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Fターム[5C034AA01]の内容

荷電粒子線装置 (3,257) | 粒子線装置 (143) | ビーム発生部、加速部 (37)

Fターム[5C034AA01]に分類される特許

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【課題】熱による厚み方向への変形を防止する引き出し電極を備えたイオンミリング装置を提供する。
【解決手段】加速電極20aに形成され加速電極20aの取り付け位置を位置決めする基準穴25aと、加速電極20aに形成され加速電極20aの取り付け位置を案内する案内穴26aと、電極取り付け板に立設された基準穴25aと係合する加速電極保持軸40と、電極取り付け板に立設された案内穴26aと係合する加速電極案内軸41と、基準穴25aおよび案内穴26aの周囲を加速電極20aの厚み方向に押圧する圧縮コイルバネと、を有し、案内穴26aは基準穴25aの中心と加速電極20aの中心を結ぶ直線上に設けられ、直線に沿って長穴形状に形成されている。 (もっと読む)


【課題】効率的にイオンミリング加工を行えるイオンミリング装置を提供する。
【解決手段】プラズマを生成するプラズマ生成室10と、プラズマ生成室10に連通する処理室40と、プラズマ生成室10から処理室40へイオンビームを引き出す複数の引き出し電極20,21,22と、複数の引き出し電極20,21,22から選択された一つの引き出し電極をプラズマ生成室10の開口部18に移動させるスライドテーブル30と、を備える。 (もっと読む)


【課題】本発明は、低加速電圧でのイオン電流の制御を容易にしつつ、カソードに付着するリデポジションによる影響を抑制することを目的とするイオンミリング装置の提供を目的とする。
【解決手段】上記目的を達成するための一態様として、イオンガンの内部に配置され、正電圧が印加されるアノードと、当該アノードとの間に電位差を発生させることによってイオンを発生させるカソードを備えたイオンミリング装置において、カソードは、前記ガス供給源によってガスが供給される空間と、前記イオンが照射される試料側の空間を分圧すると共に、前記イオンを通過させる開口を備え、当該開口を通過したイオンを試料に向かって加速させる加速電極を備えたイオンミリング装置を提案する。 (もっと読む)


【課題】
試料へのダメージが少なく加工効率に優れたイオンミリング装置、更には平面加工および断面加工にも柔軟に対応できる処理能力の高い装置を提供する。
【解決手段】
個別に制御可能な複数のイオン銃3を一つ試料室5に設け、このイオン銃3に対応して複数の試料1を試料ステージ8に設置する。複数のイオン銃3および試料ステージ8は制御装置9によって個別に制御可能であり、複数のイオン銃3を同時に作動させ、試料ステージ8をスイング又は傾斜・回転するすることで、複数の試料を同時に平面加工もしくは断面加工する。 (もっと読む)


【課題】加速イオンを用いた低温プラズマ浸漬イオンにより様々な試片を加工処理する装置と方法を提供する。
【解決手段】本発明によるプラズマ浸漬イオンを用いた加工装置は、チャンバ内部に円筒形加工物が載置されると共に円筒形加工物の周囲を低温プラズマが囲むようになり、多重スロットを有する抽出電極を含む加工物蓋が円筒形加工物の周囲を覆ってプラズマから分離させ、スパッタリングを誘発するに十分な負電位が円筒形加工物と加工物蓋の抽出電極に付加されることにより、プラズマから出てきたイオンが抽出電極とプラズマとの間に形成されたシース内で加速され、抽出電極のスロットを通過して円筒形加工物に衝突して円筒形加工物の表面粗さを減少させる方式で行われ、本発明による加工装置及び方法は、大面積の円筒形基板、特に、マイクロまたはナノパターン転写技術のための基板表面を数nmの表面粗さにする効果があり、単一または多重チャンバ内でプラズマ洗浄、表面活性、表面研磨、乾式エッチング、蒸着、プラズマ浸漬イオンの注入及び蒸着などの工程を行うことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 オペレータによる目視に基づく操作を行うことなく、自動的に、初期設定した大きさの断面の電子ビームを蒸発材料表面上に照射することが出来るようにする。
【解決手段】 蒸発材料3を収容した坩堝4と基板6が設けられたチャンバー1、及び、電子銃7、集束レンズ8、9、走査コイル11が設けられた鏡筒2を備えており、温度検出器18が取り付けられたアパーチャ10を集束レンズ8による電子ビーム集束位置の近傍に配置し、温度検出器18からのアパーチャ温度信号値を基準値と比較し、その差分を制御装置13に送る演算回路19を設け、制御装置13からの指令により集束レンズ8の集束作用をコントロールする様に成している。 (もっと読む)


