬材における硬質被膜の除去方法を提供する。
【解決手段】第４族元素、第５族元素及び第６族元素からなる群より選ばれた少なくとも１種の元素の炭化物を含有する超硬合金粒子が、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｃｕ及びＮｉからなる群より選ばれた少なくとも１種の元素あるいはこれらの元素を含有する合金からなるバインダー金属で焼結された超硬母材の表面を、第４族元素、第５族元素、第６族元素、第１３族元素及び第１４族元素（但し、炭素は除く。）からなる群より選ばれた少なくとも１種の元素の窒化物、炭化物、炭窒化物、酸化物又はホウ化物を含有する硬質被膜で被覆してなる超硬材を、硬質被膜除去用の処理容器内にてアルカリ薬液に接触させることによって硬質被膜を除去する方法であって、
前記超硬母材に対して犠牲陽極として作用する金属を、前記超硬母材に接触させた状態で、前記超硬母材と共に前記アルカリ薬液中に配置する硬質被膜の除去方法。 （もっと読む）

【課題】透明導電膜のエッチングにおいて、エッチング後、エッチング液の泡およびエッチング剤に由来するエッチング残渣を全く残さず、ジャストタイムでエッチングすることができるエッチング液およびエッチング方法を提供すること。
【解決手段】少なくとも蓚酸を含有する導電膜用エッチング剤（ａ）と、下記の一般式（１）で表される化合物（ｂ）とを水中に含有する導電膜用エッチング液。
（Ｒｆ１ＳＯ₂）（Ｒｆ２ＳＯ₂）ＮＸ （１） （もっと読む）

【課題】処理液が供給される基板の下面側の雰囲気から、処理液が供給されない基板の上面側への雰囲気の周り込みを防止する共に、上下両面側の雰囲気を分離するために供給されるパージガスの消費量を抑制することが可能な液処理装置を提供する。
【解決手段】水平に保持した基板の下面に処理液を供給する液処理装置２において、囲み部部材４は基板Ｗから飛散した処理液を受け止め、天板部５は水平に保持された基板Ｗの上面に対向するように配置され、ガス供給部５３、５３１は天板部５と基板Ｗとの間に形成される空間に加圧されたガスを供給する。そして気体取り込み口５２は天板部５と基板Ｗとの間に形成される空間内の負圧により、この空間の外部の雰囲気の気体を当該空間内に取り込む。 （もっと読む）

本発明は、エッチングすべき少なくとも１つの材料（４）を含む構造体（１）をエッチングするための方法に関し、この方法は、エッチングすべき前記材料（４）と反応できる少なくとも１つの化学種を選択するステップと、前記化学種を放出できる少なくとも１つの可溶性化合物を選択するステップと、前記化合物および懸濁状態にある粒子または固体の粒（１３）の粉体を含む溶液（１１）を製造するステップと、前記溶液内に前記エッチングすべき材料を入れるステップと、前記化学種を発生し、これら化学種がエッチングすべき前記材料と反応し、それによって可溶性化合物または沈殿物を生成するように活性キャビテーションバブルを発生できる、少なくとも１つの周波数の高周波超音波を前記溶液内に発生するステップとを備える。
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【課題】
本発明は、従来の問題点を解決し、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）膜または酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）膜よりなる透明導電膜のウエットエッチング装置内に析出したしゅう酸インジウムを化学的に溶解除去するしゅう酸インジウム溶解剤を提供することである。
【解決手段】
本発明は、エッチング装置系内に析出するしゅう酸インジウムを溶解除去するために用いる溶解剤組成物であって、アルカリ成分と、アミノポリカルボン酸およびその塩から選択される１種または２種以上とを含有する水溶液であることを特徴とする、前記溶解剤組成物、該溶解剤組成物を用いたエッチング装置系内の洗浄方法に関する。 （もっと読む）

【課題】電気伝導性を有さないセラミックスなどの保護層であっても容易に除去できる保護層の除去方法を提供する。
【解決手段】アルミニウムを含む消耗部材２から、この消耗部材を保護する保護層６を除去する保護層の除去方法であって、前記保護層は、多孔質な構造の溶射皮膜で形成されており、前記保護層と前記消耗部材との間に介在する、希土類元素（Ｓｃ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｍ及びＴｂを除く）の酸化物により形成された溶解層４を、前記消耗部材を腐食させない濃度に濃度調整された酸性の水溶液で溶解させることにより、前記保護層６を除去する。 （もっと読む）

