【課題】 描画に使用する荷電粒子線の強度を計測する精度の点で有利な描画装置を提供する。
【解決手段】 荷電粒子線のパルスで基板に描画を行う描画装置は、入射した荷電粒子線に応じた電流を出力する検出器と、入射した前記パルスに応じた前記検出器の出力電流で充電されるキャパシタを含み、前記キャパシタの電圧値を検出し、前記キャパシタの容量値および前記電圧値に基づいて前記検出器に入射した前記パルスの強度を求める処理部と、を有する。前記処理部は、抵抗を含み、入射した荷電粒子線に応じた前記検出器の出力電流を前記抵抗での電圧降下を介して検出し、該検出に基づいて決定された電流値を有する電流を前記キャパシタに供給して前記キャパシタの電圧値を検出し、該電圧値と前記キャパシタに供給された前記電流の前記電流値とに基づいて、前記容量値を求める。 （もっと読む）

【課題】パルスビームを高周波化できるとともに、パルスビームの最大値や最小値の値を任意にコントロールでき、品質の高い溶接を可能にする電子ビーム加工機を得ることである。
【解決手段】電子銃の陰極とバイアス電極間に電圧を印加して電子ビームを制御するバイアス電源が、直列に接続された、高安定電源と高応答電源とで形成されており、高安定電源が、ビーム電流を計測する電流検出回路から出力されたビーム電流信号に基づき、ビーム電流をフィートバック制御する電圧を出力し、高応答電源が、パルス信号発生器で発生したパルス基準信号により制御されたパルス電圧を出力するものである。 （もっと読む）

【課題】カソードの長寿命化を図ることが可能な電子銃の駆動方法と、この機能を備えた電子ビーム描画装置、さらには、カソードの長寿命化を図ることが可能な電子ビーム描画方法を提供する。
【解決手段】所定間隔毎に、電子ビームの電流密度を測定し、この値から得られる輝度が目標輝度のスペック内でない場合に、エミッション電流を調整して輝度がスペック内となるようにする。電子ビームの開き角の測定値が設定範囲内となるように調整してから、エミッション電流の調整を行うことが好ましい。 （もっと読む）

【課題】本発明はエミッタアレイを用いた電子プローブ装置に関し、プローブの径を保持したままでプローブ電流を増加させる電子プローブ装置を提供することを目的としている。
【解決手段】リング状に並べられたＦＥエミッタアレイ１と、該ＦＥエミッタアレイ１のビームを回折面に集束させるためのレンズ２と、回折面に配置された絞り３と、該絞り３の絞り面の縮小像を試料６に照射させるための光学系５とからなり、装置のプローブ径を保ったままでプローブ電流値を増大させるように構成される。 （もっと読む）

【課題】３枚の多孔板電極からなる引き出し電極を備えたイオンビーム発生装置において、第３電極を損傷することなく、第３電極に付着した付着膜を除去する技術を提供する。
【解決手段】第１電極７ａを正電位に、第２電極７ｂを負電位に、第３電極７ｃを接地電位にそれぞれ設定し、第３電極７ｃに流れる電流値を電流計９で測定しながら、該電流計９で測定された電流値が設定値を超えた場合には、フィードバック制御部１０によって第２電極７ｂに印加する電圧の絶対値を上げる。 （もっと読む）

【課題】粒子ビームのビーム電流の正確な調整を良好に行い、粒子ビームのモジュールとは無関係のビーム経路を限定する絞りユニットおよび絞りユニットを備える粒子ビーム装置を提案する。
【解決手段】粒子ビーム装置は、粒子を生成する粒子ビーム発生器（２）と、試料（１６）に粒子ビームを集束する対物レンズ（１０）と、第１コンデンサレンズ（６，６ａ，６ｂ，６ｃ）および第２コンデンサレンズ（７，７ａ，７ｂ，７ｃ）と、粒子ビーム発生器（２）と第１コンデンサレンズとの間に配置した第１絞りユニット（８）と、第１コンデンサレンズと第２コンデンサレンズとの間に配置した第２絞りユニット（９）とを備える。第１コンデンサレンズ（６）は、相互に無関係に第２絞りユニットに対して調整可能な第１極および第２極片（６ａ，６ｂ）を備え、第２絞りユニットは、第１圧力を有する真空の第１領域と、第２圧力を有する真空の第２領域とを相互に分離する圧力段階絞りである。 （もっと読む）

