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Fターム[5C030DE10]の内容

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Fターム[5C030DE10]に分類される特許

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【課題】 イオン源の引出し電極系を構成する電極の広い領域に亘って高速で堆積物を除去することができるクリーニング装置を提供する。
【解決手段】 引出し電極系10の相対向する二つの電極11、12間にクリーニングガス48を供給して当該電極間のガス圧をグロー放電を発生させるガス圧に保つクリーニングガス源42等の手段と、両電極11、12間に直流電圧を印加してグロー放電80を発生させるグロー放電電源60とを備えている。かつ、所定時間内の電極11、12間の異常放電の発生回数Nを測定する異常放電測定器84と、それで測定した異常放電の発生回数Nを用いてグロー放電電源60の出力電流Ig を所定幅ずつ増減させる制御を行う電源制御器86とを備えている。 (もっと読む)


【課題】ビームを形成する目的に対して望ましい小さなエネルギー幅を得るために、荷電粒子ビーム・システム内でのプラズマとの容量結合を低減させる。
【解決手段】集束荷電粒子ビーム・システム用の誘導結合プラズマ源200は、プラズマとの容量結合を低減させるため、プラズマ室102内に導電性シールド202を含む。この内部導電性シールドは、バイアス電極106またはプラズマ104によってプラズマ源と実質的に同じ電位に維持される。この内部シールドは、プラズマ室の外側においてより幅広いさまざまな冷却方法を使用することを可能にする。 (もっと読む)


【課題】マイクロ電子デバイスの製造に使用されるイオン注入装置の真空室やビームラインの構成部品からの残留物を洗浄する。
【解決手段】残留物を有効に除去するため、構成部品は、残留物を少なくとも部分的に除去するのに十分な時間の間かつ十分な条件下で、気相反応性のハロゲン化物組成物と接触させられる。気相反応性のハロゲン化物組成物は、残留物と選択的に反応し、一方で、真空室のイオン源領域の構成部品と反応しないように選択される。 (もっと読む)


【課題】高純度の多価イオンを取り出すことができるイオン源を提供する。
【解決手段】イオン源10は、レーザ13が照射されると電子と陽イオンに電離したプラズマ14を生成するターゲット12と、このターゲット12の電位を陽イオンの出射目標(加速チャンネル18)よりも高く設定する第1電源(第1電圧E1)と、この陽イオンがターゲット12から出射目標(加速チャンネル18)に至る経路上(フィルタ電極15)の電位をターゲット12の電位よりも高く設定する第2電源(第2電圧E2)と、を備える。 (もっと読む)


【課題】 電極板と冷却管との接合性が良く、冷却効率が高く、かつ耐食性に優れ、長寿命のイオン源用電極を提供する。
【解決手段】 イオンビームを引出すための複数のビーム引出し孔がそれぞれ形成された複数の薄板1,2が重ね合わせ接合された電極本体部4と、薄板とは異なる金属材料からなり、電極本体部を一方側の端部から他方側の端部まで貫通し、さらに電極本体部の両端からそれぞれ延び出す延長部分を有する複数の冷却管3a,3b,3cと、薄板とは異なる金属材料からなり、冷却管の延長部分が内部を貫通するように電極本体部の両側にそれぞれ取り付けられ、冷却管との間隙がそれぞれシール溶接され、熱間静水圧処理により薄板と冷却管とが接合されて一体化した一対の端板7とを有する。 (もっと読む)


【課題】 イオン源の引出し電極系を構成する電極の広い領域に亘って高速で堆積物を除去することができるクリーニング方法を提供する。
【解決手段】 イオン源2のプラズマ生成部4にイオン化ガスを導入してイオンビームを引き出す代わりに、引出し電極系10を構成する第1電極11と第2電極12との間にクリーニングガス48を供給して、第1電極11と第2電極12との間のガス圧を、イオンビーム引き出し時のガス圧よりも高く保った状態で、第1電極11と第2電極12との間にグロー放電用電源60から電圧を印加して、両電極11、12間にクリーニングガス48のグロー放電80を発生させる。 (もっと読む)


【課題】 イオン源において、加速器内部の真空を保ったまま真空容器内部のメンテナン
スをする。
【解決手段】 イオン源1は、開放または閉鎖できるメンテナンス開口部2とイオン取出
し口2a有する真空容器2、ターゲット21をターゲット支持具6によって移動させるタ
ーゲット移動装置5と、ターゲット21にレーザ光22を照射するレーザ光源9と、イオ
ン導入口11を有する加速器11と、イオン取出し口2aとイオン導入口11aとを接続
する連通管12と、連通管12を開放または閉鎖できるゲートバルブ13とを備え、メン
テナンス開口部2aを閉鎖し、連通管12を開放し、さらに真空容器2および加速器11
内を真空にした状態で、加速器11は、イオン23を連通管12を介してイオン導入口部
11aから導入し加速する。 (もっと読む)


