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Fターム[5C033UU03]の内容

電子顕微鏡 (5,240) | SEM (1,679) | 試料室 (239)

Fターム[5C033UU03]に分類される特許

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【課題】欠陥周辺に圧痕マーキングを行う際、試料の膜種によらず、一定の条件で行うと、周囲が割れてマーキングや欠陥が見にくくなったり、マーキングが小さすぎて見にくくなるという問題があった。また、パターン付きウェーハではマーキングに適さない方の膜上にマーキングしてしまうという問題があった。
【解決手段】マーキング予定位置を元素分析し、その結果に基づいて、圧子の荷重、下降速度、深さ等の圧痕マーキングの条件を変えることにより、膜種に適したマーキングを行う。また、登録された膜種と断定できない場合、手動設定に切り替えることにより、間違えた条件でマーキングすることを防ぐ。マーキングに適さない材質の場合、マーキングを施さないようにすることもできる。 (もっと読む)


【課題】オペレータのスキルによらず、荷電粒子線装置で取得された画像の回転を自動的に補正する。
【解決手段】測長対象であるパターン形状の特徴やパターン配列上の特徴に着目して試料の回転量を検出し、当該検出量に基づいて作業画面上で表示される取得画像の回転角を画像処理により自動的に補正する。または、測長対象であるパターン形状の特徴やパターン配列上の特徴に着目して試料の回転量を検出し、当該検出量に基づいて試料回転機構の回転角を自動的に補正し、その後、測長対象のパターンを再取得する。 (もっと読む)


【課題】 半導体検査装置で大きさの異なる試料を検査する場合に、試料外縁付近を検査するときに試料近傍の等電位面の分布が乱れるため一次電子線が曲がってしまい、いわゆる位置ずれが発生する。
【解決手段】 試料の外側で且つ試料下面よりも低い位置に電位補正電極を設け、そこに試料よりも低い電位を印加する。また、検査位置と試料外縁との距離、試料の厚さ、および一次電子線の照射条件に応じて電位補正電極に印加する電圧を制御する。 (もっと読む)


【課題】電子線を走査して試料を観察するにあたって、高い分解能を有するとともに、電子線の走査に要する時間を短くできる試料観察装置を提供する。
【解決手段】ステージに載置された試料SMに電子線IBを照射して、試料SMからの電子線を検出することにより試料を観察する電子線検査装置に於いて、1つの電子筒体50は、試料SMに照射される複数の電子線IB及び試料SMからの電子線が通る電子線路を形成する複数の電子線照射検出系により構成される。ここで、複数の電子線照射検出系を同時に用いることで、検査の高速化を実現する。 (もっと読む)


【課題】
一次電子による帯電を抑制し、観察標体から明瞭なエッジコントラストを得て、試料の表面形状を高精度に計測する。
【解決手段】
試料上のイオン液体を含む液状媒体が薄膜状または網膜状である観察標体を用いる。また、この観察標体を用いる電子顕微法において、試料上のイオン液体を含む液状媒体の膜厚を計測する工程と、前記イオン液体を含む液状媒体の膜厚に基づき一次電子の照射条件を制御する工程と、前記一次電子の照射条件で一次電子を照射し前記試料の形態を画像化する工程と、を備える。 (もっと読む)


【課題】ステージ動特性はステージの移動可能範囲に対するステージの絶対位置によって変化する。このような特性が障害となってステージの高速かつ高精度な位置決めを実現することは困難であった。
【解決手段】試料が載置されるステージと、現在のステージ位置を計測する位置計測器と、前記位置計測器によって計測された現在のステージ位置と移動目標のステージ位置とを用いて演算することで前記ステージの駆動量を求めるステージ制御演算部と、前記ステージ制御演算部で求められた駆動量に基づいて前記ステージを駆動するステージ駆動部と、を備え、前記ステージ制御演算部は、前記ステージの移動可能な領域に対する前記ステージの位置に応じて前記演算に用いるパラメータを制御する。 (もっと読む)


