【課題】吸引口から吸引しきれなかったエッチング液を受けることにより、エッチング液による装置の腐食を防止することのできるノズル、このノズルを備えたエッチング液供給装置およびエッチング方法を提供すること。
【解決手段】ワーク１０の被処理面１０１にエッチング液を供給するノズル４であって、エッチング液を送出する送出口４１２ａおよび送出口４１２ａから送出されたエッチング液を吸引する吸引口４１３ａを有し、送出口４１２ａおよび吸引口４１３ａが被処理面１０１の下方に位置されたノズル本体４１と、吸引口４１３ａから吸引しきれなかったエッチング液を受ける液受け部４２とを有する。 （もっと読む）

【課題】基板面内や基板間の厚さのバラツキを低減することができるとともに、製品性能や製造歩留を向上させる基板処理装置を提供する。
【解決手段】液体または気体が送入される槽ＴＫと、槽ＴＫの内部に液体または気体を送り出す機構ＴＢ、Ａと、を備え、槽ＴＫに被処理基板１を配置し処理を行う基板処理装置であって、被処理基板１と機構ＴＢ、Ａとの間の被処理基板１近傍に、少なくとも一つの整流板ＰＬ１が配置された処理装置。 （もっと読む）

【課題】基板面内や基板間の厚さのバラツキを低減することができるとともに、製品性能や製造歩留を向上させる基板処理装置を提供する。
【解決手段】液体または気体が送入される槽ＴＫと、槽ＴＫ内に液体または気体を送り出す機構と、を備え、槽ＴＫ内に被処理体１を配置して処理を行う基板処理装置であって、機構は、槽ＴＫ内に液体または気体を送出する第１送出手段ＴＢａおよび第２送出手段Ｔｂと、第１送出手段ＴＢａからの液体または気体の送出の開始と停止とを行う第１送入手段Ａと、第２送出手段ＴＢｂからの液体または気体の送出の開始と停止とを行う第２送入手段Ｂと、を備えた基板処理装置。 （もっと読む）

【課題】基板エッチング装置を提供する。
【解決手段】エッチング槽、基板に装着されエッチング槽の内部に設置されたカセット、カセットの下部面に設置される多孔板、多孔板に形成されてそれぞれ複数の吐出口からなる吐出部、吐出口にそれぞれ連結され、ガスの供給を受けて吐出口を通じて基板にバブルを提供する第１ラインを含む基板エッチング装置を提供する。第１ラインは、複数のグループに区分され、複数のグループ中で少なくとも一つのグループは、残りのグループと異なる圧力のガスの供給を受ける。 （もっと読む）

【課題】パネルのエッチング製作プロセスの方法及びその装置を提供する。
【解決手段】パネルのエッチング製作プロセスの方法及びその装置は、パネルをエッチング作業タンク中に平置き固定し、その後タンク中にそのパネルを浸漬するに充分な適量のエッチング液を注入する。並びにエッチング進行中、そのタンク本体を片側に傾斜させながら円錐形に旋回運動させ、タンク中のエッチング液をタンク本体の傾斜回転に従って流動させて、平置き固定されたタンク内のパネルに対し、往復回転のフラッシング効果を起こし、エッチング効率を加速させる。同時に、その流動によりエッチング液を均一にパネル表面に接触させ、均一なエッチング効果を得るものである。 （もっと読む）

【課題】 減圧手段、脱気手段を備えたエッチング方法及び装置では、しくみが大掛かりとなり、装置が大型化し、さらにはコスト高となる。
【解決手段】 多孔質体を超音波を印加しながらエッチングする方法において、印加する超音波を減衰材料を用いて、容易かつ継続的な方法で制御することにより、多孔質体を均一にエッチングすることができる装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】エッチング槽中でシリコン基板を異方性エッチングして構造物を形成する際に行う異方性エッチングのエッチングレートを安定化し、得られる構造物の開口幅のばらつきを抑制する方法を提供すること。また、良好な吐出特性を有するインクジェット記録ヘッドの製造方法を提供すること。
【解決手段】エッチング槽２中に存在するエッチング液の、ＰＨ電極１０により測定される電位差を一定にする制御を行う。また、この方法を利用してインクジェット記録ヘッドのインク供給口を形成する。 （もっと読む）

【課題】塩化第二鉄溶液による銅エッチングの劣化液の、無隔膜電解液槽内における電解再生方法及びその電解再生装置を提供する。
【解決手段】塩化第二鉄溶液による銅エッチング反応では、銅は塩化第二鉄に溶解されて塩化第二銅に変化し、塩化第二鉄自身は塩化第一鉄に還元されてエッチング能力が劣化する。この劣化液を無隔膜電解液槽に入れて、エッチング反応と逆方向の反応が起生せしめる。このとき上記劣化液中の塩化第二銅は分解されて元の金属銅に戻り、このとき生じる塩素イオンは劣化液中の塩化第一鉄を酸化して、元の塩化第二鉄に戻す働きをする電解再生反応を行い、塩化第一鉄の酸化に要する塩素源を自己供給するもので、隔膜電解法の場合のように塩酸または食塩など反応に要する塩素源の全量を外部から供給する必要がない。 （もっと読む）

【課題】 金属部材の表面処理において、鏡面研磨が行えるとともに酸化膜のコーチングも同一作業により行える鏡面研磨コーチング方法を提供すること
【解決手段】 研磨対象（試料１）を一方の鉄芯４の先端部に支持して研磨パッド２を他方の鉄芯５の先端部に支持し、試料１と研磨パッド２とを対面させた間に磁気研磨液３を存在させる。鉄心４，５にはコイル８，９を設けて電磁石とし、外側の他端に駆動モータ６，７を連結して回転させる。磁気研磨液３には増粘剤，非磁性の砥粒を混合しておき、駆動モータ６，７により互いを逆回転させ、コイル８，９により磁気研磨液３に所定に磁場を加える。磁気研磨液中では強磁性粒子（鉄粒子）に砥粒，マグネタイト粒子が付着し、当該付着粒体が自転して動くので研削作用し、研磨面に酸素が直ちに結合し、コーチングされる。 （もっと読む）

【課題】ウエハまたは基板用のめっき装置で用いられるカソード電極装置の電極組立体に形成されためっき膜を安全にかつ効率的に除去する。
【解決手段】エッチング装置２は、筒状体１１１からなるカソードホルダであって、筒状体１１１の一端の外周部の少なくとも一部に沿って筒状体１１１の軸線と略直角に外側に延びる第１の突起１１３を有するカソードホルダ１１の他端に面して設けられ、めっき装置のカソードを形成する電極１５のエッチング装置で、底板２３と、底板２３に略直角にかつ底板２３上を周って延びる側壁２１と、側壁２１の頂部の少なくとも一部に沿って内側に延びる第２の突起２２とを備え、筒状体１１１が挿入できる開口を有するエッチング容器２０を有している。側壁２１は、電極１５と底板２３とが対向する向きで、第１の突起１１３が第２の突起２２の上に置かれたときに、電極１５と底板２３との間に間隙Ｘが生じる高さを有している。 （もっと読む）