【課題】荷電粒子ビーム発生装置の運転時に、開口部の形状が熱変形し難いスリット電極を提供する。
【解決手段】スリット電極20は、開口部22を有する電極枠体21と、長手方向において電極枠体21に対して移動可能に支持されているとともに、長手方向と略直交する方向に沿って開口部22に並設された複数本の電極棒23とを備え、電極枠体21には、少なくとも開口部22の外周領域の一部に電極枠体21に冷媒を流入する為の冷媒流入口RINと電極枠体21から冷媒を流出する為の冷媒流出口RОUTとを備えた冷媒流路Rが設けられている。 (もっと読む)


【課題】荷電粒子ビーム発生装置運転時の電極支持枠の熱膨張を抑え、開口部の形状が変形し難いスリット電極を提供する。
【解決手段】スリット電極は、開口部3を有する電極枠体2と、電極枠体2に着脱可能に取り付けられた複数の電極ユニットUから構成されており、前記複数の電極ユニットUの各々は、開口部3内に並設された複数本の電極棒5と、開口部3を挟んで各電極棒5の長手方向の端部を支持する一組の電極棒支持部材6とから構成される。 (もっと読む)


【課題】 不要なイオンの放出を抑制することができ、不要なイオンによる下流の線形加速器側の汚染を低減する。
【解決手段】 レーザ光の照射によりイオンを発生させるレーザ・イオン源であって、真空排気される容器10と、容器10内に配置され、レーザ光の照射により多価イオンを発生するターゲット21が収容された照射箱20と、照射箱20からイオンを静電的に引き出し、イオンビームとして容器10の外部に導くイオンビーム引き出し部12と、照射箱20から引き出されたイオンビームを静電力により収束する静電レンズ51と、静電レンズ51の下流側の位置に設けられ、該位置で収束されたイオンビームを通過させるアパーチャ52とを備えた。 (もっと読む)


【課題】レーザー駆動型の加速機構を用いて、指向性が高い高エネルギーのイオンビームを安定して得る。
【解決手段】レーザー光20は、レーザー光源から発せられ、クラスターガス30中で集光するような構成とされる。ノズル40は真空中に設置され、その先端部から真空中にガスが噴出できる構成とされる。このガスは、ヘリウムと2酸化炭素の混合ガスであり、これが真空中に噴出される際の断熱膨張による急激な温度低下によりクラスターガス30となる。クラスターガス30中においては、He原子31からなるガス中に、多数のCO分子が凝集してナノ粒子化したCOクラスター32が分散した形態となる。集光点を、クラスターガス30中の後方とすることが好ましい。高エネルギー電子生成のピークを越え、バブル構造が生成され、かつX線も発生している、手前側から見て開口の80〜100%の位置が最も好ましい。 (もっと読む)


【課題】イオンビーム源装置においてイオンビームの発散を抑制し効率を著しく向上させことができる電荷中和装置を提供する。
【解決手段】メッシュ構造、あるいは1個ないし多数の孔を持った電極を用いて、プラズマ源容器内のプラズマ源からイオンを引き出すイオンビーム源装置において、プラズマ源とは反対のビーム引き出し方向から、一様で制御された電子ビームを照射することにより、照射された電極面から二次電子を放出させて、電極孔から引き出されたイオンの空間電荷を中和して、イオンビームの発散を抑制することを特徴とする電荷中和装置。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、一体化されたエネルギーフィルタを備える荷電粒子フィルタに関する。
【解決手段】 使用されている大抵のフィルタは、曲率の大きな光軸を有するので、作製の困難な形状の部品を用いるが、本発明による荷電粒子源は、まっすぐな光軸を取り囲む電極を使用する。驚くべきことに、本願発明者は、電極の一部(114、116、120、122)が120°/60°/120°/60°で構成されているとすると、エネルギー選択スリット108にて相当なエネルギー分散を示す、光軸104からかなり離れた荷電粒子ビーム106aを、補正不可能なコマ収差又は非点収差を導入することなく、偏向させることが十分可能であることを発見した。前記電極は、セラミックスの接着又は真鍮により、互いに取り付けられて良い。かなり同心円のボアの列が、たとえば電界放電によって形成されて良い。 (もっと読む)


