【課題】エネルギー線照射システムにおいて、異なる寸法のワークに効率的にエネルギー線を照射できるコンパクトで低コストの搬送機構を実現する。
【解決手段】異なる寸法のワークＷ１、Ｗ２がそれぞれ搭載される第１、第２ワークホルダ３１ａ、３２ａと、各々のワークホルダを各々のワーク授受領域とエネルギー線照射領域ＡＲ１との間で進退移動させる進退機構３３と、互いに異なる位置に設けられた第１及び第２ワーク収容部２１ａ、２２ａと、第１のワーク授受領域にある第１ワークホルダ３１ａと第１ワーク収容部２１ａとの間でワークＷ１を搬送する第１搬送アームと、第２のワーク授受領域にある第２ワークホルダ３２ａと第２ワーク収容部２２ａとの間でワークを搬送する第２搬送アームとを設けた。 （もっと読む）

【課題】試料冷却温度とステージ停止位置精度を保ったまま、ステージ移動可能な範囲を広げることができる試料冷却装置を提供する。
【解決手段】真空に維持される試料室と、試料室内に配置される移動ステージと、移動ステージ上に熱的に遮断された状態で取り付けられた試料ホルダ固定台と、前記試料ホルダ固定台上に脱着可能に装着され、試料を保持するための試料ホルダと、移動ステージと周囲の試料室の側壁の間に設けられ、試料を冷却するための冷媒を収容する冷却槽と、前記冷却槽に収容された冷媒と前記試料ホルダ固定台との間で熱交換するための冷熱伝導体と、冷却槽に収容された冷媒を冷却する冷却装置とを備え、前記冷熱伝導体は、試料ホルダ固定台に固定された一端と、自由端である他端を有し、その自由端が冷却槽の開口部を介して冷媒内に浸漬され、前記移動ステージの移動と共に、自由端が冷媒に浸漬されつつ前記開口部内で移動されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】試料のチャージアップを考慮して試料表面電圧を制御することにより、精度の良い試料表面検査方法と装置を提供する。
【解決手段】電子銃１から出た一次電子をウエハＷに照射して得られる二次電子Ｂ２を、二次光学系３によって検出器４１上に写像投影する際に、一次電子の照射量に応じてウエハＷの電圧やリターディング電圧を変化させる。又、パターン検査時には、検出器４１の動作周波数に同期してステージを動かし、試料上の別のパターンに移動する際にはステージの速度を加速する。 （もっと読む）

【課題】
したがって、本発明の目的は、像への影響を低減する試料ホルダー先端部を提供することにある。
【解決手段】
【００７０】
本発明の試料ホルダー先端部は、試料と、前記試料を搭載する先端部とを有する試料ホルダー先端部であって、前記先端部の回転軸と、前記試料の回転軸とが略一致することを特徴とする。本発明の試料ホルダー先端部の製造方法は、試料を切りだす工程と、試料ホルダー先端部の試料搭載部分へ、前記切りだした試料を取り付ける工程と、前記試料搭載部分の回転軸に合わせて、前記試料を加工して、前記試料を回転軸を中心とした柱状にする工程とからなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】直交に配置された２つの荷電粒子ビーム鏡筒を有する装置において、試料ステージ移動の操作性向上を図る。
【解決手段】集束イオンビーム鏡筒４と、それと直交する電子ビーム鏡筒５と、試料１１を移動させる試料ステージ２と、試料１１を観察する光学顕微鏡１４と、集束イオンビーム像及び電子ビーム像並びに光学顕微鏡像を表示可能な表示部９，１０と、各像の座標系に合わせて試料ステージ２を移動させるステージ制御部３と、を有する複合荷電粒子ビーム装置を用いる。 （もっと読む）

【課題】環境制御型透過型電子顕微鏡（ETEM）において、活性雰囲気下でサンプルを評価研究する際に、発生するサンプルのドリフトが取得画像の解像度の制限因子とならないようにする。
【解決手段】ドリフトを避けるため、または抑制するため、サンプルを所望の温度で不活性ガスに暴露し、その後不活性ガスを活性ガスに置換する。光、X線、または走査型プローブ顕微鏡に適用できる。 （もっと読む）

