【課題】 より低い加速電圧により高いエミッション電流を出力することによって、蒸着材料の蒸発に必要な電力量を得ることができる蒸着用電子銃を実現する。
【解決手段】 電流が流れて加熱することにより熱電子を放出するフィラメント１０として、素材がタングステンであり、巻き数が10〜30ターン、線径が0.55〜0.8mmおよび巻き外径が３〜５mmであるものを用いる。フィラメント１０より放出された熱電子を集束して電子線束を生成する、電子線束の射出側の開口がテーパ状に形成され内部にフィラメント１０が配設される孔部２１を有するウェーネルト２０を用いる。ウェーネルト２０により生成された電子線束を加速する、グランド電位に保たれるアノード１２０を用いる。 （もっと読む）

【課題】処理対象に電子ビームを照射することによって、処理対象の洗浄や研磨、処理対象からの付着物の除去等を行う電子ビーム照射装置を提供する。
【解決手段】電子ビーム照射装置１は、負電圧を周期的に発生させる電圧生成器６と、電圧生成器６に接続され、表面が接地された処理対象２に対してインパルスである電子ビーム３を照射するカソード１と、カソード１と処理対象２とを収容可能であり、内部雰囲気を真空に保持可能である真空チャンバ５０とを備える。 （もっと読む）

【課題】電子源あるいはイオン源において、ろう材を使用せず、引き出し電極と絶縁碍子との接合位置精度を向上させた部品を作製し、放出される荷電粒子のアライメントエラーを小さくし、更に、ろう材を使用しないことからコスト面で有利な荷電粒子装置用部品を提供する。
【解決手段】金属製部品と絶縁性部品からなる複数の部品から構成される荷電粒子装置用部品において、金属製部品と絶縁性部品を結合する筒状の嵌合部を有し、該勘合部の外筒が金属であり内筒が絶縁物であって、室温における該外筒の内寸が該内筒の外寸より僅かに小さく、該嵌合部が外筒と内筒を焼き嵌めにより結合されたことを特徴とする前記の荷電粒子装置用部品。 （もっと読む）

【課題】照射対象物に均一に分布する電子ビームを照射することができる電子ビーム照射装置およびその方法を提供する。
【解決手段】本発明の電子ビーム照射装置は、電子を発生させる電子発生器２４を備え、電子発生器２４が電子を発生させる少なくとも１つの電子源３０を収容するハウジング２６を有し、電子源３０が所定の幅を有し、ハウジング２６が、電子源３０から距離をあけて配置された電子透過領域３２を有し、電子透過領域３２がハウジング２６に形成され、電子源３０の所定の幅を横断する横断方向に延在する一連の狭く細長いスロットおよびリブを含み、電子源３０によって発生される電子を電子源３０の所定の幅を横断する横断方向に拡散させるように、前記少なくとも１つの電子源に対して構成され、位置決めされている。 （もっと読む）

【課題】Langmuir limitを超える高輝度と高エミッタンスを同時に得る。
【解決手段】円形のカソード、引出し電極又はアノード、及びウエーネルト電極を有し、ウエーネルト電極は円錐台の側面の形状を少なくとも有し、その半径はカソード側で小さく、アノード側で大きく、上記円錐の半角をθｗとし、カソード半径Rcをμmとし、カソードと引出し電極又はアノード間距離をDac (mm)とした時、
75 ≦ Rc ≦ 250,
11 ≦ Dac ≦ 21及び
62 ≦θｗ ≦ 90
の範囲内の値にすると良い。 （もっと読む）

【課題】電子線の放出電流量を安定化するために、第１引出し電極に印加する電圧を制御しても、電子線の軌道の変動を抑えることができる電子線装置を提供する。
【解決手段】電子線装置は冷陰極型電界放出電子銃を有する。冷陰極型電界放出電子銃は、冷陰極と第１引出し電極と第２引出し電極とを有する。冷陰極と第１引出し電極の間の距離を、第１引出し電極と第２引出し電極の間の距離と比較して短く設定する。冷陰極から放出される電子線の電流量が減衰したとき、第１引出し電極に印加する電圧を増加する。 （もっと読む）

