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Fターム[4M109DB17]の内容

半導体又は固体装置の封緘、被覆構造と材料 (27,768) | 構造 (1,232) | 封止構造(上記構造を除く) (561) | 素子(又はペレット)部 (194)

Fターム[4M109DB17]に分類される特許

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【課題】 光の輝度を高めつつ、かつ、部品数の削減を図ることが可能なLED光源装置を提供する。
【解決手段】 LED光源装置A1は、複数のLEDチップ40と、複数のLEDチップ40を支持する基板10および絶縁部材20を備えている。基板10は、z方向における一方側を向く主面11を有しており、基板10には、z方向における他方側へ凹む複数の凹部12が形成されており、複数のLEDチップ40のいずれかである第1のLEDチップ40が、上記複数の凹部12のいずれかである第1の凹部12に設置されている。LED光源装置A1は、絶縁部材20の主面21に設けられ、第1のLEDチップ40と導通する金属膜30と、第1のLEDチップ40を覆うように第1の凹部12に充填された第1の透光樹脂510とを備えている。 (もっと読む)


【課題】フィルム状である絶縁材料の強度を高くすることができるか又は絶縁層の強度を高くすることができ、更に絶縁材料の溶融粘度を低くして、接続構造体における導通性を良好にすることができる絶縁材料を提供する。
【解決手段】本発明に係る絶縁材料は、突出した複数の第1の電極2bを表面2aに有する第1の接続対象部材2において、複数の第1の電極2b上と複数の第1の電極2b間の隙間X上とに、複数の第1の電極2bを覆うように積層される絶縁層6Aを形成するために用いられる絶縁材料である。本発明に係る絶縁材料は、数平均分子量が10000以上、250000以下であるポリマーと、分子量が1000以上、10000未満である第1の硬化性化合物と、分子量が1000未満である第2の硬化性化合物と、熱硬化剤とを含む。 (もっと読む)


【課題】カメラによる突起状電極及び/又はアライメントマークのコントラスト像の認識を容易にし、高精度な接合を行うことのできる半導体チップ接合体の製造方法を提供する。
【解決手段】突起状電極、又は、突起状電極及びアライメントマークを有し、マトリックスとしての樹脂成分と樹脂成分に不溶な固体成分とを含有する封止樹脂層が前記突起状電極及び/又は前記アライメントマークを被覆するように設けられた半導体チップを準備する工程と、前記封止樹脂層に対して、600nm以上の波長を含む光を光軸が斜めになるように照射し、前記突起状電極及び/又は前記アライメントマークのコントラスト像をカメラにより認識させる工程と、被接合体としての基板又はその他の半導体チップに対して、前記半導体チップの位置調整を行う工程と、前記半導体チップの前記突起状電極と、前記基板又はその他の半導体チップの電極部とを接合するとともに、前記封止樹脂層を硬化させる工程とを有する半導体チップ接合体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】信頼性の高い電子装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】電子部品14a〜14cを埋め込む樹脂層18の一方の面側に、電子部品に電気的に接続されたバンプ42が形成され、樹脂層の他方の面側に、樹脂層より弾性率の高い部材44が密着した構造物2を形成する工程と、基板46上に形成された電極48とバンプとを接触させた状態で、部材を介して超音波振動を印加することにより、バンプと電極とを接合する工程とを有している。 (もっと読む)


【課題】本発明は、表面実装部品の2つの電極間のショートを防止して、表面実装部品を金属パターンにはんだ付けできる半導体装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明に係る半導体装置は、基板と、該基板の上に形成された第1金属パターンと、該基板の上に形成された第2金属パターンと、一端に第1電極が形成され他端に第2電極が形成された表面実装部品と、該第1電極と該第1金属パターンを固定する第1はんだと、該第2電極と該第2金属パターンを固定する第2はんだと、該表面実装部品を覆い、該表面実装部品を該第1電極の外側と該第2電極の外側から挟むように形成された溝を有するモールド樹脂と、を備えたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】センサチップの一端側をモールド樹脂で封止してモールド樹脂で片持ち支持するようにしたモールドパッケージの製造方法において、モールド樹脂による封止前におけるセンサチップのぐらつきを防止して、工程中のワークの取り扱い性に優れた製造方法を実現する。
【解決手段】センサチップ20の一端23側をモールド樹脂50で封止してモールド樹脂50で片持ち支持するようにしたモールドパッケージS1の製造方法においてリードフレーム30として、センサチップ20の他端24側を支持する支持部33を有するものを用意し、センサチップ20の他端23側を支持部33で受けて支持するようにし、支持部33による支持を維持した状態にてモールド樹脂50による封止を行った後に、リードフレーム30から支持部33をカットして、センサチップ20の他端24側から支持部33を除去する。 (もっと読む)