【課題】レーザ照射の際に発生する微粒子をイオン源容器内に閉じ込め、真空排気系やイオン源に接続される後段の装置へ微粒子が流出するのを抑制する。
【解決手段】レーザ光の照射によりイオンを発生させるレーザ・イオン源であって、真空排気される容器110と、容器110内に配置され、レーザ光の照射によりイオンを発生するターゲット121が収容された照射箱120と、照射箱120からイオンを静電的に引き出し、イオンビームとして容器110の外部に導くイオンビーム引き出し部112と、容器110のイオンビームの取り出し部に設けられ、イオンビーム射出時に開き、射出時以外は閉じるバルブ140と、バルブ140と照射箱120との間に設けられ、イオンビーム射出時に間欠的に開き、射出時以外は閉じるシャッタ150と、を具備した。 (もっと読む)


【課題】集束イオンビーム装置に用いられる誘導結合型プラズマイオン源において、プラズマ室を冷却する手段と方法、並びにプラズマ室と接地電位の間の異常放電を防止する手段と方法を提供する。
【解決手段】プラズマ室102の外壁106に沿って絶縁性液体126を流すことによってプラズマ室を冷却する。プラズマ源ガスは接地電位にあるタンク150からレギュレータ152、調整弁156、および流量制限器158を介してプラズマ室102に供給される。前記流量制限器を前記プラズマ室の近傍に設けて、プラズマ電位と接地電位との間の電圧が比較的ガス圧力の高いところに加わるようにすることによって、プラズマ室と接地電位の間の異常放電を防止する。 (もっと読む)


【課題】3枚の多孔板電極からなる引き出し電極を備えたイオンビーム発生装置において、第3電極を損傷することなく、第3電極に付着した付着膜を除去する技術を提供する。
【解決手段】第1電極7aを正電位に、第2電極7bを負電位に、第3電極7cを接地電位にそれぞれ設定し、第3電極7cに流れる電流値を電流計9で測定しながら、該電流計9で測定された電流値が設定値を超えた場合には、フィードバック制御部10によって第2電極7bに印加する電圧の絶対値を上げる。 (もっと読む)


ここに開示されたいくつかの技術は、分子ビーム部品から残留物を清浄することを促進する。例えば、典型的な方法では、分子ビームは、ビーム通路に沿って供給され、分子ビーム部品において残留物を増加させる。その残留物を減少させるために、分子ビーム部品は、フッ化炭化水素プラズマにさらされる。フッ化炭化水素プラズマへの接触は、第1の予め定められた条件が満たされたかどうかに基づいて終了し、第1の予め定められた条件は、残留物の除去の範囲を示している。他の方法およびシステムについても開示されている。
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例えば、B2F4またはその他のBF3の代替物といったホウ素ソース材料を使用して、アークチャンバ熱生成によるドーパントガスの加熱および分解を抑制するために、ドーパントガス供給ラインにおいてドーパントガスの冷却を提供する、イオン注入システムシステムおよび方法。イオン注入システムの効率的な動作を達成するために、多様なアークチャンバ熱管理構成が、プラズマ特性の変形、特定の流れ構成、洗浄プロセス、電力管理、平衡シフト、抽出光学系の最適化、流路における堆積の検出およびソース寿命最適化と共に記載される。 (もっと読む)


【課題】イオン注入装置において、ソースハウジング内に堆積したフッ素を含む析出物を除去する方法の一つとして、水素化合物ガスをイオン化し水素イオンを発生させ、フッ素と水素イオンとを反応させ、フッ酸蒸気として排気することが有効であるが、イオン源のカソードフィラメントが切れると、ガスをイオン化できない。
【解決手段】イオン発生装置内に、高周波電源と接続した対向電極を設けることで、カソードフィラメントが切れた場合でも、水素化合物ガスをイオン化することを可能とし、水素イオンを発生させることにより、真空中でソースハウジング内に堆積したフッ素化合物を還元し、その反応で発生したフッ素を含むガスを真空ポンプで排気する。 (もっと読む)


イオン注入装置において、イオン源の洗浄中に発生されるイオンビームをファラデーカップで検出する。検出されるイオンビームは、イオン源の洗浄プロセスがいつ完了するかを示す関連質量スペクトルを有する。質量スペクトルは洗浄剤とイオン源を構成する材料とからなる信号を生じる。この信号はイオン源チャネルが洗浄されるにつれて時間とともに上昇し、イオン源チャンバから堆積物がエッチ除去されてしまうと水平に一定になり、よってイオン源洗浄の終点を決定するために既存の注入ツールを利用することが可能になる。
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