【課題】オペレータのスキルによらず、荷電粒子線装置で取得された画像の回転を自動的に補正する。
【解決手段】測長対象であるパターン形状の特徴やパターン配列上の特徴に着目して試料の回転量を検出し、当該検出量に基づいて作業画面上で表示される取得画像の回転角を画像処理により自動的に補正する。または、測長対象であるパターン形状の特徴やパターン配列上の特徴に着目して試料の回転量を検出し、当該検出量に基づいて試料回転機構の回転角を自動的に補正し、その後、測長対象のパターンを再取得する。 （もっと読む）

【課題】試料を搭載するトップテーブルの微小振動を抑えて観察像の像質あるいは寸法測定値の精度を向上させることができる試料位置決め技術を提供する。
【解決手段】本発明に係る試料位置決め装置は、トップテーブルを停止させるアクティブブレーキ、アクティブブレーキを囲む内枠、内枠を囲む外枠、およびアクティブブレーキを駆動するアクチュエータを備える。アクチュエータは、アクティブブレーキを駆動してトップテーブルをステージに対して停止させた後、外枠を押圧してトップテーブルの位置を調整する。 （もっと読む）

【課題】ウェハ検査において異物や欠陥を見つけた場合に、これら異物等の発生原因を探求するための電子顕微鏡を用いたウェハエッジ観察に関する好適な方法を提供する。
【解決手段】半導体ウェハを保持する試料ステージ２４と、半導体ウェハに電子線を照射する電子光学系と、電子線の照射により得られる二次電子あるいは反射電子を検出する検出器１５，２３と、電子線の照射により半導体ウェハから発生するＸ線を検出する検出器３４，３５と、傾斜角度が可変のカラム１６とを備え、試料ステージ２４により、半導体ウェハのエッジの欠陥位置にカラム１６の撮像視野を移動し、カラム１６を傾斜させた状態で、半導体ウェハのエッジに電子線を照射する。 （もっと読む）

【課題】試料のチャージアップを考慮して試料表面電圧を制御することにより、精度の良い試料表面検査方法と装置を提供する。
【解決手段】電子銃１から出た一次電子をウエハＷに照射して得られる二次電子Ｂ２を、二次光学系３によって検出器４１上に写像投影する際に、一次電子の照射量に応じてウエハＷの電圧やリターディング電圧を変化させる。又、パターン検査時には、検出器４１の動作周波数に同期してステージを動かし、試料上の別のパターンに移動する際にはステージの速度を加速する。 （もっと読む）

【課題】直交に配置された２つの荷電粒子ビーム鏡筒を有する装置において、試料ステージ移動の操作性向上を図る。
【解決手段】集束イオンビーム鏡筒４と、それと直交する電子ビーム鏡筒５と、試料１１を移動させる試料ステージ２と、試料１１を観察する光学顕微鏡１４と、集束イオンビーム像及び電子ビーム像並びに光学顕微鏡像を表示可能な表示部９，１０と、各像の座標系に合わせて試料ステージ２を移動させるステージ制御部３と、を有する複合荷電粒子ビーム装置を用いる。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子ビームリソグラフィシステム、及びターゲットの荷電粒子ビーム露光のために最適化されたターゲット位置決め装置を使用する動作方法を提供する。
【解決手段】ターゲット３上に荷電粒子ビーム２を投影するための真空チャンバ５０に配置され、荷電粒子ビーム２を偏向方向に偏向させるための偏向手段を有する荷電粒子光学カラム４と、ターゲット３を保持するためのキャリア及び偏向方向とは異なる第１の方向に沿ってキャリアを保持し移動させるためのステージ５２を有するターゲット位置決め装置５と、を具備し、このターゲット位置決め装置５は、荷電粒子光学カラム４に対する第１の方向にステージ５２を移動させるための第１のアクチュエータ５３を有し、キャリアは、ステージ５２に移動可能に配置されており、ターゲット位置決め装置５は、第１の相対位置にステージ５２に対してキャリアを保持するための保持手段を有する。 （もっと読む）