【課題】パッケージ内の層間剥離およびクラックの発生を抑制するために、コーティング膜の回路構成部品に対する接着強度を向上させる。
【解決手段】回路構成部品(20)を、モールド樹脂(40)で一体的に封止してなるパッケージの製造方法であって、回路構成部品(20)の表面のうち、モールド樹脂(40)と対向する部分の少なくとも一部に、モールド樹脂(40)との剥離を抑制するためのコーティング膜(30)を被覆形成するコーティング工程と、モールド樹脂(40)を成形して、コーティング膜(30)で被覆された回路構成部品(20)を一体的に封止するモールド工程と、を備え、コーディング工程では、コーティング膜(30)を形成するコーティング材料(31)を、回路構成部品(20)の表面に堆積させる前にプラズマ(33)に曝露させ、活性な状態で回路構成部品(20)の表面に堆積させる。 (もっと読む)


【課題】半導体素子の汚染と反りを抑制可能な圧接型半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体基板4と、半導体基板4の表面側に積層された第1エミッタ電極層51及び第2エミッタ電極層52と、半導体基板4の裏面側に積層された第1コレクタ電極層61及び第2コレクタ電極層62と、を有する半導体素子2を、一対の電極板3,3で加圧保持してなる圧接型半導体装置1であって、第1エミッタ電極層51及び第2エミッタ電極層52は、所定のパターン形状にそれぞれ形成され、第1コレクタ電極層61は、半導体基板4の裏面全体を被覆し、第2コレクタ電極層62の外周端部62aは、一対の電極板3,3による加圧方向Tに投影視して第2エミッタ電極層52の外周端部52aと略一致している。 (もっと読む)


【課題】発光ダイオードに対する封止性を向上させながら、色度のばらつきを低減することのできる封止シート、発光ダイオード装置およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】発光ダイオード11が実装される基板14に貼着され、発光ダイオード11を封止するための封止シート1であって、発光ダイオード11を下面から埋設するダイオード埋設領域20が区画される封止材層2と、封止材層2の上面に積層される第1蛍光体層4と、封止材層2の下面に、ダイオード埋設領域20と間隔を隔てて配置されるように、積層される第2蛍光体層5とを備える。 (もっと読む)


【課題】封止材の充填不良(ボイド)が抑制され、封止材の注入速度を速めることを可能な半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体装置1は、半導体チップ10に形成された電極をなす複数の外部端子11と、パッケージ基材20に形成された複数の引出配線21とが接合され、複数の外部端子11及び複数の引出配線21が封止材により封止されたものである。半導体チップ10においては、複数の外部端子11からなる外部端子列12が、外部端子列12の延びる方向に対して交差する方向に複数配列しており、かつ、複数の外部端子列12において、複数の外部端子11のうち2以上がチップ辺10Eに対して交差する方向に同軸配列している。 (もっと読む)


【課題】実装されたLEDチップの接続信頼性を高く保持することができるLEDパッケージの製造方法を提供する。
【解決手段】パッド部と、接続エリアとを有するリードフレームと、平面視においてパッド部および接続エリアを囲むリフレクター部を有し、リードフレームに取り付けられた樹脂部とを備えるリードフレーム基板に、LED素子が実装されたLEDパッケージの製造方法は、金属板30にエッチングによりパッド部11および接続エリア12を形成してリードフレーム10を形成するエッチング工程と、パッド部にLED素子3を搭載し、ワイヤー4を用いてLED素子と接続エリアとを電気的に接続する素子実装工程と、素子実装工程後に、リードフレームに対して樹脂部20を形成する樹脂部形成工程とを備えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】放熱性、応力緩和性、及び接合強度を両立することができる半導体装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】支持基材11と、接合材16により支持基材11に接合された半導体素子15と、が含まれている。接合材16には、支持基材11及び半導体素子15と接触する多孔質金属材16aと、多孔質金属材16aの空隙16bの少なくとも一部に充填されたはんだと、が含まれている。前記半導体装置等によれば、多孔質金属材16aにより良好な放熱性及び応力緩和性を得ることができ、はんだ16cにより良好な接合強度を得ることができる。 (もっと読む)


【課題】 工程数の増加を抑制しつつ、半導体ウエハが有する低誘電材料層のクラックを防止することが可能な半導体装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】 低誘電材料層が形成されているバンプ付きウエハに、支持基材と粘着剤層と熱硬化性樹脂層とがこの順で積層された保護層形成用フィルムを、熱硬化性樹脂層を貼り合わせ面にして貼り合わせる工程と、支持基材と粘着剤層とを、熱硬化性樹脂層から剥離する工程と、熱硬化性樹脂層を加熱して硬化させ、保護層を形成する工程と、バンプ付きウエハを保護層と共にダイシングする工程とを具備する半導体装置の製造方法。 (もっと読む)