【課題】カソードおよびアノード間の異常放電の発生率を十分に低下させる。
【解決手段】熱電子を放出するカソード２２と、カソード２２から熱電子が放出されている状態においてカソード２２との間に印加されているグリッド電圧の電圧値に応じた量の電子を放出するグリッド２３と、カソード２２との間にアノード電圧が印加されて電子を加速させるアノード２４と、加速された電子を集束して電子ビームＥＢを生成する集束部２５とを備えた電子ビーム蒸着装置用の電子ビーム照射装置６であって、アノード２４は、カソード２２に対向配置されたフランジ部（鍔状部）２４ａと、熱電子を集束部２５に向けて案内する筒状部２４ｂとが一体形成されて構成されると共に、フランジ部２４ａにおけるカソード２２側の一面２４ｓの算術平均粗さＲａが２．０μｍ以上７．３μｍ以下の範囲内となるようにショットブラスト加工されている。 （もっと読む）

【課題】高分解能、高スループットのマルチビーム検査装置を実現するために、ラングミュア限界を越える高輝度、かつ高エミッタンスのビームを得る。
【解決手段】電子銃は平面のカソード、引出し電極又はアノード、及び円錐の一部の形状のウエーネルト電極を有し、電子銃電流Ie(mA)をカソード・アノード間距離Dac(mm)との関係により次の範囲とする。0.388/Dac-0.046≦Ie≦92.8/Dac+9.28、Dac≧3mm、あるいは、0.388/Dac-0.046≦Ie≦22/Dac+32.7、Dac＜3mm。又は、電子銃電流Ie(mA)をカソード半径との関係により数値限定（数式省略）する。輝度Ｂとカソード電流密度Ｊｃの関係は、シミュレーション値５７１（破線）と実測値５７２が比較的良く一致し、かつ輝度はラングミュア限界５７３を超えている。 （もっと読む）

【課題】本発明は、複数の光軸を有する電子光学系で高スループットにパターン形成或いは試料の評価を行う装置では、電子銃を高輝度にすることが困難であった。
【解決手段】パターン形成あるいは試料の評価を行う装置に用いられる電子銃に於いて、カソード、第１アノード、第２アノード、ウエーネルト電極を有し、ウエーネルト電極及び第１アノード電極を円錐台形状とし、光軸からウエーネルトの角度をθｗ、光軸から第１アノードまでの角度をθa とした時、
４０．１°＜θa＜９０°あるいは４８．６°＜θｗ＜１４９°
とすることにより図１２に示した様にLangmuir限界を超える輝度を得た。 （もっと読む）

【課題】高分解能、高スループットのマルチビーム検査装置を実現するために、ラングミュア限界を越える高輝度、かつ高エミッタンスの電子ビームを得る。
【解決手段】平面カソード、ウェーネルト、引き出し電極（又はアノード）を有する電子銃の後方に、レンズを設けてクロスオーバを形成することにより高輝度でエネルギー幅の小さい電子ビームを実現した。このビームを得るために、カソード電流Ieとカソード半径Rcは、単位をそれぞれmAとμｍとしたとき、シミュレーション結果に基づいて、0.5＋0.0098Rc＜Ie＜2.3＋0.026Rcとし、電子銃の輝度は前記レンズの強さを変えて調整する。輝度Ｂとカソード電流密度Ｊｃの関係を示すシミュレーション値５７１（破線）は実測値５７２と比較的良く一致し、かつ輝度はラングミュア限界５７３を超えている。 （もっと読む）

