【課題】 Ｘ線元素分析を行う前段階においてＸ線分析に適した試料上の位置を評価・判別でき、分析者が高い信頼性を確保した分析を手戻り無く、短時間に行うことができる荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】 Ｘ線検出器を備えた荷電粒子線装置において、Ｘ線検出器１２（２５〜３０）のＸ線検出面と同軸上に第一の反射電子検出器１５がＸ線検出器１２と一体もしくは独立して配置され、Ｘ線検出器１２によりＸ線信号を、第一の反射電子検出器１５により反射電子信号を同時もしくは個別に検出する。 （もっと読む）

【課題】オペレータのスキルによらず、荷電粒子線装置で取得された画像の回転を自動的に補正する。
【解決手段】測長対象であるパターン形状の特徴やパターン配列上の特徴に着目して試料の回転量を検出し、当該検出量に基づいて作業画面上で表示される取得画像の回転角を画像処理により自動的に補正する。または、測長対象であるパターン形状の特徴やパターン配列上の特徴に着目して試料の回転量を検出し、当該検出量に基づいて試料回転機構の回転角を自動的に補正し、その後、測長対象のパターンを再取得する。 （もっと読む）

【課題】スキャン歪や荷電粒子線のランディング角度のばらつきに起因する測長値器差を低減し、荷電粒子線の絶対的な傾斜角度を高精度に測定する。
【解決手段】試料面上に形成されたピラミッドパターン９０のＳＥＭ画像の撮像する際に、スキャン方向及び／又は試料５の搭載向きを、正および逆向きに変えた像を取得し、それぞれの結果を画像間で平均化することにより荷電粒子線の傾斜角度を高精度に測定する。これによりスキャン歪の影響や荷電粒子線のランディング角度のばらつきに起因する測長値器差を低減する。 （もっと読む）

【課題】電子線を走査して試料を観察するにあたって、高い分解能を有するとともに、電子線の走査に要する時間を短くできる試料観察装置を提供する。
【解決手段】ステージに載置された試料ＳＭに電子線ＩＢを照射して、試料ＳＭからの電子線を検出することにより試料を観察する電子線検査装置に於いて、１つの電子筒体５０は、試料ＳＭに照射される複数の電子線ＩＢ及び試料ＳＭからの電子線が通る電子線路を形成する複数の電子線照射検出系により構成される。ここで、複数の電子線照射検出系を同時に用いることで、検査の高速化を実現する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ビーム走査によって得られる検出信号を積算して画像を形成する装置において、取得画像のＳ／Ｎの向上と、シュリンクの低減の両立の実現を目的とするものである。
【解決手段】上記目的を達成するために本発明によれば、画像データを積算して、画像を形成する荷電粒子線装置において、設定される走査線方向の大きさごとに、走査線方向とは垂直な方向に、異なる大きさであって、異なる走査線数を持つ複数の走査パターンによる走査が可能な偏向器と、１フレーム内にて、前記走査線方向とは垂直な方向の大きさに比例する数の走査線位置への走査によって得られる検出信号を１の走査位置の検出信号として、積算する演算装置を備えたことを特徴とする荷電粒子線装置を提案する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、上記課題に鑑み、広い領域で高精細な加工ピッチを実現し、広い領域を高精度に観察を行うことができる荷電粒子線装置及び加工・観察方法を提供することを目的とする。
【解決手段】偏向量の緻密な高精細スキャンと偏向量の大きなイメージシフトという２種類以上のＦＩＢ偏向制御を同期させ、従来よりも広い領域を高密度でスキャンする。また、ＦＩＢのイメージシフトを用いて加工された位置にＳＥＭのイメージシフトを追従させる。作製した一つの断面に対し複数枚のＳＥＭ像を取得し、それをつなぎ合わせることによって高精細な画像を作成する。本発明により、従来よりも広い領域を高精細スキャンで加工し、高精細な三次元構築用データを取得することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】任意の放出角度の反射電子を検出することのできる走査電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】試料からの電子を検出することによって像を得る走査電子顕微鏡において、試料１９からの二次電子と反射電子とを弁別する制御電極１８と、反射電子の衝突によって二次電子を発生させる二次電子変換電極１３とその二次電子を引き上げる電極１２と、引き上げられた二次電子と試料１９からの反射電子を弁別するエネルギーフィルタ１１と、二次電子変換電極１３と引き上げ電極１２とエネルギーフィルタ１１への印加電圧の組み合わせを選択する制御演算手段３６とを有する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、アスペクト比の大きなパターンの測定を実現することが可能な荷電粒子線装置の提供を目的とする。
【解決手段】上記目的を達成するための一態様として、荷電粒子源から放出された荷電粒子線を試料に走査することによって、当該試料から放出される荷電粒子の検出に基づいて、前記試料の画像を形成する荷電粒子線装置であって、前記試料の高さと、前記試料に対する予備帯電条件を関連付けて記憶する記憶媒体を備えた制御装置を備え、当該制御装置は、所望の試料高さの指定に基づいて、当該指定された試料高さに対応する予備帯電条件による予備帯電を実施する荷電粒子線装置を提案する。 （もっと読む）

