【課題】温度安定時に温度を均一に維持することができ、昇降温時に容易に制御することができる。
【解決手段】制御装置５１は個別に制御される制御ゾーンの数が多い多制御ゾーンモデル７２ａと、制御ゾーンの数が少ない少制御ゾーンモデル７２ｂをとることができる。昇降温時に少制御ゾーンモデル７２ｂをとって少ない数の制御ゾーンＣ_１、…Ｃ_５の温度センサ５０からの信号に基づいて、各制御ゾーンＣ_１、…Ｃ_５に設置されたヒータ１８Ａを個別に制御する。温度安定時に多制御ゾーンモデル７２ａをとって、多い数の制御ゾーンＣ_１、…Ｃ_１０の温度センサ５０からの信号に基づいて、各制御ゾーンＣ_１、…Ｃ_１０に設置されたヒータ１８Ａを個別に制御する。 （もっと読む）

【課題】熱処理用のチャンバーの内壁に処理ガスの成分を付着し難くすることができる熱処理装置を提供する。
【解決手段】処理対象物を収容した容器２０が、加熱対象物として熱処理チャンバー１０内で加熱される。ガス供給部から供給される処理ガスがパイプ４２等を通じて容器２０の内部に導入され、その内部のガスがパイプ５２等を通じてポンプ部に排出される。パイプ４２，５２により形成されるガス流路が、熱処理チャンバー１０の空間から隔てられるため、熱処理チャンバー１０内の空間に処理ガスが漏洩し難くなる。 （もっと読む）

【課題】高精度なプロセス処理および高い安全性を実現することができる熱処理装置及び基板の製造方法を提供する。
【解決手段】熱処理装置１０は、基板を処理する反応管４２と、反応管４２を支持するマニホールド４４と、反応管４２の周囲に設けられ反応管４２内を加熱するヒータ４６と、ヒータ４６より下方の反応管４２の側方を囲うように設けられる囲い部５００と、囲い部５００と反応管４２との間の間隙５０６を強制排気する排気装置３０１と、反応管４２とマニホールド４４との間の当接部に設けられる密閉部材１５０と、を有し、囲い部５００には、排気装置が囲い部５００の外側の雰囲気を間隙５０６へ吸気する吸気口５０１が設けられる。 （もっと読む）

【課題】真空熱処理装置のシーリング用Ｏリングの劣化を防止する。
【解決手段】加熱容器（３）を排気ポンプへ結合し且つ真空処理チャンバ内に収容する接合チャンバの開口周囲フランジ（１３）と加熱容器（３）の開口周囲フランジ（１５）との接合面はＯリング（２１）でシーリングされる。接合チャンバの開口フランジ（１３）の開口縁にひさし状の突起部（２４）を設け、約１μ程の接合面の隙間から輻射熱が入りＯリングを加熱しないような構成によって、Ｏリングの劣化を防止している。 （もっと読む）

【課題】高温で熱処理が可能な熱処理炉を提供すべく、熱処理炉内の圧力変化があっても所定の熱処理雰囲気を維持可能となるエンドキャップ、及びそれを用いた熱処理炉を提供する。
【解決手段】シール面２０４を備えるシャッター部材により密閉可能な、熱処理炉の収容部の搬入口１０２に装着可能なエンドキャップであって、前記搬入口１０２の内周面に挿入される第１の挿入管部１２と、連接し一周する溝１５と、前記搬入口１０２にフランジ面１８で当接可能な第１のフランジ２０と、前記シール面２０４と当接してシール可能なフランジ面２５を備える第２のフランジ２４と、前記第１のフランジ及び前記第２のフランジの間の連結部に接続された炉内に連通する開口を備える排気管と、前記溝内に開口し、前記連結部から半径方向に突出するシールガス導入管と、を備えるエンドキャップ。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板を熱処理する熱処理装置を改良するものであり、メンテナンスを容易に行うことができる熱処理装置を開発する。
【解決手段】熱処理室１２の略中央部には、基板換装システム１８が配されて、基板換装システム１８に載置棚１６が設けられている。載置棚１６の全部の段部２３には、中央部分の小梁３１が欠落した欠落部３７を有し、当該欠落部３７によって吹き抜け部３８が設けられている。吹き抜け部３８に作業者が入ることができる。 （もっと読む）

【課題】ヒーターの絶縁支持構造の信頼性を向上させることができる熱処理装置を提供する。
【解決手段】本発明の一実施の形態に係る熱処理装置１は、発熱体（ヒーター板Ｈ４）を支持する支持機構Ｓ４において、発熱体を支持する支持部材４０２が金属材料で構成されている。このため、発熱体が炭素系材料のような材料で構成されている場合でも、発熱体と第２の部材との間の熱反応による当該第２の部材の変質あるいは融解を防止できる。また、支持部材４０２は電気絶縁性の絶縁部材４０３を介して金属製の支持軸４０１に支持されているため、発熱体の絶縁耐圧を安定に確保することができる。 （もっと読む）