【課題】
金とニッケルとが共存する材料の１液でのエッチングを可能にし、さらに金およびニッケルのエッチングレートを制御できるエッチング方法およびエッチング液を提供する。
【解決手段】
ヨウ素系エッチング液において、無機酸または常温で固体の有機酸、および／または有機溶剤を加えて、各成分の配合比を調節したエッチング液とし、金および／またはニッケルをエッチングする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、メタルマスクを用いて、簡易な方法により半導体基板に先細状ビア孔を形成するエッチング方法を提供することを目的とする。
【解決手段】半導体基板上に金属導電層を形成する工程と、該金属導電層上に第１の開口を有する第１メッキ層を形成する工程と、該第１メッキ層の側壁に該第1の開口より幅の狭い第２の開口を有する第２メッキ層を形成する工程と、該第２メッキ層をマスクとして第1のドライエッチングを行い該半導体基板をエッチングする工程と、該第1のドライエッチングの後に該第1メッキ層を残す選択的ウェットエッチングを行い該第２メッキ層をエッチングする工程と、該第２メッキ層をエッチングした後に該第1メッキ層をマスクとして第２のドライエッチングを行い該半導体基板をさらにエッチングする工程とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】シュウ酸エッチング廃液から、インジウムを有利に且つ効率的に回収する方法を提供すること。
【解決手段】インジウムを含有するシュウ酸エッチング廃液を、官能基として１級アミノ基及び／又は２級アミノ基を有する弱塩基性陰イオン交換樹脂に接触処理せしめることにより、かかるシュウ酸エッチング廃液中のインジウムを、かかる陰イオン交換樹脂に物理的に吸着させて、シュウ酸エッチング廃液中から回収するようにした。 （もっと読む）

【課題】本発明は、多孔性チタンフォームまたは多孔性チタン合金フォームをエッチングするためのプロセスに関する。
【解決手段】清浄で乾燥したフォーム製品が、約０．５〜約５体積パーセントのＨＦおよび約５〜約２０体積パーセントのＨＮＯ_３を含む酸性水溶液中に、所望の表面粗さに達成するのに十分な時間、浸漬される。エッチングされたフォームを加熱して、残留するチタン酸塩を除去する。このエッチングプロセスは、フォームの表面での多孔度を増大させるが、エッチング剤は、フォームの内部に完全には浸透しないので、適切な機械的特性が維持される。このエッチングプロセスは、フォーム表面における摩擦係数も増大させる。このフォームは、連続気泡型整形外科または歯科インプラントを構成してもよく、あるいは、基材の表面上のコーティングを構成してもよい。 （もっと読む）

【課題】 工程数を少なくでき微細な加工も可能な、無機表面エッチング方法を提供すること。
【解決手段】 無機物の表面に、ラジカル反応性を有するカップリング剤、ｐH調整剤、アルコール及び水を含有する処理剤を塗布して、前記処理剤の揮発成分を除去することで、前記処理剤の不揮発成分層を前記無機物上に形成する、処理剤層形成工程と、前記不揮発成分層上に、インクジェットプリンタによりラジカル硬化型光硬化インクを所定形状に印刷して硬化させることで、前記所定形状の前記ラジカル硬化型光硬化インクの硬化物層を前記不揮発成分層上に形成する、印刷工程と、前記所定形状に形成された前記硬化物層をマスクとして前記無機物表面をエッチングする、エッチング工程と、前記無機物を洗浄し前記マスクを剥離させて、凹凸画像を前記無機物の表面に露出させる、洗浄・剥離工程と、を備えることを特徴とする無機物のエッチング方法。 （もっと読む）

【課題】 銀又は銀合金からなる金属膜と透明導電膜とを一液で、かつ工業的に満足できる速さでエッチングできるエッチング液及びエッチング方法を提供する。
【解決手段】 銀又は銀合金からなる金属膜と透明導電膜とを一液でエッチングするための組成物として、銅イオン、硝酸、及びフッ素化合物を含有する組成物を使用する。 （もっと読む）

【課題】圧力緩衝用のダイアフラム部を設けたシリコン基材のダイアフラム部の欠陥検査を、効率よく、高精度かつ容易に行うことができる液滴吐出ヘッドのダイアフラム部の欠陥検出方法等を提供する。
【解決手段】表面に下地となる金属薄膜２５が形成されその上に樹脂薄膜２６が形成されてダイアフラム部２１０となる部分２１０ａを有するシリコン基材２００を欠陥検出用のエッチング液に浸漬する工程と、前記浸漬後に、金属薄膜２５のエッチング浸食の有無を検出して樹脂薄膜２６の欠陥部Ａの有無を検出する工程とを備えた。このとき、金属薄膜２５のエッチング浸食の有無を顕微鏡によって、透過光及び反射光を用いて行うことができる。上記の樹脂薄膜２６をパリレン薄膜とし、金属薄膜２５を白金薄膜またはクロム薄膜とする。欠陥検出用のエッチング液は、６０℃〜８０℃に加熱した塩酸と硝酸との混合液とする。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】本発明は、ネガティブフォトレジストを用いたガラスまたは金属エッチング方法およびこれを用いたクリシェの製造方法に関する。本発明に係るガラスまたは金属エッチング方法は、ネガティブフォトレジストと金属または金属酸化物との接着力が優れているので金属または金属酸化物エッチング液によってフォトレジスト層が腐食されないだけでなく、逆型のフォトマスクを製作する必要がないので製造工程が簡単であり、混合波長などの低分解能光源を用いることができて経済的である。 （もっと読む）