【課題】ウェハ検査において異物や欠陥を見つけた場合に、これら異物等の発生原因を探求するための電子顕微鏡を用いたウェハエッジ観察に関する好適な方法を提供する。
【解決手段】半導体ウェハを保持する試料ステージ24と、半導体ウェハに電子線を照射する電子光学系と、電子線の照射により得られる二次電子あるいは反射電子を検出する検出器15,23と、電子線の照射により半導体ウェハから発生するX線を検出する検出器34,35と、傾斜角度が可変のカラム16とを備え、試料ステージ24により、半導体ウェハのエッジの欠陥位置にカラム16の撮像視野を移動し、カラム16を傾斜させた状態で、半導体ウェハのエッジに電子線を照射する。 (もっと読む)


【課題】使い勝手良く試料を荷電粒子技術及び光学技術にて的確に検査又は観察することが可能な検査装置、観察装置が提供される。
【解決手段】荷電粒子照射部から放出された一次荷電粒子線が試料に到達する間の少なくとも一部の領域となる真空状態に維持可能な第一空間の少なくとも一部を形成する第一の筐体と、該第一筐体に具備され前記試料を格納可能な第二空間の少なくとも一部を形成する第二筐体と、前記荷電粒子照射部から照射された一次荷電粒子線が試料上に照射する際の前記荷電粒子照射部の同軸上に配置され、前記第一空間と前記第二空間とを隔てる隔壁部と、前記試料に対し光を照射し、前記荷電粒子照射部と同方向から前記試料からの光を検出する光学式観察部と、を備える検査又は観察装置が提供される。 (もっと読む)


【課題】大気圧空間と減圧空間とを分離するための薄膜周辺部の構成最適化することによって、試料6を大気雰囲気あるいはガス雰囲気で観察することが可能な荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】第一の筐体7を排気する真空排気ポンプ4と、第一の筐体7内で、照射により得られる荷電粒子線を検出する検出器3と、少なくとも第一の筐体7若しくは第二の筐体8のいずれかの一部か、若しくは別体として構成され、第一の筐体7内と第二の筐体8内との間の少なくとも一部を隔てる薄膜13と、薄膜13に設けられ、荷電粒子照射部側の開口面積が試料6側の開口面積よりも大きい開口部10aと、開口部10aの試料6側を覆い、一次荷電粒子線及び荷電粒子線を透過あるいは通過させる薄膜13と、を備える荷電粒子線装置を提供する。 (もっと読む)


【課題】ウェハ検査において異物や欠陥を見つけた場合に、これら異物等の発生原因を探求するための電子顕微鏡を用いたウェハエッジ観察に関する好適な方法を提供する。
【解決手段】半導体ウェハWFを保持する試料ステージ24と、半導体ウェハに電子線を照射する電子光学系18〜22と、当該電子線の照射により得られる二次電子あるいは反射電子を検出する検出器15,23と、傾斜可能なカラム16とを備え、半導体ウェハのエッジ上におけるレシピあるいは位置情報に従って定まる位置に、試料ステージ24によってカラム8の撮像視野を移動し、半導体ウェハのエッジにカラム16を傾斜させた状態で電子線を照射して走査電子顕微鏡画像を撮像する。 (もっと読む)


【課題】直交に配置された2つの荷電粒子ビーム鏡筒を有する装置において、試料ステージ移動の操作性向上を図る。
【解決手段】集束イオンビーム鏡筒4と、それと直交する電子ビーム鏡筒5と、試料11を移動させる試料ステージ2と、試料11を観察する光学顕微鏡14と、集束イオンビーム像及び電子ビーム像並びに光学顕微鏡像を表示可能な表示部9,10と、各像の座標系に合わせて試料ステージ2を移動させるステージ制御部3と、を有する複合荷電粒子ビーム装置を用いる。 (もっと読む)


【課題】安全性(感電防止機構)を備えつつ操作性が考慮された高電圧印加試料ホルダーを装着可能な電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】本発明は、試料を装填する試料台に電圧を印加する機能を備えた試料ホルダーと、前記試料台に印加される電圧を供給する電圧源と、一端が前記試料ホルダーに接続される電圧ケーブルとを備え、更に、前記電圧ケーブルの他端が接続される中継器が、電子顕微鏡の鏡筒を支持する架台上に設置されたことを特徴としている。 (もっと読む)


