Fターム[4M106CB16]の内容
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Fターム[4M106CB16]に分類される特許
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シリコン結晶の窒素濃度測定方法、窒素濃度評価用係数の決定方法、シリコンウエハ及びその製造方法、及び半導体装置の製造方法
【課題】 シリコン結晶中の不純物窒素濃度を高精度に測定することが可能な窒素濃度測定方法を提供する。
【解決手段】 NNO2複合体に対応する吸収ピークが消滅する条件で、シリコン結晶を準熱平衡状態に至るまで加熱する(第1の工程)。シリコン結晶の赤外線吸収スペクトルを測定し、吸収スペクトルから、NNペアに対応する第1の吸収ピークの強度及びNNO複合体に対応する第2の吸収ピークの強度を求める。第1の工程の加熱温度より高い温度で加熟し、シリコン結晶を準熱平衡状態に至らしめる(第2の工程)。シリコン結晶の赤外線吸収スペクトルを測定し、吸収スペクトルから、NNペアに対応する第3の吸収ピークの強度及びNNO複合体に対応する第4の吸収ピークの強度を求める。第1乃至第4の吸収ピークの強度に基づき、NNペア及びNNO複合体の密度を算出する。NNペア及びNNO複合体の密度に基づき、シリコン結晶中の窒素濃度を求める。
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