【課題】 遮熱特性を低下させることなく大型化することが可能な扉を備えた熱処理装置を提供する。
【解決手段】ＩＲ炉１０は、炉体１２、扉２０、および駆動ユニット２８を備える。扉２０は、シャッタ２６およびメインフレーム２２を備える。シャッタ２６は、炉体１２の内部および外部を熱的に遮断する。また、シャッタ２６は、扉２０の長さ方向に沿って連続して配置された複数のシャッタ片２６２を有する。メインフレーム２２は、複数のシャッタ片２６２の少なくとも一部が長さ方向で移動自在になるようにシャッタ２６を支持するように構成される。また、メインフレーム２２は、駆動ユニット２８に接続されるように構成される。 （もっと読む）

【課題】昇華物が導出ダクト内で堆積することを抑制することができる熱処理装置を提供する。
【解決手段】熱処理装置１Ａは、熱処理部２１内に被処理物Ｗが収容された状態で、熱処理部２１内の空気を循環させながら加熱することにより被処理物Ｗを熱処理するとともに、外気を加熱して熱処理部２１内に送り込みつつ熱処理部２１内の空気を導出ダクト５内に流出させることにより熱処理部２１内を換気するものである。前記導出ダクト５には、被処理物Ｗを熱処理する際に当該被処理物から発生する昇華物を分解可能な触媒６が設けられている。 （もっと読む）

【課題】加熱処理によって排出される熱風に含まれる有機物を高い効率にて分解することができる基板熱処理炉を提供する。
【解決手段】炉体本体部１０の内部に熱風を吹き出すことによりガラス基板Ｗの加熱処理が進行する。炉体本体部１０から排出された熱風は循環経路２０を経由して再び炉体本体部１０に帰還する。その経路途中において、熱風の一部は排気ライン２３に排出される。排気ライン２３には、メタルフィルタに触媒を担持して構成される触媒フィルタ部７１が設けられている。これにより、排気される熱風と触媒との接触効率が高くなり、有機物の分解効率を高めることができる。また、パーティクル状の有機物をも捕集することが可能となり、トータルとしての有機物の分解効率を高いものとすることができる。 （もっと読む）

【課題】熱処理装置に用いられるヒータ素線が断線する前にその寿命を事前に予測する際に，ヒータ素線の断線の兆候が現れ易い期間（例えば昇温期間）のデータを利用することにより，ヒータ素線の寿命を従来以上に的確に予測する。
【解決手段】ウエハを熱処理するのに先立ってヒータ素線に電力を供給して熱処理温度まで上昇させる昇温期間内においてヒータ素線に供給された電力の大きさの最大値を検出するとともに電力の振幅の大きさを示す指標を求め，これら電力の大きさ及び電力の振幅の大きさを示す指標がそれぞれの閾値を超える場合にヒータ素線の寿命が近いことを知らせる。 （もっと読む）

【課題】透光性を有する被処理部材を急速昇降温させる場合であっても、加熱・冷却効率が高く、被処理部材の温度分布に生ずるバラツキを抑えることができる熱処理方法を提供する。
【解決手段】誘導加熱を利用してウェハ２４を加熱し、誘導加熱コイル１６の配置経路に沿って流す冷媒によりウェハ２４を冷却する熱処理方法において、前記誘導加熱コイル１６により誘導加熱されるグラファイト２０とウェハ２４とを近接させると共にこれらの間に気体層２６を介在させて、誘導加熱により加熱されたグラファイト２０から放射される輻射熱と気体層２６を介した熱伝達によりウェハ２４を加熱し、前記冷媒により冷却されたグラファイト２０による輻射熱の吸収と気体層２６を介した熱伝達によりウェハ２４を冷却することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】被熱処理体の熱処理を実施する熱処理装置において、基板上への塵落下を防止するとともに、電力削減および製品品質の向上を実現できる熱処理装置、その方法、および、プラズマディスプレイパネルを提供する。
【解決手段】熱処理装置は、連続的に配置した連続炉を備え、各区画室は、互いに独立の処理空間となっている。ヒータ３７，３８によって昇温され、その各区画室内の各基板を所定温度に加熱処理する。各区画室内には、マッフルと呼ばれる耐熱性のガラス上板３９ａ、ガラス側板３９ｂ，３９ｃが設けられ、特に、ガラス上板３９ａは、基板から２０〜６０ｍｍ離れた位置に設置される。マッフルとして用いられるガラスは、日本電気硝子社製のネオセラム（商品名）が好適に用いられ、このネオセラムの表面に、金属を溶媒に溶かした溶液を塗布して有機金属化させた透明マッフルを使用することができる。 （もっと読む）