【課題】製造が容易であり、高い透明性を維持するとともに半導体チップをボンディングする際にはボイドの発生を抑制しながら、貯蔵安定性及び熱安定性にも優れ、更に、耐熱性に優れた硬化物を得ることができる熱硬化性樹脂組成物、該熱硬化性樹脂組成物を含有するフリップチップ実装用接着剤、該フリップチップ実装用接着剤を用いる半導体装置の製造方法、及び、該半導体装置の製造方法を用いて製造される半導体装置を提供する。
【解決手段】エポキシ樹脂と、ビシクロ骨格を有する酸無水物と、常温で液状のイミダゾール硬化促進剤とを含有する熱硬化性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】SiOで作製された表面保護膜とポリシロキサンを主成分とする熱硬化性樹脂で作製されている被覆部との間に不均一な電荷分布が発生するのを回避して耐電圧性の低下を防止できる半導体装置を提供する。
【解決手段】この半導体装置は、SiC pn接合ダイオード10の表面を被覆すると共にSiOで作製された表面保護膜16の膜厚を2μmにすることによって、SiO表面保護膜16の静電容量を下げてSiO表面保護膜16とシリコン樹脂で作製された被覆部23との境界面に溜る電荷を低減できる。また、SiO表面保護膜16と被覆部23との境界面を高電界がかかる表面保護膜(SiO膜)16とワイドギャップ半導体(SiC等)との界面から離すことにより、表面保護膜(SiO膜)16と被覆部23との境界面の電界を低減できる。これにより、表面保護膜16と被覆部23との境界面での絶縁破壊を防止できる。 (もっと読む)


【課題】半導体装置内部で発生する熱を効率的に外部へ放熱する。
【解決手段】半導体装置1は、リードフレーム2に実装された半導体素子3、半導体素子3内に設けられた第1伝熱層4、第1伝熱層4に接続された第2伝熱層5、第2伝熱層5に接続された第3伝熱層6、及び樹脂層7を含む。樹脂層7は、半導体素子3、第1伝熱層4、第2伝熱層5を封止し、樹脂層7からは第3伝熱層6が表出する。半導体素子3で発生した熱は、第1伝熱層4、第2伝熱層5、第3伝熱層6へと効率的に伝熱され、樹脂層7から表出する第3伝熱層6から外部へと放熱される。 (もっと読む)


【課題】耐圧が数ボルトから数十ボルト程度のショットキダイオード等のガラス封止型のダイオードにおいては、半田の融点よりもずっと高い封止処理温度が適用されるため、通常、バンプ電極材料としては、銀等の比較的融点の高い金属材料が使用される。しかし、バンプ電極の厚さは、パッシベーション膜や表面電極膜の厚さと比較して、著しく厚いので、バンプ電極とチップ上面の連結部外周部、すなわち、バンプ電極内側外壁には、応力が集中しやすく、この応力により、パッシベーション膜にクラックが発生することがある。
【解決手段】本願発明は、ダイオード等のガラス封止型半導体装置の製造方法において、表面メタル電極の外周とバンプ電極の内側外壁の位置を相互に相違した位置に設定するものである。 (もっと読む)


【課題】耐リフロー性及び接続信頼性及び絶縁信頼性に優れる半導体装置の作製を可能とする接着剤組成物、その接着剤組成物を用いた半導体装置の製造方法及び半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体チップ及び配線回路基板のそれぞれの接続部が互いに電気的に接続された半導体装置、又は、複数の半導体チップのそれぞれの接続部が互いに電気的に接続された半導体装置において接続部を封止する接着剤組成物であって、エポキシ樹脂と、硬化剤と、アクリル系表面処理フィラーとを含有する接着剤組成物。 (もっと読む)


【課題】耐熱性、耐湿熱性、低吸水性、機械特性、電気特性に優れるとともに、応力を緩和した樹脂層を有する半導体装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の半導体装置10は、半導体素子が配された半導体領域12を一面11aに有する半導体基板11と、半導体領域12を少なくとも覆うように半導体基板11の一面11a側に配された保護層15とを備え、保護層15は第一の絶縁体層13と第二の絶縁体層14の積層体からなることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】半導体デバイスチップの3D積層化において、半導体デバイスチップ間のはんだバンプ等とランドの接合と同時に、熱伝導性の高い層間充填層を形成する層間充填材組成物、塗布液及び三次元集積回路の製造方法を提供する。
【解決手段】三次元集積回路用の層間充填材組成物が、120℃における溶融粘度が100Pa・s以下である樹脂(A)及びフラックス(B)を含有し、フラックス(B)の含有量が樹脂(A)100重量部当たり0.1重量部以上10重量部以下であるか、又は、120℃における溶融粘度が100Pa・s以下であって、熱伝導率が0.2W/mK以上である樹脂(A)と、熱伝導率が2W/mK以上、体積平均粒径が0.1μm以上5μm以下、かつ、最大体積粒径が10μm以下である無機フィラー(C)と、硬化剤(D)及び/またはフラックス(B)とを含有することを特徴とする。 (もっと読む)


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