【課題】イオン源の条件を変えた場合でも、均一ビーム照射が可能なイオンミリング装置を提供することにある。
【解決手段】高周波イオン源から引き出されたイオンビーム９を基板１２に照射せしめることによりイオンビームによる基板の微細加工を行わせる。複数のファラデーカップ２０は、複数の試料基板１２を乗せた円板状試料ホルダ１１の半径方向に一列に並べて配置され、イオンビーム電流を測定する。電流積算器１６は、各ファラデーカップの電流値を時間的に積算する。高周波電源５は、高周波イオン源のコイルに高周波電力を供給するとともに、その高周波電力値が可変である。電力調整器１９は、複数のファラデーカップを２つの群の領域に分け、かつそれぞれの群の積算値の平均値の差に基づいて高周波電源からコイル４に供給する高周波電力を調整する。表示装置１７には、電流積算器により算出された電流積算値が表示される。 （もっと読む）

【課題】プローブ電流と対物開き角を独立に制御し、対物絞り径に応じて所望のプローブ電流量、対物開き角になる荷電粒子ビーム装置を提供する。
【解決手段】コンデンサレンズ4とコンデンサレンズ7の間に対物絞り6を有する構成とし、所望のプローブ電流量になるよう対物絞り6の径に応じて、第1のコンデンサレンズ設定部60の制御値を算出して設定し、所望の対物開き角になるよう対物絞り6の径とコンデンサレンズ設定部60の制御値に応じて、第2のコンデンサレンズ設定部62の制御値を算出し、算出した制御値を第2のコンデンサレンズ62に設定して、対物開き角43を制御する。 （もっと読む）

【課題】所望の電流密度を得るために最適なフィラメント電力を求めることが可能な荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法を提供する。
【解決手段】本発明の荷電粒子ビーム発生装置は、フィラメント電力によりカソード11を加熱することにより放出される電子を、バイアス電圧により集束し、加速電圧により加速することにより所定のエミッション電流の荷電粒子ビーム２０を照射する荷電粒子銃１０と、電流密度を測定するための検出器２２と、フィラメント電力およびエミッション電流を制御するための制御部１８と、バイアス飽和点における電流密度とエミッション電流との関係とフィラメント電力とエミッション電流との関係を記憶し、設定電流密度よりエミッション電流値とフィラメント電力値を算出するための記憶演算部１９を備える。 （もっと読む）

【課題】イオン注入装置において、帯状イオンビームの一部分を帯状イオンビームの面内で小さく曲げて電流密度分布を精度よく調整する。
【解決手段】イオン注入装置は、イオンビームの電流密度分布を調整するために、帯状イオンビームのビーム幅方向に沿って複数の単位レンズ要素を並べ、各単位レンズ要素が作る磁場又は電場を調整するレンズ要素４０と、計測した電流密度分布に応じてレンズ要素４０にて調整する単位レンズ要素の作る磁場又は電場の強度を設定する制御部８０と、を有する。レンズ要素４０の複数の単位レンズ要素のうち、調整しようとする位置に対応する単位レンズ要素が作る磁場又は電場の調整強度を、計測された電流密度分布から求めるとともに、前記単位レンズ要素に隣接する単位レンズ要素が作る磁場又は電場に対して、求められた調整強度に一定の比率を乗算して得られる値を磁場又は電場の調整強度として求める。 （もっと読む）

【課題】自動チップ形成を備える帯電粒子源を提供する。
【解決手段】帯電粒子デバイスは、エミッタチップ１３を含むエミッタユニットと、エミッタチップに安定な引出電界を生成するための定電圧を供給するように構成された電圧供給ユニット２２２と、安定引出電界に加えてパルス引出電界を生成するためのパルス電圧を供給するように構成されたパルス電圧供給部品２２４と、エミッタ特性を測定するための測定ユニット１４２、１４２’、１４２”と、測定ユニットから信号を受け取るように構成され、かつパルス電圧供給部品を制御するように構成された制御ユニット１３０とを含む。 （もっと読む）

【課題】本発明は、永久磁石により構成されるコンデンサレンズを使用した走査電子顕微鏡において、プローブ電流の大きさを可変できる走査電子顕微鏡を提供することを目的とする。
【解決手段】上記目的を解決するために、本発明の一実施態様は、コンデンサレンズが永久磁石により構成されている走査電子顕微鏡において、電子源とアノード電極との間の距離を可変可能とする機構を設けたことを特徴とする。さらに、電子源とアノード電極との間の距離を可変可能とする機構は、アノード電極の下部にスペーサを挿入可能な構成としたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は電子ビーム描画装置のビーム電流検出方法に関し、オンライン動作させながら、電子ビームの電流密度を測定することができるようにした電子ビーム描画装置のビーム電流測定方法を提供することを目的としている。
【解決手段】第１のスリットと第２のスリットを組み合わせることで、任意の形状の電子ビームを作り、その電子ビームを描画材料１２上に照射して所定のパターンを描画するようにした電子ビーム描画装置のビーム電流測定方法であって、第２のスリットを電子ビームが開口部を通過しないようにして、第２のスリットを流れる電流Ｉａを求め、次に第２のスリットの部分で電子ビームの一部が開口部を通過するようにして第２のスリットを流れる電流Ｉｂを求め、前記電流ＩａとＩｂの差分に基づいて材料面上の電流密度を測定するように構成する。 （もっと読む）

