【課題】ビームを形成する目的に対して望ましい小さなエネルギー幅を得るために、荷電粒子ビーム・システム内でのプラズマとの容量結合を低減させる。
【解決手段】集束荷電粒子ビーム・システム用の誘導結合プラズマ源２００は、プラズマとの容量結合を低減させるため、プラズマ室１０２内に導電性シールド２０２を含む。この内部導電性シールドは、バイアス電極１０６またはプラズマ１０４によってプラズマ源と実質的に同じ電位に維持される。この内部シールドは、プラズマ室の外側においてより幅広いさまざまな冷却方法を使用することを可能にする。 （もっと読む）

【課題】高純度の多価イオンを取り出すことができるイオン源を提供する。
【解決手段】イオン源１０は、レーザ１３が照射されると電子と陽イオンに電離したプラズマ１４を生成するターゲット１２と、このターゲット１２の電位を陽イオンの出射目標（加速チャンネル１８）よりも高く設定する第１電源（第１電圧Ｅ₁）と、この陽イオンがターゲット１２から出射目標（加速チャンネル１８）に至る経路上（フィルタ電極１５）の電位をターゲット１２の電位よりも高く設定する第２電源（第２電圧Ｅ₂）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】例えば幅広ビーム源への使用に好適な、実用性に優れるラインプラズマ発生装置を提供する。
【解決手段】ラインプラズマ発生装置１０は、長手方向にマイクロ波を伝搬するための導波管１４と、長手方向に沿って配設され、導波管１４にプラズマを閉じ込めるための長手方向に交差する磁場を発生させるための磁石１６と、を備える。導波管１４は、側壁２４から管内に突き出して長手方向に延びるリッジ部２６を備え、リッジ部２６は側壁２４の外表面に長手方向に延びる凹部２８を形成してもよい。磁石１６は、凹部２８に配設されていてもよい。 （もっと読む）

【課題】プラズマ生成容器への防着板の取り付け、取り外しに係る作業効率を改善する。
【解決手段】プラズマ処理装置やイオンビーム照射装置で用いられるプラズマ生成容器４内に防着板２０を防着板支持部材１５により取り付ける。この防着板支持部材１５は、プラズマ生成容器４の内壁に少なくとも一部が当接する本体部と、本体部より延設された端部を有するとともに、プラズマ生成容器４に防着板支持部材１５を組み付けたとき、端部はプラズマ生成容器４の内壁より離間している。 （もっと読む）

【課題】集束イオン・ビーム・カラム用のプラズマ源内の処理ガスの迅速な変更または汚染の迅速な除去を可能にする方法および装置を提供すること。
【解決手段】開閉式ガス通路は、荷電粒子ビーム・システムの誘導結合プラズマ源内の処理ガスまたは焼出しガスの迅速な排出を提供する。一般に源電極またはガス入口の一部に配置された弁は、プラズマ室を排気するために開いているときにガスの導通を増大させ、プラズマ源の動作中は閉じる。 （もっと読む）

【課題】 イオン源の引出し電極系を構成する電極の広い領域に亘って高速で堆積物を除去することができるクリーニング方法を提供する。
【解決手段】 イオン源２のプラズマ生成部４にイオン化ガスを導入してイオンビームを引き出す代わりに、引出し電極系１０を構成する第１電極１１と第２電極１２との間にクリーニングガス４８を供給して、第１電極１１と第２電極１２との間のガス圧を、イオンビーム引き出し時のガス圧よりも高く保った状態で、第１電極１１と第２電極１２との間にグロー放電用電源６０から電圧を印加して、両電極１１、１２間にクリーニングガス４８のグロー放電８０を発生させる。 （もっと読む）

【課題】従来のイオン源に比べて、フィラメント（カソード）の断線が少なく、安定して、大型かつ大電流のイオンビームを生成する。
【解決手段】イオン源８は、スリット状開口部１１を有し、内部に突出した先端部がプラズマ３に接触しない位置に配置された少なくとも１つのカソード２を備えたプラズマ生成容器Ｕ１１〜Ｕ４２を複数備えている。さらに、スリット状開口部１１の長手方向に沿って各プラズマ生成用器内Ｕ１１〜Ｕ４２に磁場を発生させる磁場生成手段１２と、スリット状開口部１１を通して、断面形状が略長方形状のリボン状のイオンビーム１９を引き出す引出電極６とを備えている。そして、略長方形状断面の短手方向から見たとき、各プラズマ生成容器Ｕ１１〜Ｕ４２から引き出されたリボン状のイオンビーム１９の略長方形状断面の長手方向における一端部が互いに重なっている。 （もっと読む）