【課題】試料の周囲を低真空に保持し、且つ、試料の周囲の構造が簡単な荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】荷電粒子線装置は、試料を支持する試料ステージと、荷電粒子線源からの荷電粒子線を試料に集束させる荷電粒子線光学系と、該荷電粒子線光学系を収納する荷電粒子線カラムと、前記荷電粒子線カラムに設けられた第1の差動排気用絞りと、該第1の差動排気用絞りを介して前記荷電粒子線カラムに接続するように配置された前試料室と、前記前試料室に設けられた第2の差動排気用絞りと、前記荷電粒子線カラムを真空排気する第1の真空ポンプと、前記前試料室を真空排気する第2の真空ポンプと、を有する。 (もっと読む)


【課題】電子顕微鏡において、試料観察領域への干渉磁界の影響を軽減する装置及び方法を提供する。
【解決手段】電子顕微鏡10の試料チャンバー20のチャンバー壁21に、X、Y、Zそれぞれの方向の磁界補償コイル41を収容する領域を設け、試料30やレンズアパーチャ18近傍の高感度領域に於ける外部の干渉磁界を磁気センサー42により計測して、それぞれの磁界補償コイル41の磁界を調整し補償する磁界補償用のシステム40を構成する。 (もっと読む)


【課題】従来の高真空型荷電粒子顕微鏡の構成を大きく変更することなく、被観察試料を大気雰囲気あるいはガス雰囲気で観察することが可能な荷電粒子線装置ないし荷電粒子顕微鏡を提供する。
【解決手段】真空雰囲気と大気雰囲気(ないしガス雰囲気)を仕切る薄膜を採用する構成の荷電粒子線装置において、上記薄膜を保持でき、かつ内部を大気雰囲気あるいはガス雰囲気に維持可能なアタッチメントを高真空型荷電粒子顕微鏡の真空試料室に挿入して使用する。当該アタッチメントは、上記真空試料室の真空隔壁に真空シールされて固定される。アタッチメント内部をヘリウムや窒素あるいは水蒸気といった大気ガスよりも質量の軽い軽元素ガスで置換することにより、更に画質が向上する。 (もっと読む)


【課題】粒子線又はエネルギー線等の照射精度が向上し、位置あわせも容易になる走査照射装置のステージ位置合わせ方法を提供すること。
【解決手段】ターゲットをステージに置くと共に、粒子線又はエネルギーを走査状に当該ターゲットに照射する走査照射装置のステージ位置合わせ方法であって、前記ステージの端に平行線を描き、前記位置合わせするもう片方にも同じ幅の平行線を描いておき、前記粒子線やエネルギー線を平行線状に照射してモアレ縞を出し、前記モアレ縞が一致することで前記位置あわせを行うことを特徴とする走査照射装置のステージ位置合わせ方法。 (もっと読む)


【課題】大型の試料であっても大気雰囲気あるいはガス雰囲気で観察することが可能な荷電粒子線装置ないし荷電粒子顕微鏡を提供する。
【解決手段】真空雰囲気と大気雰囲気(ないしガス雰囲気)を仕切る薄膜を採用する構成の荷電粒子線装置において、荷電粒子光学系を格納する荷電粒子光学鏡筒と、当該荷電粒子光学鏡筒から出射される一次荷電粒子線が前記薄膜まで到達するための経路を真空雰囲気に維持する筐体と、上記荷電粒子光学鏡筒と第1の筐体を装置設置面に対して支持する機構とを備え、当該支持機構として、大型試料を搬入するための開放口を有する筐体、あるいは支柱など筐体以外の形状の機構を採用する。 (もっと読む)


【課題】試料表面に膜を施すことなく試料表面の電荷を平衡に保ち安定した試料の加工および観察が可能な荷電粒子線装置を実現する。
【解決手段】マイクロプローブ12に固定部501を介して固定された枠状の導電板19を絶縁性試料7に接地(接触)させる。その状態で、導電板19の枠内にイオンビーム16を試料7に照射して、加工もしくは観察を行う。このとき、試料7上の電荷は、導電板19及びマイクロプローブ12を介して装置方向に移動するため、試料7の表面がチャージアップすることが防止される。加工、観察が終了したら、導電板19を試料7上から離すため、マイクロプローブ12を動かし、退避させる。 (もっと読む)


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