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Fターム[5C030DE09]の内容

電子源、イオン源 (2,387) | プラズマイオン源の細部 (483) | 電源、制御装置 (61)

Fターム[5C030DE09]に分類される特許

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【課題】FIB動作用のイオン・モードまたはSEM動作用の電子モードで動作するユーザが選択可能な構成を有する単一カラム誘導結合プラズマ源を提供すること。
【解決手段】X線検出器が装着されていれば、エネルギー分散型のX線分光分析が可能である。ユーザは、イオン・モードまたはFIBモードで試料を調製するようにICPを選択的に構成し、次いで電子モードまたはSEMモードを選択するスイッチを実際に動かし、EDSまたは他のタイプの分析を使用して試料を分析することができる。 (もっと読む)


【課題】 イオン源の引出し電極系を構成する電極の広い領域に亘って高速で堆積物を除去することができるクリーニング装置を提供する。
【解決手段】 引出し電極系10の相対向する二つの電極11、12間にクリーニングガス48を供給して当該電極間のガス圧をグロー放電を発生させるガス圧に保つクリーニングガス源42等の手段と、両電極11、12間に直流電圧を印加してグロー放電80を発生させるグロー放電電源60とを備えている。かつ、所定時間内の電極11、12間の異常放電の発生回数Nを測定する異常放電測定器84と、それで測定した異常放電の発生回数Nを用いてグロー放電電源60の出力電流Ig を所定幅ずつ増減させる制御を行う電源制御器86とを備えている。 (もっと読む)


【課題】複数のフィラメントを有するイオンガンにおいて、イオンビームの電流密度を均一にする。
【解決手段】カソードが長手方向に延在する複数のフィラメントからなり、グリッドが長手方向に延在するイオンビーム引出し孔を有するイオンガンにおいて、イオンビーム引出し孔の周辺に配置された複数の主磁石であって、各々がS極をイオンビーム出射方向に、N極をその逆方向に向けて配置された主磁石、複数の主磁石の端部に長手方向及び幅方向に関して対称配置された少なくとも4個の第1の補助磁石であって、各々がS極を長手方向内向きに、N極をその逆方向に向けて配置された第1の補助磁石、及び複数のフィラメント間の離隔部分に対応する位置に幅方向に対称配置された第2の補助磁石であって、各々がN極をイオンビーム出射方向に、S極をその逆方向に向けて配置された第2の補助磁石を備える構成とした。 (もっと読む)


【課題】重粒子線治療装置に必要な数の重粒子イオンを安定して生成することができる重粒子線治療用重粒子イオン発生装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る重粒子線治療用重粒子イオン発生装置は、レーザ光の照射によってプラズマを発生する物質と、物質を収納する容器と、レーザ光を発生するレーザ光源と、物質上に前記レーザ光の焦点が形成されるようにレーザ光を集光する集光手段と、物質から発生したプラズマから重粒子イオンをクーロン力によって引き出し、容器の外部に送り出す電極手段と、物質から発生するプラズマを観測し、物質に接する領域のプラズマ径からレーザ光の集光径を求める観測手段と、物質の位置または集光手段の位置を調節する位置調節手段と、観測手段で求めた集光径が所定の基準集光径となるように、位置調節手段による物質の位置調節を制御する制御部と、を備えたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】誘導結合プラズマイオン源が高dc電圧にバイアスされた集束イオンビームシステムにおいて、イオン源内のプラズマに点火する方法を提供する。
【解決手段】バイアス電源930からの高dc電圧は、集束イオンビームカラムの近くでプラズマ点火装置950からの振動波形が結合(重畳)されて、プラズマ室954の一部を構成する源バイアス電極906に印加される。プラズマ点火装置950は論理回路924によって制御されるプラズマ点火装置電源925によって駆動される。電位の低いプラズマ点火装置950からの振動波形は、絶縁変圧器またはキャパシタ等を通して高dc電圧に結合(重畳)される。集束イオンビームカラムの近くにプラズマ点火装置950を取り付けることによって、高dc電圧を供給するケーブルの静電容量の影響が最小化される。 (もっと読む)



【課題】ビーム引出開始時の加速電源の電圧低下を抑制し、質の高いビームを放出できるイオン粒子電源を提供する。
【解決手段】フィラメント電源2と、アーク電源3と、イオン源の壁1と電極6間に直流電圧を印加してイオン粒子を加速するための加速電源4とから構成する。加速電源4は、
商用交流電源に接続された交流スイッチ7と、交流スイッチ7の出力を整流して直流に変換する整流器9と、整流器9の出力を平滑して直流電圧を得るためのコンデンサ10と、
加速電源出力指令値を交流スイッチ7に与えてその出力電圧を制御するための制御手段20を備える。制御手段20は、直流電圧と電圧設定値との偏差に応じて加速電源出力基準を得る電圧制御手段22と、加速電源4とアーク電源3が共にオンしたとき、所定の関数を発生する関数発生器22とを有し、加速電源出力基準と関数発生器22の出力を加算して加速電源出力指令値を得る。 (もっと読む)