【課題】有機金属ガスを用いることなくガリウムイオンを含むイオンビームを発生させるとともに、被スパッタ面の面積を可及的に大きくすると同時に、被スパッタ部材の取り付け構造を簡単化するだけでなく、反射電極構造体をコンパクトにしつつ、陰極から射出される電子の反射効率を向上させる。
【解決手段】反射電極構造体４が、プラズマによりスパッタリングされて所定のイオンを放出するものであり、被スパッタ面４１Ａとその裏面とを貫通する貫通孔４１１を有する被スパッタ部材４１と、被スパッタ部材４１の貫通孔４１１に挿入されて被スパッタ部材４１を支持するとともに、貫通孔４１１を介して被スパッタ面側に露出した反射電極面４２Ｘを有する電極本体４２とを備えており、被スパッタ部材４１の材質が、酸化ガリウム、窒化ガリウム、リン化ガリウム、砒化ガリウム又はフッ化ガリウムである。 （もっと読む）

【課題】 イオン源において、加速器内部の真空を保ったまま真空容器内部のメンテナン
スをする。
【解決手段】 イオン源１は、開放または閉鎖できるメンテナンス開口部２とイオン取出
し口２ａ有する真空容器２、ターゲット２１をターゲット支持具６によって移動させるタ
ーゲット移動装置５と、ターゲット２１にレーザ光２２を照射するレーザ光源９と、イオ
ン導入口１１を有する加速器１１と、イオン取出し口２ａとイオン導入口１１ａとを接続
する連通管１２と、連通管１２を開放または閉鎖できるゲートバルブ１３とを備え、メン
テナンス開口部２ａを閉鎖し、連通管１２を開放し、さらに真空容器２および加速器１１
内を真空にした状態で、加速器１１は、イオン２３を連通管１２を介してイオン導入口部
１１ａから導入し加速する。 （もっと読む）

【課題】防着板への電子の衝突を低減し、プラズマの生成効率を向上させる。
【解決手段】イオン源１は、プラズマ生成容器４と、プラズマ生成容器４内に配置された少なくとも１つのフィラメント１０と、プラズマ生成容器４に対向配置され、当該プラズマ生成容器４よりイオンビーム３を引き出す少なくとも１つの電極５〜８と、プラズマ生成容器４の外側に設けられていて、当該プラズマ生成容器４の内側領域にカスプ磁場を形成する複数の永久磁石１２と、プラズマ生成容器４の内壁に沿って配置された防着板１３とを備える。そして、防着板１３には、プラズマ生成容器の壁面を介して永久磁石１２と対向する位置に凹部１４が形成されている。 （もっと読む）

【課題】本発明は、低加速電圧でのイオン電流の制御を容易にしつつ、カソードに付着するリデポジションによる影響を抑制することを目的とするイオンミリング装置の提供を目的とする。
【解決手段】上記目的を達成するための一態様として、イオンガンの内部に配置され、正電圧が印加されるアノードと、当該アノードとの間に電位差を発生させることによってイオンを発生させるカソードを備えたイオンミリング装置において、カソードは、前記ガス供給源によってガスが供給される空間と、前記イオンが照射される試料側の空間を分圧すると共に、前記イオンを通過させる開口を備え、当該開口を通過したイオンを試料に向かって加速させる加速電極を備えたイオンミリング装置を提案する。 （もっと読む）

【課題】重粒子線治療装置に必要な数の重粒子イオンを安定して生成することができる重粒子線治療用重粒子イオン発生装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る重粒子線治療用重粒子イオン発生装置は、レーザ光の照射によってプラズマを発生する物質と、物質を収納する容器と、レーザ光を発生するレーザ光源と、物質上に前記レーザ光の焦点が形成されるようにレーザ光を集光する集光手段と、物質から発生したプラズマから重粒子イオンをクーロン力によって引き出し、容器の外部に送り出す電極手段と、物質から発生するプラズマを観測し、物質に接する領域のプラズマ径からレーザ光の集光径を求める観測手段と、物質の位置または集光手段の位置を調節する位置調節手段と、観測手段で求めた集光径が所定の基準集光径となるように、位置調節手段による物質の位置調節を制御する制御部と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】質量分離機能を有さない簡易な装置構成で同一質量の水素イオンのみをドーピングするイオンドーピング装置を提供することを目的の一とする。また、そのイオンドーピング方法を提供することを目的の一とする。
【解決手段】誘電体板を外壁の一部とするプラズマ室に水素を導入し、マイクロ波により当該誘電体板に表面波を発生させると、水素の負イオンの生成されやすい領域ができる。当該負イオンは分子量１のものしか生成されないため、質量分離をせずとも、電界をかけることにより同一質量のイオンのみを対象物に添加できる。 （もっと読む）