【課題】ノズルが動くのを抑制し、安定した適切なサイズ分布のクラスターイオンビームを得、かつクラスターイオンビーム電流を多く取れるように真空中で調整可能にする。
【解決手段】クラスター生成室1とビーム制御室2との間に配置されるスキマー7をXYステージ10aにプレート8を介して搭載し、スキマー7の位置をマイクロメータ10b,10cで調整する。マイクロメータ10b,10cは、真空チャンバー40の外部に露出して配置されており、真空チャンバー40の真空度を保持した状態でマイクロメータ10b,10cを操作することができる。 (もっと読む)


【課題】イオン源の条件を変えた場合でも、均一ビーム照射が可能なイオンミリング装置を提供することにある。
【解決手段】高周波イオン源から引き出されたイオンビーム9を基板12に照射せしめることによりイオンビームによる基板の微細加工を行わせる。複数のファラデーカップ20は、複数の試料基板12を乗せた円板状試料ホルダ11の半径方向に一列に並べて配置され、イオンビーム電流を測定する。電流積算器16は、各ファラデーカップの電流値を時間的に積算する。高周波電源5は、高周波イオン源のコイルに高周波電力を供給するとともに、その高周波電力値が可変である。電力調整器19は、複数のファラデーカップを2つの群の領域に分け、かつそれぞれの群の積算値の平均値の差に基づいて高周波電源からコイル4に供給する高周波電力を調整する。表示装置17には、電流積算器により算出された電流積算値が表示される。 (もっと読む)


【課題】フィラメントの寿命が長く、メンテナンスに要する時間の短い、ランニングコストを低減できるイオン源を提供すること。
【解決手段】直流電源14によってフィラメント15のマイナス側接続部16およびプラス側接続部17間で電位差が生じ、イオン源10で発生したイオンの極性がアルゴンのようにプラスの場合、フィラメント15への衝突頻度が、マイナス側接続部16付近で高くなるが、マイナス側接続部16付近に保護部150が設けられているので、フィラメント15へのイオンの衝突による損傷を防ぐことができる。したがって、フィラメント15の断線までの時間を長くでき、メンテナンスの回数を少なくでき、ランニングコストを低減できる。 (もっと読む)


気体混合物中の複数のプロセス気体から形成されるガス・クラスター・イオン・ビームを制御する方法および装置。本方法および装置は、気体分析器(308、360、414、502、552)で気体混合物の組成に関係する気体分析データを測定し、検出されたパラメータに応じて作業対象物(152)の照射を修正することに関わる。気体分析データは、気体ソース(230、232)からガス・クラスター・イオン・ビーム装置(300、350、400、500、550)に流れる気体混合物の組成のサンプルから、あるいはガス・クラスター・イオン・ビーム装置(300、350、400、500、550)の真空容器(102)内の残留気体のサンプルから導出できる。

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【課題】長期間に亘って安定して動作するパルス電子ビーム発生装置およびこの装置を用いたパルス電子ビーム成膜装置を得る。
【解決手段】パルス状の電子ビームを発生するためのパルス電子ビーム発生部(8a)と、絶縁材料で構成された中空のチューブであって、パルス電子ビーム発生部(8a)に連結され、発生させた電子ビームをターゲット表面に案内するためのガイドチューブ(8b)とを備えるパルス電子ビーム発生装置(8)において、ガイドチューブ(8b)の側面に、その長手方向と交差する方向に高さを有する絶縁材料のフィン(8c)を、ガイドチューブ側面をほぼ一周するように設ける。 (もっと読む)


【課題】 十分なビーム強度が得られる多価イオン源を提供すると共に、その多価イオンビームを制御し、照射位置を制御して、効率よく精確に照射することができる多価イオンビーム照射方法及び装置を提供すること。
【解決手段】 多価イオンを発生させる多価イオン源と、その多価イオン源から導出された多価イオンビームを試料に向けて誘導するビームガイドと、試料を保持する試料保持部とを少なくとも備える多価イオンビーム照射装置において、試料に対向するビームガイド端部と試料保持部とを、支持すると共に並進移動させて位置調整する基盤ステージと、試料保持部に対してビームガイド端部を相対的に、2次元で並進移動させて位置調整するXYステージと、試料保持部のみを独立に、XYステージの移動方向と略垂直なZ方向へ並進移動させて位置調整するZ並進移動機構とを有する照射位置制御部を設ける。 (もっと読む)