【課題】イオンビーム発生装置の第2電極と、第2電極と接続される電源との間に、並列接続してバイパス回路を設けることにより、電源の焼損を防ぐことができる。
【解決手段】イオンビーム発生装置は、プラズマ発生源5と、プラズマ発生源1により発生されたプラズマを閉じ込めるための放電槽10と、放電槽の前面に設けられた引出し電極20とを備え、該引出し電極20は、放電槽10側に設けられ、かつ正極直流電源7と接続するための第1電極2と、第1電極2の前面に設けられ、かつ負極直流電源8と接続するための第2電極3と、第2電極3の前面に設けられ、接地された第3電極4と、第2電極2と接続され、かつ該負極直流電源8と並列接続されたバイパス回路14とを備えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ターゲット表面に入射する正のイオン流による急速な帯電に起因するアーク放電を生じることなく、絶縁材料の堆積にも使用できるイオンビーム源を提供する。
【解決手段】非導電ターゲットとともに使用するイオンビーム源であって、イオンを抽出するグリッド1〜4と、このグリッドにパルス電力を供給する電源(直流電源16およびビーム制御装置17)とからなり、前記電源は、グリッド1電源〜グリッド3電源と、前記グリッドに対する電力の供給を接続および遮断するスイッチのセット19と、このスイッチを制御する電力スイッチング装置21と、スイッチの切替を行うためのパルス発生器20とを有する。 (もっと読む)


【課題】3枚の多孔板電極からなる引き出し電極を備えたイオンビーム発生装置において、第3電極を損傷することなく、第3電極に付着した付着膜を除去する技術を提供する。
【解決手段】第1電極7aを正電位に、第2電極7bを負電位に、第3電極7cを接地電位にそれぞれ設定し、第3電極7cに流れる電流値を電流計9で測定しながら、該電流計9で測定された電流値が設定値を超えた場合には、フィードバック制御部10によって第2電極7bに印加する電圧の絶対値を上げる。 (もっと読む)


プラズマ処理装置は、ワークピースに注入されるイオンを含むプラズマをプラズマチャンバ内に発生させるように構成されたプラズマ源を備える。本装置は、開孔構成を有する集束プレートも含み、該開孔構成は、該集束プレート近傍のプラズマのプラズマシースの形状を変更するように構成されている。本装置はさらに、ワークピースにおける集束イオンの静止時注入領域が開孔よりも実質的に狭くなるように集束プレートから離間されたワークピースを収容するプロセスチャンバも備える。本装置は、イオン注入中にワークピースを走査することによりワークピース内に複数のパターン化エリアを形成するように構成される。 (もっと読む)


【課題】誘導結合プラズマ・イオン源を使用した集束イオン・ビーム(FIB)システムにおいてミリングおよび画像化を実行する方法を提供すること。
【解決手段】本方法では、FIBシステムをミリング・モードで動作させるための最適化されたパラメータを表す第1のセットと、画像化モードで動作させるための最適化されたパラメータを表す第2のセットの2つのFIBシステム動作パラメータ・セットが利用される。これらの動作パラメータは、ICP源内のガス圧、ICP源へのRF電力およびイオン抽出電圧を含むことができ、いくつかの実施形態では、レンズ電圧およびビーム画定アパーチャ直径を含むFIBシステム・イオン・カラム内のさまざまなパラメータを含むことができる。最適化されたミリング・プロセスは、基板の表面から材料をバルク(低空間分解能)高速除去する最大ミリング速度を提供する。最適化された画像化プロセスは、ミリング中の基板領域の画像化を改善するため、最小化された材料除去およびより高い空間分解能を提供する。 (もっと読む)


【課題】新規なソース材料(特に、イオン注入プロセスにおいて新規なデカボランならびに水素化物およびダイマー含有化合物などの感熱性材料)を使用可能な、生産に値するイオンソースおよび方法を提供し、半導体ウェハの商業的なイオン注入において新規な範囲の性能を達成すること。
【解決手段】イオン注入システム用のイオン源(1)は、プロセスガスを生成する蒸発器(2)と、電子ビーム(32)を指向してイオン化封入物(16)内のプロセスガスをイオン化する電子源(12)と、ビームダンプ(11)と、イオン化チャンバ(5)と、イオンビームを取り出す抽出アパーチャ(37)とを含み、本発明の制御システムは、個々の蒸気またはガス分子が、主に該電子銃からの一次電子との衝突によってイオン化され得るように、該一次電子のエネルギーの制御を可能にする制御システムとを含む。 (もっと読む)


【課題】イオン化チャンバ内の電子ビーム通路に均一な磁場を生成する磁場装置を提供する。
【解決手段】電子衝撃イオン源用の磁場装置において、イオン化チャンバ内の電子ビーム通路に均一な磁束線119を生成させるために、一対の永久磁石510A、510Bにより生成された磁束が、磁気ヨークアセンブリ500を経て、電子ビーム通過用の一対の整列した開口530A、530Bを有する磁極片520A、520Bの間の間隙を通って戻るようにする。 (もっと読む)