【課題】Langmuir limitを遙かに超える高輝度あるいは超高エミッタンスを得る
【解決手段】平面カソード、ウエーネルト、引き出し電極又はアノードとなる球面引き出し電極電子銃で、カソードとアノード間距離をDacとした時、電子銃電流をIe (mA)をつぎの範囲にする、
0.388/Dac -0.046 ≦ Ie ≦ 92.8/Dac + 9.28、 Dac ≧ 3 mm, あるいは
0.388/Dac - 0.046 ≦ Ie ≦22/Dac + 32.7、 Dac < 3 mm.
また、凹面形状カソード、引き出し電極又はアノードとなる球面引き出し電極電子銃で、カソード半径をRc(mm)とした時電子銃電流をIe (A)をつぎの範囲にする、
0.733Rc - 0.5 ≦ Ie ≦ 0.159Rc³ + 0.35. Rc ≦ 2.5 mm, あるいは

0.733Rc - 0.5 ≦ Ie ≦ 0.255Rc³ - 1.17. Rc > 2.5 mm. （もっと読む）

【課題】連続して多数の電子ビームパルスを発生することが可能なパルス電子ビーム発生装置およびこの装置を用いたパルス電子ビーム成膜装置を得る。
【解決手段】パルス状の電子ビームを発生するためのパルス電子ビーム発生部（８a）と、絶縁材料で構成された中空のチューブであって、パルス電子ビーム発生部（８a）に連結され、発生させた電子ビームをターゲット表面に案内するためのガイドチューブ（８ｂ）とを備えるパルス電子ビーム発生装置（８）において、ガイドチューブ側面の少なくとも一部を被覆する筒状構造物（８ｃ）を、ガイドチューブ（８ｂ）表面と空隙を設けて取り付ける。 （もっと読む）

【課題】高分解能、高スループットのマルチビーム検査装置を実現するために、ラングミュア限界を越える高輝度、かつ高エミッタンスのビームを得る。
【解決手段】電子銃は光陰極のカソード、平面の一部の形状の引出し電極又はアノード、及び円錐台形状のウエーネルト電極を有し、カソード電流Ieとカソード半径Rcの単位をそれぞれmAとμｍとしたとき、カソード電流をシミュレーション結果に基づいて、0.5＋0.0098Rc＜Ie＜2.4＋0.026Rcとする。輝度Ｂとカソード電流密度Ｊｃの関係は、シミュレーション値５７１（破線）と実測値５７２は比較的良く一致し、かつ輝度はラングミュア限界５７３を超えている。 （もっと読む）

【課題】Langmuir limitを遙かに超える高輝度あるいは超高エミッタンスを得る
【解決手段】平面カソード、ウエーネルト、引き出し電極又はアノードとなる球面引き出し電極電子銃で、カソードとアノード間距離をDacとした時、電子銃電流をIe (mA)をつぎの範囲にする、
0.388/Dac -0.046 ≦ Ie ≦ 92.8/Dac + 9.28 Dac ≧ 3 mm あるいは
0.388/Dac - 0.046 ≦ Ie ≦22/Dac + 32.7 Dac < 3 mm
また、凹面形状カソード、引き出し電極又はアノードとなる球面引き出し電極電子銃で、カソード半径をRc(mm)とした時電子銃電流をIe (A)をつぎの範囲にする、
0.733Rc - 0.5 ≦ Ie ≦ 0.159Rc³ + 0.35 Rc ≦ 2.5 mm あるいは
0.733Rc - 0.5 ≦ Ie ≦ 0.255Rc³ - 1.17 Rc > 2.5 mm （もっと読む）

【課題】平面カソード、ウエーネルト、引き出し電極又はアノードを有する平面引き出し電極電子銃で、Langmuir限界を越える高輝度、高エミッタンスのビームを得る。
【解決手段】円形平面のカソード１、球面の一部の形状を有する引出し電極又はアノード３、及び円錐台形状のウエーネルト電極２を有し、カソードの外周と引き出し電極位置で光軸と交わる仮想的な円錐と６７．５の角度差を有する仮想的な円錐台を想定し、その外側に、ウエーネルト電極を設ける。特に、カソード半径が１０μmＲ から９６０μmＲ では高輝度がシミュレーションで得られている。また、光陰極のカソードから放出させた電子線が、カソードから引き出し電極間はそのビーム径を単調に減少させ、引き出し電極の後方でクロスオーバを形成するよう制御するようにした電子銃では、高輝度で、エネルギー幅の小さいビームを利用することができる。 （もっと読む）

