Fターム[4M104FF02]の内容
Fターム[4M104FF02]に分類される特許
461 - 461 / 461
半導体装置
【課題】低オン抵抗の縦型トランジスタが形成されてなる半導体装置を提供する。また、マルチチャネル化の自由度の高い半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体基板30の一方の表面である主面側に形成された第1電極と、もう一方の表面である裏面側に形成された第2電極とを有する縦型トランジスタ101が形成されてなる半導体装置100であって、第1電極が、主面上に形成された層間絶縁膜43を介して、主面側の半導体基板30表層部に形成された拡散領域41,42,48に接続する第1金属層44からなり、裏面側には、半導体基板30の内部に向かってトレンチ35が形成され、第2電極が、トレンチ内に形成され、トレンチ35によって露出された半導体基板30内の半導体層33に接続する第2金属層37からなる半導体装置100とする。
(もっと読む)
461 - 461 / 461
[ Back to top ]