本発明は、励磁面を備えた励磁電極を有する高周波電極装置と、抽出電極とに高周波電圧を印加し、電磁界によって生成されたプラズマからプラズマビームを抽出し、抽出電極と励磁面との間にプラズマ空間が設けられ、抽出電極に対してプラズマを時間平均して正のプラズマイオンを加速する高い電位となるようにし、プラズマと抽出されたプラズマビームを磁界によって制御している方法に関し、ここでは磁界を生成するために、少なくとも一つのN磁極とS磁極を用い、N磁極とS磁極をそれぞれプラズマとは反対側の励磁電極後方に配置し、プラズマ空間内方へ配向してプラズマ空間内方へ突出する湾曲した磁界を形成している。
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【課題】固体から昇華した蒸気流れを制御する新規システムを提供する。
【解決手段】昇華された蒸気50の定常流れを真空チャンバ130へ送達する蒸気送達システムは、固体物質29の気化器28、機械式スロットルバルブ100および圧力ゲージ60、真空チャンバへの蒸気導管32を備える。蒸気の流量は、その気化器の温度およびその気化器とその真空チャンバとの間に置かれる機械式スロットルバルブのコンダクタンスの設定の両方により決定される。気化器の温度は閉ループ制御35により設定点温度に決定される。機械式スロットルバルブは電気制御され、バルブの位置は圧力ゲージの出力に対する閉ループ120で制御される。蒸気の流量は圧力ゲージの出力に比例し得る。気化器から真空チャンバへの蒸気に曝露されるすべての表面37は、凝縮を防ぐために加熱される。ゲートバルブおよび回転式バタフライバルブが、上記スロットルバルブとして作用し得る。 (もっと読む)


【課題】固体から昇華した蒸気流れを制御する新規システムを提供する。
【解決手段】昇華された蒸気50の定常流れを真空チャンバ130へ送達する蒸気送達システムは、固体物質29の気化器28、機械式スロットルバルブ100および圧力ゲージ60、真空チャンバへの蒸気導管32を備える。蒸気の流量は、その気化器の温度およびその気化器とその真空チャンバとの間に置かれる機械式スロットルバルブのコンダクタンスの設定の両方により決定される。気化器の温度は閉ループ制御35により設定点温度に決定される。機械式スロットルバルブは電気制御され、バルブの位置は圧力ゲージの出力に対する閉ループで制御120される。蒸気の流量は圧力ゲージの出力に比例し得る。気化器から真空チャンバへの蒸気に曝露されるすべての表面37は、凝縮を防ぐために加熱される。ゲートバルブおよび回転式バタフライバルブが、上記スロットルバルブとして作用し得る。 (もっと読む)


【課題】新規なソース材料(特に、イオン注入プロセスにおいて新規なデカボラン(B1014)、ならびに水素化物およびダイマー含有化合物などの感熱性材料)を使用可能な、生産に値するイオンソースおよび方法を提供すること。
【解決手段】イオン注入システム用のイオン源(1)は、プロセスガスを生成する蒸発器(2)と、電子ビーム(32)を指向してイオン化封入物(16)内のプロセスガスをイオン化する電子源(12)と、ビームダンプ(11)と、イオン化チャンバ(5)と、イオンビームを取り出す抽出アパーチャ(37)とを含み、本発明の制御システムは、個々の蒸気またはガス分子が、主に該電子銃からの一次電子との衝突によってイオン化され得るように、該一次電子のエネルギーの制御を可能にする制御システムとを含む。 (もっと読む)


【課題】イオン源の条件を変えた場合でも、均一ビーム照射が可能なイオンミリング装置を提供することにある。
【解決手段】高周波イオン源から引き出されたイオンビーム9を基板12に照射せしめることによりイオンビームによる基板の微細加工を行わせる。複数のファラデーカップ20は、複数の試料基板12を乗せた円板状試料ホルダ11の半径方向に一列に並べて配置され、イオンビーム電流を測定する。電流積算器16は、各ファラデーカップの電流値を時間的に積算する。高周波電源5は、高周波イオン源のコイルに高周波電力を供給するとともに、その高周波電力値が可変である。電力調整器19は、複数のファラデーカップを2つの群の領域に分け、かつそれぞれの群の積算値の平均値の差に基づいて高周波電源からコイル4に供給する高周波電力を調整する。表示装置17には、電流積算器により算出された電流積算値が表示される。 (もっと読む)


【課題】ビーム電流のより大きな負イオンビームを出射する負イオン源、及び負イオン源の運転方法を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明は、プラズマ容器12と、熱電子を放出して原料ガスからプラズマを生成するフィラメント16と、プラズマ容器12の外周に沿って設けられてカスプ磁場を形成する複数の磁石M1と、プラズマから負イオンを外部に引き出して負イオンビームを生成する引出電極20と、プラズマ容器12の内部空間を放電空間S1と引出空間S2とに分割するような位置にフィルタ磁場MFを形成するフィルタ磁場形成手段M2とを備える負イオン源10を用い、出空間S2内に形成されたプラズマのプラズマポテンシャルVpが測定され、このプラズマポテンシャルVpの測定値に対して引出電極20の電位が同電位又は略同電位となるように引出電圧が調節されることを特徴とする。 (もっと読む)


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