【課題】超高真空化が不要で、試料表面の破壊を引き起こすことなく、試料表面のコンタミを安定して防止できる電子線を用いた顕微鏡あるいは分析装置用の試料加熱ホルダー、およびそれを用いた試料加熱方法を提供する。
【解決手段】発熱体として、正温度計数(PTC)サーミスタを備えることを特徴とする、観察・分析中のカーボンコンタミネーションの成長と熱ドリフトの抑制能力に優れた、電子線を用いた顕微鏡あるいは分析装置用の試料加熱ホルダー。 （もっと読む）

【課題】ナノツールの交換を、試料の環境変化を起こさずに、例えば真空の試料室を大気開放せずに試料室内で、短時間かつ高精度に自動化するためのナノエクスチェンジャーシステムを提供する。
【解決手段】ナノエクスチェンジャーシステムは、異なるナノツール２に対しても固定・リリースを可能とするナノツールアダプター３と、ナノツールアダプター３を単数もしくは複数の収容が可能なナノツールホルダー１と、ナノツール２を使用するために位置決めを行うナノツール取り付け機構４のいずれかもしくは全てを備えた方法及び装置である。 （もっと読む）

【課題】イオンビームを用いた断面観察試料の作製方法であって、きれいに鏡面研磨されたエッチング面（加工面）を、広い面積で形成できる方法、及びこの方法を行うための断面観察試料の作製装置を提供する。
【解決手段】被加工物の上部を遮蔽板で覆い、非遮蔽部をイオンビーム照射によりエッチングして鏡面研磨部を形成する断面観察試料の作製方法であって、前記被加工物を、イオンビーム照射方向に対して垂直な方向に、研磨速度以上の速度で移動させながら前記エッチングを行うことを特徴とする断面観察試料の作製方法、及び、試料台、試料台上に被加工物を固定する試料固定手段、遮蔽板固定手段、及び、イオンビーム照射手段、並びに、前記試料台をイオンビーム照射方向に対して垂直な方向に移動させるための試料移動手段を有することを特徴とする断面観察試料の作製装置。 （もっと読む）

【課題】 微小検体を基台に移す際、静電気による吸着力、原子間力または分子間力等に打ち克って確実に基台上に固定する。
【解決手段】 上面１１が親水性を有する基台１０上に、開口部３１を有する撥水膜３０を形成する。加熱冷却ステージ２０を冷却モードにして基台３０を冷却すると開口部３１内に水滴１１０が結露する。微小検体１１２を水滴１１０の近傍に移動すると、メニスカス力により微小検体１１２が水滴１１０に取り込まれる。この後は、加熱冷却ステージ２０を加熱モードに切り換え、水滴１１０を揮発させると、水滴１１０の凝集力により微小検体１１２が基台１上に固定される。 （もっと読む）

【課題】大量に保持体を形成できる試料保持体、同保持体を用いた試料観察・検査方法、及び、試料観察・検査装置を提供する。
【解決手段】開口１５０ｂが形成された本体部１５０ａと、開口１５０ｂを覆う試料保持膜１５０ｃとを備える試料保持体１５０を用い、支持手段３１１への接触により支持された状態で、試料保持体１５０の試料保持膜１５０ｃにおける開放された第１の面に保持された試料３１５に、試料保持膜１５０ｃにおいて真空雰囲気に接する第２の面側から、試料保持膜１５０ｃを介して、試料観察又は検査のための一次線３２０が照射可能である。 （もっと読む）

【課題】ｎＡレベルのきわめて小さい電流値の電子線を利用して反射電子像回析パターンを生成することができる反射高速電子回析装置を提供する。
【解決手段】反射高速電子回析装置１０は、真空チャンバーの内部に着脱可能に設置された蒸着源１４ａ〜１４ｃと、試料１１に形成された薄膜に向かって電子線２８を発射する電子銃１５と、薄膜の表面において反射した反射電子から生成される反射電子像回析パターンを映し出す蛍光スクリーン１８と、反射電子を電流増幅するマイクロチャンネルプレート１７ａ，１７ｂとを有する。反射高速電子回析装置１０では、ｎＡのレベルのエミッション電流値の電子線２８を電子銃１５から薄膜に向かって発射する。 （もっと読む）