【課題】半導体製造工程におけるプロセスマージン評価において、人手による作業負担を軽減すること。
【解決手段】ウェーハ上の観察対象の画像から得られた情報に基づいて前記観察対象の良否を自動的に判定し、判定結果を画面に表示するステップ４０２、観察対象の良否をユーザの指示に基づき修正することが必要な観察対象を判定結果の中から抽出して表示するステップ４０３、抽出して表示された観察対象に対する判定結果をユーザの指示に基づき修正する処理するステップ４０４を実行する。 （もっと読む）

【課題】ＦＩＢ鏡筒とＳＥＭ鏡筒を直角に構成した装置において、観察している試料の位置関係を作業者が把握しやすいＦＩＢ像とＳＥＭ像を表示すること。
【解決手段】ＦＩＢ鏡筒１と、ＦＩＢ鏡筒１と略直角に配置されたＳＥＭ鏡筒２と、試料４を載置する試料ステージ３と、試料４から発生する二次粒子を検出する二次電子検出器５と、検出信号からＦＩＢ像とＳＥＭ像を形成する観察像形成部１５と、ＦＩＢ像内の試料の左右の向きとＳＥＭ像内の試料の左右の向きが同じであるＦＩＢ像とＳＥＭ像を表示する表示部９と、を有する複合荷電粒子ビーム装置を用いる。 （もっと読む）

【課題】重い原子及び軽い原子を同時に観察可能な電子顕微鏡像を生成する画像処理の方法を提供する。
【解決手段】方法は、走査透過型電子顕微鏡により試料を撮像した暗視野像であって、走査透過型電子顕微鏡の光軸からの第１角度と、第１角度よりも大きい第２角度との間に散乱した電子を検出して得られた暗視野像を取得し、この暗視野像と共に撮像された明視野像であって、第１角度よりも小さい第３角度以内に散乱した電子を検出して得られた明視野像を取得し、暗視野像の明暗を反転して反転像を生成し、反転像の各画素の輝度と、反転像の各画素に対応する明視野像の画素の輝度との差を、各画素の輝度とする差分像を生成する。 （もっと読む）

【課題】 中心から外れた散乱関数を用いて、電子近接効果を補正する方法を提供する。
【解決手段】 本発明は、特に、直接または間接描画リソグラフィおよび電子顕微鏡検査において使用される、電子ビームを投射する方法を開示する。特に、５０ｎｍ未満の限界寸法または分解能では、ターゲットと相互作用しているビームにおける電子の前方および後方散乱によって生じる近接効果を補正しなければならない。このため、ターゲットの形状に関する点像分布関数の畳み込み積分が従来使用されている。従来技術では、前記点像分布関数はその中心がビームの中心にあり、ガウス関数または指数分布則を用いる。本発明によれば、点像分布関数の少なくとも１つの構成要素は、ビームの中心に位置しない最大値を有する。好ましくは、最大値は後方散乱ピークに位置する。有利には、点像分布関数はガンマ分布則を用いる。 （もっと読む）