【課題】走査形電子顕微鏡において、低倍像では深い焦点深度を、高倍像では高分解能像を得るために集束レンズの結像位置を高速に、再現性良く変更する。
【解決手段】試料を保持する試料保持部と、電子線源と、電子線源から放出された電子線を収束するための集束レンズと、集束された電子線を試料上に微小スポットとして照射する対物レンズと、電子線を試料上に走査する走査コイルと、電子線照射によって試料から発生した試料信号を検出する検出器と、検出器にて検出された試料信号を画像として表示する表示部とを備え、集束レンズが発生する磁界中には軸対称の電極を設置して電圧を印加する構成とする。 （もっと読む）

【課題】 ＣＮＴカソードでの放電やＣＮＴ飛散による電子放出特性の劣化が少なく、長寿命で信頼性の高い電子線発生装置を提供する。
【解決手段】 放電や劣化の原因である引出し電極のない２極型構造とし、ウェネルトとカソード、アノード間の相対位置を変えることにより電子ビームの電流値およびビーム径を制御することができる。 （もっと読む）

【課題】大面積イオンビームにより大型の基板にイオン注入を行うことができ、イオンビームの均一性を制御可能であり、かつイオンビームによるスパッタの発生がなく、スパッタによる悪影響を防止することができるイオン注入装置を提供する。
【解決手段】内部にイオン源となるプラズマ１を発生させるプラズマ室１０と、プラズマ室に近接しプラズマからイオンビーム２を引き出す引出電極２０と、プラズマ室内に引出電極に対向して位置し引出電極によって引き出されたイオンビームのビーム軸と直交する断面形状を可変制御する可変スリット装置３０とを備える。 （もっと読む）

【課題】自動制御により短時間でイオンビームのビーム電流を均一化する。
【解決手段】複数のビーム電流計測器１６を、複数のグループに分ける。各フィラメント３に流す電流を任意量変化させ、そのときの各グループの電流値の変化量をそれぞれ求め、その各変化量に基づいて、各グループの電流値が設定値に近づくように各フィラメント３に流す電流を制御する。 （もっと読む）

【課題】
電子ビーム描画装置のスループット向上のために、複数の陰極を備えた電子銃を実現し、各電子ビームの調整方法を提供する。
【解決手段】
加速空間内に全ての電子ビームに作用する偏向器（４０８）と回転コイル（４０９）を設置する。加速空間外に各電子ビームに作用する偏向器（４１０）を設置する。加速空間外に放熱機構を有する電子ビーム遮断板（４１１）を設置する。各陰極を温度制限領域にて使用する。 （もっと読む）

【課題】 ビームモニタの各ビーム検出器に流入するビーム電流の波形を、少ない数の電流測定器を用いて短時間で精度良く測定する。
【解決手段】 ビームモニタ３０の各ビーム検出器３２を、スイッチＳをそれぞれ介して一つの電流測定器４０に接続しておく。そして、各ビーム検出器３２のビーム入射孔のＸ方向の幅をＷｆ、隣り合うビーム入射孔間のＸ方向の間隔をＷｓ、イオンビーム４のＸ方向のビーム幅をＷｂ、ビーム検出器３２の総数をｐとし、ｎを０≦ｎ≦（ｐ−２）の整数とすると、次式を満たすｎ個ずつ飛ばして複数のスイッチＳを同時にオン状態にしている状態で、ビームモニタ３０によってイオンビーム４を受けて電流測定器４０に流入するビーム電流の波形を測定する測定工程と、同時にオン状態にしているスイッチＳを前記条件の下で切り換える切換工程とを繰り返す。
Ｗｂ＜｛ｎ・Ｗｆ＋（ｎ＋１）Ｗｓ｝ （もっと読む）

【課題】 基板に対する注入位置での長手方向（Ｙ方向）のイオンビーム電流密度分布の均一性を向上させる。
【解決手段】 このイオン注入装置は、イオンビーム５０を発生するイオン源１００と、Ｙ方向に走査される電子ビーム１３８を放出してプラズマ１２４を生成する電子ビーム源Ｇｎと、それ用の電源１１４と、注入位置近傍におけるイオンビーム５０のＹ方向のビーム電流密度分布を測定するイオンビームモニタ８０と、制御装置９０とを備えている。制御装置９０は、モニタ８０からの測定データに基づいて電源１１４を制御することによって、モニタ８０で測定したビーム電流密度が大きいモニタ点に対応する位置での電子ビーム１３８の走査速度を大きくし、測定したビーム電流密度が小さいモニタ点に対応する位置での電子ビーム１３８の走査速度を小さくして、モニタ８０で測定されるＹ方向のビーム電流密度分布を均一化する機能を有している。 （もっと読む）