【課題】基板処理用の処理液に含まれる金属成分を低コストで効率的に除去してこの処理液を再生することができる処理液再生方法などを提供する。
【解決手段】基板処理を行う処理エリアにおいて、金属イオンを吸着する吸着材が内部に充填された可搬容器１内に処理液を通液させ、この処理液中の金属成分を吸着材に吸着させて分離，除去する処理液再生工程と、処理液を通液させた可搬容器１を、処理エリアから離隔したエリアであって吸着材を再生する吸着材再生エリアに搬送する第１搬送工程と、吸着材再生エリアにおいて、処理エリアから搬送した可搬容器１内に溶離液を通液させ、吸着材に吸着された金属を溶離させてこの吸着材を再生する吸着材再生工程と、吸着材を再生した可搬容器１を吸着材再生エリアから処理エリアに回送する第２搬送工程とからなり、処理液再生工程では、吸着材再生後の可搬容器１を使用する。 （もっと読む）

【課題】筐体間の隙間からの処理液流出を防止することができる処理液供給装置を提供する。
【解決手段】処理液供給ノズル１は、所定間隔の隙間２を隔てて上下に対向配置された上部筐体１０および下部筐体２０を備える。上部筐体１０および下部筐体２０のそれぞれの側壁面には処理液供給部１２，２２および処理液排出部１５，２５が付設されている。処理液供給部１２，２２が隙間２の一方側から処理液を供給して処理液排出部１５，２５が他方側から吸引することによって隙間２に処理液流が形成され、ガラス基板ＧＳはその隙間２中を搬送される。下部筐体２０の上面２１には、ガラス基板ＧＳの先端部が支持コロ５０に接触して跳ね上がりが生じた場合であっても、隙間２の基板入口側に形成された処理液のメニスカスを維持できるようなピッチにて複数の支持コロ５０が配列されている。 （もっと読む）

【課題】複数の深さの異なる凹部が、高い寸法精度で形成された凹部付き基板を製造するために用いられるフォトマスク、かかるフォトマスクを用いたパターニング方法、凹部付き基板の製造方法、および、かかる製造方法により製造された凹部付き基板を提供すること。
【解決手段】本発明のフォトマスク4は、基板1を覆うように形成されたレジスト材料膜（被覆層）3aを、所定の形状にパターニングしてレジスト層を形成する際に用いられるフォトマスクであり、フォトマスク4の上面（一方の面）側から入射された入射光5aを、出射光5b、5cとして下面（他方の面）側から出射する光透過部41aを有するマスク本体41と、光透過部41aに設けられ、出射光5bを入射光5aに対してその角度を変更する角度変更手段42とを備えており、角度変更手段42により角度が変更された出射光5bを、第1の凹部11の開口部付近に形成されたレジスト材料膜3aに照射するよう構成したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】パネルのエッチング製作プロセスの方法及びその装置を提供する。
【解決手段】パネルのエッチング製作プロセスの方法及びその装置は、パネルをエッチング作業タンク中に平置き固定し、その後タンク中にそのパネルを浸漬するに充分な適量のエッチング液を注入する。並びにエッチング進行中、そのタンク本体を片側に傾斜させながら円錐形に旋回運動させ、タンク中のエッチング液をタンク本体の傾斜回転に従って流動させて、平置き固定されたタンク内のパネルに対し、往復回転のフラッシング効果を起こし、エッチング効率を加速させる。同時に、その流動によりエッチング液を均一にパネル表面に接触させ、均一なエッチング効果を得るものである。 （もっと読む）

【課題】非破壊検査方法等において、標準試料として必要な水素脆化チタン管を容易に作製する方法およびその装置を提供する。
【解決手段】本発明の水素脆化チタン管の作製方法は、チタン管の表面を溶液中で金属に擦り付けることを特徴とし、また作製装置は、溶液を入れる容器、該容器内に配置され、チタン管を挿入する孔を有する金属製バッフル、該金属製バッフルの孔に挿入されたチタン管の一端を保持し、回転させるための回転手段からなり、該金属製バッフルの孔の直径がチタン管外径より０．０４〜２ｍｍ大きいことを特徴とする。 （もっと読む）