【課題】 高アスペクト構造であっても、パターン底部の寸法を高精度に計測できる荷電粒子線装置及び計測方法を提供する。
【解決手段】 アスペクト比の高いパターンが形成された試料のパターン寸法底部を計測する方法において、試料の同一領域に荷電粒子線を第１方向及び第１方向とは逆の第２方向に走査させたときにそれぞれ発生する信号荷電粒子に基づく第１走査像と第２走査像とを比較し、走査像の信号強度が小さい方を真値とし、走査像を再構築し、再構築した走査像を用いて試料に形成されたパターン底部の寸法を計測する。また、その方法を実現する荷電粒子線装置。 （もっと読む）

【課題】本発明では、（ａ）走査（透過）電子顕微鏡において、０.１ｎｍ原子サイズ構造の３次元観察を可能とすること、（ｂ）走査（透過）電子顕微鏡において、試料中の原子の３次元構造と材料の特定を可能とすることを目的とする。
【解決手段】本発明は、０.１ｎｍ原子サイズ構造の３次元観察を可能とするために、球面収差係数が小さい電子レンズシステムを有し、照射角の変更が可能な絞り、電子線プローブのプローブサイズおよび照射角度を変更することが可能な照射電子レンズ系、二次電子検出器、透過電子検出器、前方散乱電子線検出器、フォーカス可変装置、画像のコントラストを識別する画像演算装置、画像鮮鋭度を演算する画像演算装置、画像の３次元構築を行う演算装置、二次電子信号と試料前方散乱電子信号を混合するミキサー、を有する走査透過電子顕微鏡。 （もっと読む）

【課題】試料の鮮明な画像を撮影することができる電子顕微鏡システム及びその制御方法を提供すること。
【解決手段】電子顕微鏡システムは、電子線を発生させる電子銃と、電子線を試料に照射するための光学系と、当該試料をセットするステージと、当該試料を観察するために、当該試料への電子線の照射を基に試料を撮影する撮影機構と、撮影機構が撮影した当該試料の画像を解析する解析機構と、当該試料と撮影機構との相対的位置を調節する位置調節機構と、を備える。位置調節機構は、解析機構の解析結果を基に、ステージ又は撮影機構の視野のうちの少なくとも一方を移動させる。 （もっと読む）

【課題】深さ方向に高アスペクト比を有するパターンの検査又は測定時に使用する予備帯電（プリドーズ）において、適切な照射条件の設定が、プリドーズ後に撮像された画像を目視するオペレータの判断に委ねられている。すなわち、照射条件の設定が属人的である。
【解決手段】予備帯電（プリドーズ）に使用する電子ビームの照射条件を変更しながら撮像された画像を画像分析し、分析結果に基づいて適切な照射条件を定量的に自動判定する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、エネルギーフィルタのエネルギー分解能を向上することを目的とする荷電粒子線装置の提供を目的とする。
【解決手段】上記目的を達成するための一態様として、試料から放出される荷電粒子をエネルギーフィルタに向かって偏向する偏向器を備えた荷電粒子線装置において、当該偏向器の複数の偏向条件ごとに、エネルギーフィルタへの印加電圧を変化させたときに得られる輝度値の変化を求め、当該輝度値の変化が所定の条件を満たす偏向条件を、前記偏向器の偏向条件として設定する荷電粒子線装置を提案する。 （もっと読む）

【課題】欠陥ファイルに登録された欠陥の位置情報を用いてファインアライメントを実行する機能を備えた観察装置において、ファインアライメント補正を正確なものとし、レビューのために要するユーザの工数を低減する。
【解決手段】レビュー装置が検出した欠陥のステージ位置から、そのステージ位置に近い欠陥候補を検査装置が提供する欠陥情報（欠陥種別，欠陥画像，欠陥サイズ）とともに一覧表示し、ファインアライメント補正に使用する欠陥を選択できるようにする。 （もっと読む）