【課題】Langmuir limitを遙かに超える高輝度あるいは超高エミッタンスを得る
【解決手段】平面カソード、ウエーネルト、引き出し電極又はアノードとなる球面引き出し電極電子銃で、カソードとアノード間距離をDacとした時、電子銃電流をIe (mA)をつぎの範囲にする、
0.388/Dac 0.046 ≦ Ie ≦ 92.8/Dac + 9.28、 Dac ≧ 3 mm, あるいは
0.388/Dac 0.046 ≦ Ie ≦ 22/Dac + 32.7、 Dac < 3 mm.
また、凹面形状カソード、引き出し電極又はアノードとなる球面引き出し電極電子銃で、カソード半径をRc (mm)とした時電子銃電流をIe (A)をつぎの範囲にする、
0.733Rc 0.5 ≦ Ie ≦ 0.159Rc³ + 0.35. Rc ≦ 2.5 mm, あるいは
0.733Rc 0.5 ≦ Ie ≦ 0.255Rc³ 1.17. Rc > 2.5 mm. （もっと読む）

【課題】 反射電子による絶縁碍子のチャージアップを防ぎ、チャージアップが引き起こす微小放電を無くすることができる電子銃を提供する。
【解決手段】 カソード４に負の電圧をかけると、カソード４から飛び出した電子８が接地電位にあるアノード７との間の電圧によって加速され、アパーチャ６に衝突した電子８によって反射電子９が発生する。発生した反射電子９は、接地電位とされている低原子量部材１０に衝突し、さらに反射電子を発生させる。反射電子係数は、衝突する物体の原子量が小さいほど小さいので、低原子量部材１０との衝突を繰り返すことにより、急激に反射電子の数が減少し、結局、絶縁碍子２に到達する反射電子は極端に少なくなる。よって、絶縁碍子２が反射電子によりチャージアップするのが避けられ、微小放電の発生が防止される。これにより、従来問題となっていた、微小放電に起因する電子線の乱れを無くすることができる。 （もっと読む）

【課題】 電界で壊れやすい陰極を使用し、かつ高電界を加えて電子流を希望する速度まで加速する方法及び装置を開発すること。
【解決手段】 本発明は、電界により壊れやすい陰極を設置した、低電界電子放射部と、高電界を加えて電子流を高速度に加速する高電界電子流加速部とを、９０度から１８０度の位置関係に設置し、いくつかの電磁石を使用して、低電界電子放射部と高電界電子流加速部との間を、曲線的に連結することにより、高電界電子流加速部の電界の影響を、陰極の設置された低電界電子放射部に及ぼさないようにし、壊れやすい陰極を長時間の使用に耐えられる構造にした。 （もっと読む）

【課題】
ビーム幅を狭め、直線性を向上した装置の提供。
【解決手段】
スリット１０４が設けられた陽極電極１０３を備え、陽極電極の一側に対向配置される複数のディップ１０１を備え、陽極電極の他側に被加工物を配置し、被加工物には、前記複数のディップ１０１から放出されスリット１０４を通過した電子ビームが照射される。また電子の放出方向に磁場を印加する手段を備えてもよい。 （もっと読む）

ガスクラスタイオンビーム処理のためのシステム（３５０）と方法は改良ビームと対象物中和機器（１２２）を利用することで達成される。大きなＧＣＩＢ電流運搬はＧＣＩＢの空間荷電の低エネルギー電子中和によって提供される。電流が大きくなるほどＧＣＩＢのガス量は増大する。高ガス運搬量にも拘わらず通気型ファラデーカップビーム測定システム（３０２）はビーム量測定精度を維持する。
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