【課題】冷媒により試料を冷却しながら、冷媒を散逸することなく、顕微鏡内で試料を３６０度自在に回転させることができる透過型電子顕微鏡用の試料冷却ホルダーを提供する。また、試料表面への霜の付着を抑制する試料冷却ホルダーを提供する。
【解決手段】本発明の透過型電子顕微鏡用の試料冷却ホルダーは、冷媒槽と、冷媒槽を貫通し、内壁が円筒状の空洞を有する冷却部と、冷却部の空洞内に、空洞の内壁との間に熱良導性材料層を挟んで移動自在に嵌合する熱伝導棒とを有する。また、この試料冷却ホルダーは、熱伝導棒を内部に収容するパイプ部を備え、熱伝導棒は、先端に、試料を装着する試料装着部を有する。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、試料ホルダーが有する固有振動を少しでも緩和するゴニオステージを提供することにある。
【解決手段】
本発明のゴニオステージは、試料ホルダーの固有振動を低減するための制振手段を有することを特徴とする。本発明のゴニオステージの好ましい実施態様において、前記制振手段が、コレット機構によるものであることを特徴とする。本発明のゴニオステージの好ましい実施態様において、前記コレット機構が、前記試料ホルダーの軸重心位置で前記試料ホルダーをクランプすることを特徴とする。また、本発明の電子顕微鏡は、本発明のゴニオステージを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】測長ＳＥＭのような半導体の検査や評価を目的にした装置に適用可能なステージ装置を小型化、軽量化すると同時に電子線への磁場の影響を低減する。
【解決手段】トップテーブル１０１の大きさと可動ストロークとから決まる最小寸法とほぼ同じ大きさのベース１０４上に、リニアモータのＸモータ固定子１１０ａ、１１０ｂ、Ｘモータ移動子１１１ａ、１１１ｂ、Ｙモータ固定子１１２ａ、１１２ｂ、およびモータ移動子１１３ａ、１１３ｂを、ステージ装置中央の電子ビーム照射位置から遠ざけるように４辺に配置する。Ｘモータ固定子１１０ａ及びＹモータ固定子１１２ｂは、コの字構造の開口部を装置の外側に向ける構成とする。また、可動のＸテーブル１０２とトップテーブル１０１、及びＸテーブル１０２とＹテーブル１０３の連結は、非磁性材料を用いたリニアガイド１０７、１０９もしくは非磁性材料を用いたローラ機構によって行う。 （もっと読む）

【課題】観察サンプルを載置する可動テーブルをウォーキング形ピエゾモータにより駆動するピエゾステージと、前記ピエゾステージの移動を制御するステージ制御装置を有するステージ装置において、ピエゾステージの周期的な速度変動を抑制して、観察者がサンプルの移動を行う際の操作性と位置決め精度を向上する。
【解決手段】ピエゾステージ１のウォーキング形ピエゾモータ１０２を駆動する指令電圧標準データ３０４と、前記ウォーキング形ピエゾモータ１０２の出力に一定速度を与える様に予め測定した指令電圧出力タイミング補正データ３０５と、少なくとも前記指令電圧標準データ３０４および前記指令電圧出力タイミング補正データ３０５から前記ウォーキング形ピエゾモータ１０２を駆動する指令電圧を生成する指令電圧生成部３０２を有するステージ装置３が提供される。 （もっと読む）

【課題】透過電子顕微鏡において、広い範囲の観察が可能な試料ホルダーを提供する。
【解決手段】透過電子顕微鏡１００は、試料支持部１０が設けられた軸部２０と、試料室における試料支持部１０の位置を変える第１試料支持部移動機構３０と、を含み、ステージ移動機構は、試料室における電子線の進行方向に対して交差する第１方向に試料支持部１０を移動させ、ステージ移動機構による試料支持部１０の第１方向の移動可能範囲は、第１距離であり、第１試料支持部移動機構３０は、試料支持部１０を、第１方向に、第１距離以下ずつ移動させ、第１試料支持部移動機構３０による試料支持部１０の第１方向の移動可能範囲は、第２距離であり、試料支持部１０は、試料室において電子線を通過させるための開口部１１を有し、開口部１１の第１方向の大きさは、第１距離と第２距離との和以上である。 （もっと読む）

【課題】走査型電子顕微鏡で表示された観察画面に設けられた仮想点を中心に試料を回転させるローテーションユーセントリック動作において、回転誤差を補正し、画面上の回転中心の位置変動を低減させるステージ装置を実現する。
【解決手段】試料もしくは試料ホルダもしくは回転テーブルに位置と方向が測定可能なマーカーを設け、所定の動作パターンに従ってステージの回転・並進移動を行いそのときのマーカーの位置と方向とを測定し、その結果から回転テーブルの回転中心を同定し、かつ、回転誤差を補正する回転角補正量と回転中心の位置変動を補正する並進補正量とを求め回転角に対する補正量テーブルを作成し、入力された回転角指令値もしくは実回転角に対応した補正量を補正量テーブルから取得して入力された回転・並進指令値もしくは検出された回転角・並進位置を補正してステージを制御する。 （もっと読む）

【課題】イオンビームを用いた断面観察試料の作製方法であって、きれいに鏡面研磨されたエッチング面（加工面）を、広い面積で形成できる方法、及びこの方法を行うための断面観察試料の作製装置を提供する。
【解決手段】被加工物の上部を遮蔽板で覆い、非遮蔽部をイオンビーム照射によりエッチングして鏡面研磨部を形成する断面観察試料の作製方法であって、前記被加工物を、イオンビーム照射方向に対して垂直な方向に、研磨速度以上の速度で移動させながら前記エッチングを行うことを特徴とする断面観察試料の作製方法、及び、試料台、試料台上に被加工物を固定する試料固定手段、遮蔽板固定手段、及び、イオンビーム照射手段、並びに、前記試料台をイオンビーム照射方向に対して垂直な方向に移動させるための試料移動手段を有することを特徴とする断面観察試料の作製装置。 （もっと読む）