【課題】高周波放電型のプラズマ発生装置において、ＰＦＧ電流の減少が少なく、長寿命化を図る。
【解決手段】プラズマ生成容器内で高周波放電によってガスを電離させてプラズマを生成して、電子放出孔を通してプラズマよりの電子を外部に放出する装置であって、プラズマ生成容器内に設けられていて高周波を放射するアンテナとアンテナ全体を覆うものであって絶縁物から成るアンテナカバーとを備えており、前記電子放出孔のあるプラズマ電極材質が導電性材料であるプラズマ発生装置において、プラズマ電極の表面にプラズマによるスパッタリングによって絶縁物がプラズマ電極のプラズマ側に堆積することを防止し、導通を確保する筒状の枠体領域に枠体の内側または内側と外側に厚みの異なる突起部がある枠カバーをもっていることを特徴とするプラズマ発生装置。 （もっと読む）

【課題】様々なイオン種を発生させることができ、イオンエネルギーが揃ったイオンを発生させることができるイオン源の実現。
【解決手段】イオン源は、図１のように、低インダクタンス内部アンテナ１０と、低インダクタンス内部アンテナ１０を内部に保持する誘電体容器１１と、誘電体容器１１および引き出し電極１３を内部に保持する真空容器１４と、によって構成されている。誘導結合プラズマは誘電体容器１１内部で生成されるため、金属に対する腐食性の高いガスのイオンも生成可能である。また、低インダクタンス内部アンテナ１０を用いているため、プラズマ電位の揺動を小さく抑えることができ、エネルギーの揃ったイオンを引き出すことができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、イオン源に関する。
【解決手段】本発明のイオン源は、真空容器と、電界放出電子源と、イオン電極と、を含む。前記イオン電極は、真空容器の一端に設置される。前記電界放出電子源は、真空容器に設置される。前記電界放出電子源は、絶縁基板、電子引き出し電極、二次電子放出層、陰極板及び電界放出ユニットを含む。前記電子引き出し電極及び二次電子放出層は、前記絶縁基板に配置され、前記陰極板は、前記電子引き出し電極と間隔をおいて絶縁的に配置され、前記陰極板の一部が前記二次電子放出層に対向する。前記陰極板は、一つの電子放出部を含む。前記電界放出ユニットは、前記陰極板の二次電子放出層に対向する表面に配置される。 （もっと読む）

【課題】誘導結合プラズマイオン源が高ｄｃ電圧にバイアスされた集束イオンビームシステムにおいて、イオン源内のプラズマに点火する方法を提供する。
【解決手段】バイアス電源９３０からの高ｄｃ電圧は、集束イオンビームカラムの近くでプラズマ点火装置９５０からの振動波形が結合（重畳）されて、プラズマ室９５４の一部を構成する源バイアス電極９０６に印加される。プラズマ点火装置９５０は論理回路９２４によって制御されるプラズマ点火装置電源９２５によって駆動される。電位の低いプラズマ点火装置９５０からの振動波形は、絶縁変圧器またはキャパシタ等を通して高ｄｃ電圧に結合（重畳）される。集束イオンビームカラムの近くにプラズマ点火装置９５０を取り付けることによって、高ｄｃ電圧を供給するケーブルの静電容量の影響が最小化される。 （もっと読む）

【課題】集束イオンビーム装置に用いられる誘導結合型プラズマイオン源において、プラズマ室を冷却する手段と方法、並びにプラズマ室と接地電位の間の異常放電を防止する手段と方法を提供する。
【解決手段】プラズマ室１０２の外壁１０６に沿って絶縁性液体１２６を流すことによってプラズマ室を冷却する。プラズマ源ガスは接地電位にあるタンク１５０からレギュレータ１５２、調整弁１５６、および流量制限器１５８を介してプラズマ室１０２に供給される。前記流量制限器を前記プラズマ室の近傍に設けて、プラズマ電位と接地電位との間の電圧が比較的ガス圧力の高いところに加わるようにすることによって、プラズマ室と接地電位の間の異常放電を防止する。 （もっと読む）