【課題】被処理物を効率良く且つ均一に焼成することができ、大容量の加熱手段を装備するまでもなく、炉本体内の温度を殆ど低下させないで被処理物を炉本体内へ装入することができる焼成炉を提供する。
【解決手段】炉本体１１と該炉本体に開閉可能に被着した炉扉１２とを備え、該炉本体内へ装入した被処理物を過熱水蒸気を用いて焼成するようにした焼成炉において、炉本体に形成した副出入口３１と、該副出入口を囲んで該炉本体の外部に取付けたケース本体４１と、該ケース本体に開閉可能に被着したケース扉４２と、該ケース本体内に進退可能に収容した載置台５１と、該載置台の先端部及び後端部に取付け且つ該載置台の前進完了時又は後退完了時に該副出入口回りの該炉本体内縁部と当接して該副出入口を閉鎖する当接板５２，５３と、該載置台を該ケース本体内と該炉本体内との間で進退させる進退手段６１とを装備した。 （もっと読む）

【課題】比較的面積の大きな試料を均一に加熱できる高温加熱炉を提供する。
【解決手段】試料台１４に載置された平板状の試料を最適処理温度まで加熱する本加熱室２を有した高温加熱炉１であって、赤外線を放射して前記試料を加熱するＷメッシュヒータ１０と、前記Ｗメッシュヒータ１０から放射される赤外線を前記試料台１４に向けて反射する反射体１１とを前記本加熱室２に設け、前記反射体１１の反射面１１Ｓを前記試料台１４の位置に焦点Ｓ２を有する楕円面に形成すると共に、前記Ｗメッシュヒータ１０を円筒状に形成して面光源とした。 （もっと読む）

【課題】加熱槽の内壁面のうち少なくとも前面を構成する金属板にバイメタルを用いることで、装置の大型化やコストの高騰及び設計や調整作業の複雑化を伴うことなく、加熱槽の前面における厚さ方向の熱変形を防止し、加熱槽内の温度分布の均一化、熱損失の低減化を実現する。
【解決手段】加熱槽１の内壁面の前面部材４１を、高熱膨張材料の外面側材料４１１と低熱膨張材料の内面側材料４１２とを接合したバイメタルで構成した。一例として、外面側材料４１１はＳＵＳ３０４であり、内面側材料４１２はＳＵＳ４３０である。開口部２の開閉によって前面部材４１の外面側と内面側とに温度勾配を生じた場合にも、前面部材４１は厚さ方向に変形を生じることがない。 （もっと読む）

【課題】被熱処理物や匣などに低い温度のガスが当たることを防止することができ、炉内における温度ばらつきを小さくすることができる熱処理炉を得る。
【解決手段】熱処理炉１０の炉本体１２内に、ガス供給管２２とＵ字状のヒータ２６とを形成する。ガス供給管２２にガスを噴出するためのガス噴出孔を形成し、ガス噴出孔から噴出する雰囲気ガスがヒータ２６に直接当たるように、ガス供給管２２とヒータ２６とを配置する。炉内にセラミック積層体を載置した匣３２を置き、ガス供給管２２から雰囲気ガスを炉内に供給しながら、ヒータ２６で加熱することにより、セラミック積層体を熱処理する。このとき、雰囲気ガスは、ヒータ２６で加熱された状態で炉内に供給される。 （もっと読む）

【課題】比較的小型であって、しかも、電子部品が搭載される回路基板等の被加熱物の均一な加熱を可能にする。
【解決手段】加熱炉本体４を、分離可能な上加熱炉２および下加熱炉３で構成し、
電子部品が搭載された回路基板を、上加熱炉２内に水平に収容し、下加熱炉３の上面を、上加熱炉２の下面側に密着させ、上部送風路５および下部送風路６からそれぞれ熱風を回路基板の両面に送風し、回路基板の両面に沿って流れる熱風を、スリット９から排出し、これによって、回路基板を予備加熱し、その後、下加熱炉３を開放した状態で、上加熱炉２で回路基板の上面に熱風を送風して回路基板を保温しながら、回路基板の下面側の半田付けを行なうようにしている。 （もっと読む）

【課題】
ヒータ交換作業が安全で而も簡単であると共に交換コストの低い熱処理装置、及び該熱処理装置に於ける熱処理炉及び断熱材及び排気ダクトを提供する。
【解決手段】
ヒータユニット２１の上部に排気ダクト２２が設けられ、該排気ダクトに排気導出部２５，２６が接続された熱処理炉を有する熱処理装置に於いて、前記排気ダクトは断熱材で構成され、該排気ダクト内部はエルボウ状の排気路２３を形成する。
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【課題】半導体等の加熱炉において、別途加熱装置を設けることなく供給ガスや排ガスを加熱できる経済的な加熱炉を提供する。
【解決手段】加熱炉において、不活性ガスやキャリアガスなどの流体を流す金属チューブ６を断熱炉壁１の外壁面と外被３の内面側との間の長手方向に延びるように設け、チューブにキャリアガスなどの流体を流し、断熱炉壁の蓄熱により加熱し、この加熱した流体で供給ガスを加熱し、及び／または密閉容器５内のワーク４の反応処理を終えた排ガスに混入させ加熱する。 （もっと読む）