【課題】従来の高真空型荷電粒子顕微鏡の構成を大きく変更することなく、被観察試料を大気雰囲気あるいはガス雰囲気で観察することが可能な荷電粒子線装置ないし荷電粒子顕微鏡を提供する。
【解決手段】真空雰囲気と大気雰囲気（ないしガス雰囲気）を仕切る薄膜を採用する構成の荷電粒子線装置において、上記薄膜を保持でき、かつ内部を大気雰囲気あるいはガス雰囲気に維持可能なアタッチメントを高真空型荷電粒子顕微鏡の真空試料室に挿入して使用する。当該アタッチメントは、上記真空試料室の真空隔壁に真空シールされて固定される。アタッチメント内部をヘリウムや窒素あるいは水蒸気といった大気ガスよりも質量の軽い軽元素ガスで置換することにより、更に画質が向上する。 （もっと読む）

【課題】複数の自由度を備える試料ステージにおける試料の交換を簡単な手順で迅速に行う。
【解決手段】試料設置装置は、試料室１７内に配置され、電子ビームの照射対象となる試料が載置される試料ステージ４０と、試料室１７に取り付けられ試料室の壁面に形成されたポート２１から試料ステージ４０に向け外部から試料を移送する試料移送装置８０と、を備えている。試料ステージ４０及び試料移送装置８０は、一体となってＹ方向への移動及び傾斜駆動される共に、試料ステージ４０は、Ｘ方向、Ｚ方向への移動及び水平回転駆動され、試料の設置、交換に際して、位置合わせを簡単にした。 （もっと読む）

【課題】基材支持の装置及び方法を開示する。
【解決手段】ステージミラーに対する基材チャックの変位を感知し、ステージミラーへ結合されているＺステージアクチュエータ及びＸＹステージアクチュエータのうちの一方又は両方を有する１つ以上のフィードバックループにおける変位に比例する信号を結合することによって、ステージミラーに対する基材チャックの運動が動的に補償される。これに代えて、基材支持装置は、Ｚステージプレート、ステージミラー、Ｚステージプレートへ取り付けられている１つ以上のアクチュエータ、及びステージミラーへ取り付けられている基材チャックを含み得る。基材チャックは基材チャックの６つの運動自由度に対する拘束を有する。アクチュエータはＺステージプレートがＺ方向に垂直な平面において走査されるとき、ＺステージをＺ方向へ運動させる。 （もっと読む）

【課題】試料のドリフトを抑制できる荷電粒子線装置の試料位置決め装置を提供する。
【解決手段】荷電粒子線装置の試料位置決め装置１００は、減圧状態に維持可能な試料室１と、試料室１に連通する孔１２を有する管状部材１０と、孔１２に移動可能に装着される試料ホルダー２０と、試料ホルダー２０に装着され、管状部材１０の内面に接するＯリング３０と、試料室１における試料ホルダー２０の位置を変える駆動機構６０と、を含み、試料ホルダー２０は、先端部が試料室１に配置される第１部分２２と、孔１２に配置される第２部分２４と、を有し、第１部分２２は、先端部に、試料Ｓを保持可能な試料保持部２３を有し、第２部分２４は、リニアガイドを介して、第１部分２２を移動可能に支持し、Ｏリング３０は、第２部分２４に装着され、駆動機構６０は、第１部分２２を移動させる。 （もっと読む）

【課題】マスクの進行方向からの位置ずれを抑制することのできるステージを備えた荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法を提供する。
【解決手段】ステージは、マスクＭの裏面を支持する３つのピンＰ１、Ｐ２、Ｐ３を有し、これら３つのピンＰ１、Ｐ２、Ｐ３は、マスクＭの重心を通りステージの進行方向と平行な直線に対して対称に配置されている。また、３つのピンＰ１、Ｐ２、Ｐ３のうち少なくとも鏡像関係にある２つのピンＰ１、Ｐ２を構成する材料の剛性は、設計上同じである。３つのピンＰ１、Ｐ２、Ｐ３は、マスクＭの周縁部を支持することが好ましい。ステージは、マスクＭに描画するパターンの密度に応じて可変速で連続移動することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】簡単で直感的な操作で試料を所望の姿勢及び位置に移動する。
【解決手段】走査電子顕微鏡１０の多軸ステージ４０を水平回転、傾斜、水平移動させるに際して、二次電子検出器２０の信号から得られるＳＥＭ像から指定用画像を作成して画像表示装置６１に表示しつつ、マウス６２で指定用画像を回転、傾斜、水平移動させる操作を行う。座標生成手段５２は現在の多軸ステージ４０の座標を操作後の指定用画像に基づいて変換し、多軸ステージ駆動制御手段５３は変換後の座標により多軸ステージ４０を駆動する。 （もっと読む）