【課題】高い装置操作スキルを必要とせず、試料、プローブや試料台等の加工対象物を加工することができる装置および方法を提供する。
【解決手段】先ず、イオンビームの走査信号と加工対象物の吸収電流に基づいて加工対象物の形状を求める形状生成処理を行い、次に、加工対象物の像に加工パターンを配置する加工パターン配置処理を行い、更に、イオンビーム照射による加工対象物の加工中に加工対象物の像と加工パターンの比較結果から、イオンビーム照射を停止するイオンビーム停止処理を行う。 （もっと読む）

【課題】既存の試料採取装置であっても試料を良好に採取するための試料採取方法を提供する。
【解決手段】誘電体棒１０と、誘電体棒１０の先端に形成される捕捉面１０ｂと、誘電体棒１０の後端側に設けられる露出領域と、誘電体棒１０のうち捕捉面１０ｂと露出領域の間の領域において、誘電体棒１０を覆う導電性被覆層１２と、を有するプローブ１のうちの露出領域を誘電体物により摩擦して誘電体棒１０を帯電し、プローブ１の捕捉面１０ｂにより試料８を吸着し、プローブ１の操作により試料８を試料ホルダ６に移送する処理を含む。 （もっと読む）

【課題】所定の材料を真空チャンバー内部の任意の箇所に正確に搬送する真空フィードスルーを提供する。
【解決手段】真空フィードスルー１０Ａは、パイプ１１とその内部空間に位置するシャフト１２とパイプ１１の外周面を長さ方向へスライド可能なマグネットスライダー１３とシャフト１２の後端部に取り付けたマグネットホルダーとを有し、パイプ１１の内部空間前端部に取り付けたシャフト１２を径方向中央に保持する固定ホルダーと、シャフト１２の後端部に取り付けたシャフトを径方向中央に保持する移動ホルダーとを含み、固定ホルダーは、シャフト１２の外周面をスライド可能に支持するスライドベアリングを備えた支持ハウジングを有し、移動ホルダーは、弾性変形可能なアームと、長さ方向へ回転可能なローラと、アームをパイプの内周面に向かって強制的に弾性変形させてローラをパイプの内周面に押し当てるテーパープラグとを有する。 （もっと読む）

【課題】試料交換回数を減らし装置の稼動率を向上することで、試料作製の経済性を向上したイオンビームエッチング装置を実現する。
【解決手段】試料テーブル１００は、試料１０４を取りつける受容機構１０６とマスク１０５及び、少なくとも１つの位置決めユニット１０１、１０２、１０３を備えている。試料１０４はマスク１０５に対して相対的に位置決め可能である。試料テーブル１００は、１つの試料１０４がイオンビームにさらされている間、残りの位置決めユニット１０１、１０２、１０３がイオンビームから回避される様に配置し、回転機構により試料１０４を順次エッチング加工する事ができる。 （もっと読む）

【課題】イオンビームの照射を受けて遮蔽板が高温度となって遮蔽板の支持部材に熱膨張が発生して遮蔽板が移動しても、良好な断面試料を作製する試料作製装置を提供する。
【解決手段】遮蔽板を試料の一部が露出しその他が遮蔽されるように配置し、遮蔽板と試料６の露出部分に跨るようにイオンビームを試料６に照射することにより、試料６の露出部分をエッチングして試料断面を作製する試料作製装置であって、遮蔽板ステージ９と、前記遮蔽板ステージ９により基端部を支持され、先端側が自由端となされた支持部材と、前記支持部材の先端側に支持された遮蔽板とを備え、前記支持部材は、前記遮蔽板の前記支持部材の基端側に向かう一側縁が前記イオンビームの照射位置となるように該遮蔽板を保持し、この遮蔽板により前記イオンビームが遮蔽される位置に設置された前記試料の該遮蔽板の一側縁から露出した箇所への前記イオンビームによる加工を行わせるようにした。 （もっと読む）

【課題】試料表面に膜を施すことなく試料表面の電荷を平衡に保ち安定した試料の加工および観察が可能な荷電粒子線装置を実現する。
【解決手段】マイクロプローブ１２に固定部５０１を介して固定された枠状の導電板１９を絶縁性試料７に接地（接触）させる。その状態で、導電板１９の枠内にイオンビーム１６を試料７に照射して、加工もしくは観察を行う。このとき、試料７上の電荷は、導電板１９及びマイクロプローブ１２を介して装置方向に移動するため、試料７の表面がチャージアップすることが防止される。加工、観察が終了したら、導電板１９を試料７上から離すため、マイクロプローブ１２を動かし、退避させる。 （もっと読む）