荷電粒子ビームを生成する装置であって、ドア(106)を有するイオン源プラズマチャンバ(104)と、前記イオン源プラズマチャンバから離れた、前記ドアの表面に取り付けられた加速器(102)とを備えている装置。
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可動マウント(112、114)に取り付けられた少なくとも1つの電極(102、104、106)を備える、イオンビーム加速装置(100)。
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【課題】金属皮膜の付着を低減して、イオン源性能の低下を減少できる高周波イオン源を提供することにある。
【解決手段】高周波イオン源は、石英円筒管4の外周に配置され、高周波電流が流されるコイル3と、石英円筒室にガスを流すことにより生成されたプラズマからイオンビームを引き出す多孔型引出電極2とを有する。石英円筒管4の内面に近接して第2の石英円筒管13が配置される。第2の石英円筒管13は、石英製の短冊状部材13Cが周方向に間隔をおいて配列されることにより、軸方向に長いスリット13Dが周方向に複数個形成されている。 (もっと読む)


【課題】放電管の内部表面でのプラズマ損失を低減できるプラズマ源,それを用いた高周波イオン源,負イオン源,イオンビーム処理装置,核融合用中性粒子ビーム入射装置を提供することにある。
【解決手段】絶縁物で構成された放電管5と、放電管5の周囲に配置されたコイル3とを有する。コイル3に高周波を印加することで、放電管5の内部にプラズマを生成する。導体であるファラデーシールド4は、放電管5とコイル3の間に設置されるとともに、複数のスリット4Sを有する。複数の永久磁石6は、複数のスリットの間であって、ファラデーシールド4の外側に設置され、放電管5の内部に多極磁場Bを生成する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、イオン銃と試料間の距離が大きくすることなく、安価なイオンミリング装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、試料にイオンビームを照射するイオンビーム源と、前記イオンビーム源のイオンを加速させるとともに二次電子サプレッサとして機能する加速電極と、前記イオンビームの電流を測定するイオンビーム電流測定器とを備え、前記試料と前記イオンビーム源との間に前記加速電極を設けたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】電子部品などの大断面加工においても、加工精度を確保しつつ効率良く観察し、加工することが可能な集束イオンビーム装置、及び、試料の加工方法を提供する。
【解決手段】集束イオンビーム装置1は、試料Mを載置する試料台2と、イオンビームI1、I2、I3となるイオンを発生させる複数のイオン源24、イオン源24との間に印加された電圧によってイオン源24からイオンビームI1、I2、I3を引き出す引出電極25、及び、引出電極25と複数のイオン源24のそれぞれとの間に独立して電圧を印加可能な電源部とを有するイオンビーム放出手段4と、イオンビーム放出手段4から放出された複数のイオンビームI1、I2、I3を試料M上で集束させることが可能なイオンビーム光学系5とを備える。 (もっと読む)


【課題】収差を軽減して試料に荷電粒子ビームを照射可能であるとともに、試料の表面にガスを導入する場合などでも、放電のおそれ無く荷電粒子ビームを照射することが可能な荷電粒子ビーム装置を提供する。
【解決手段】荷電粒子ビーム装置1は、荷電粒子ビームIを放出する荷電粒子源9と、荷電粒子ビームIを補正、偏向する補正・偏向手段19、及び、二つの外側電極16a、16bと、外側電極16a、16bに挟み込まれた少なくとも一つの中間電極16cとが、照射方向に配列して構成され、荷電粒子ビームIを集束させて試料Mに照射させる対物レンズ16を有する荷電粒子ビーム光学系11と、荷電粒子ビーム光学系11の対物レンズ16の中間電極16cに、外側電極16a、16bに対して正負いずれかの電位差が生じるように電圧を切り替えて印加することが可能な対物レンズ制御電源36とを備える。 (もっと読む)


【課題】軸方向磁場の強度変化によるプラズマ密度或いはイオンビーム電流の変化を低減し、精密な磁場調整なしでビーム電流を安定化するマイクロ波イオン源或いはプラズマ源と、それを利用した線形加速器システム、医療用加速器システム等の機器等の応用装置を提供する。
【解決手段】永久磁石6を放電容器4の周囲に16個、隣り合う磁石の極性が異なるように設置し、放電で発生するプラズマを閉じ込める多極磁場B2を放電容器壁近傍に局部的に発生させる。また、この多極磁場により軸方向磁場B1の変化によるプラズマ密度の変化が低減され、電極9a〜9cの孔より引き出されるイオンビームの電流の変化も低減される。これにより磁場B1の精密な調整なしでイオンビーム電流を安定化できる。また、軸方向磁場B1を永久磁石15で発生させた場合でも、大電流のイオンビームが安定に得られる。 (もっと読む)


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