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Fターム[5C034BB10]の内容

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Fターム[5C034BB10]に分類される特許

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【課題】描画開始の遅延を抑止する。
【解決手段】荷電粒子ビーム描画装置1は、レイアウトに関するレイアウトデータであってパターンデータ及び複数のパラメータを含むレイアウトデータに対して並列処理を行う並列処理部31と、レイアウトデータの入れ替えに応じて並列処理部31に並列処理を実行させる処理命令部43と、レイアウトデータが入れ替えられた場合、そのレイアウトデータのうちパターンデータ及び並列処理に関するパラメータが不変更であることを検出する不変更検出部32と、不変更検出部32による検出に応じて並列処理部31に並列処理の実行をスキップさせる処理スキップ部33とを備える。 (もっと読む)


【目的】照射量を繰り返し演算により求める際に、解の収束をより早め、描画時間を短縮することが可能な装置を提供する。
【構成】描画装置100は、試料の描画領域が仮想分割されたメッシュ毎に、繰り返し演算により当該小領域内にショットする荷電粒子ビームの繰り返し数第n回目の照射量補正係数を算出する照射量係数計算部60と、小領域毎に、第n−1回目の照射量補正係数から、繰り返し数n回目に算出された第n回目の照射量補正係数への変化率を第n回目の変化率として演算する変化率計算部62と、小領域毎に、第n回目の変化率を用いて第n回目の照射量補正係数を補正する照射量係数計算部65と、小領域毎に、補正された第n回目の照射量補正係数を用いて当該小領域内にショットする荷電粒子ビームの照射量を演算する照射量計算部70と、照射量で当該小領域内に所望のパターンを描画する描画部150と、を備えたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】長期のダウンタイムの発生を抑え、生産性の低下を抑制する荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法を提供することである。
【解決手段】荷電粒子ビーム描画装置は、ステージStを内蔵する描画室1を備え、ステージSt上に支持部材である支持ホルダ40を介して載置されるマスクMに、電子ビームを照射して所望のパターンを描画するようにする。ステージStは、支持ホルダ40を3点で支持する支持ピン43を有し、支持ホルダ40は、その一部に導電膜が設けられるとともに、マスクMを3点で支持する支持部42を有するように構成される。描画を終えた後は、支持ホルダ40を描画室1から搬出して、支持ホルダ40用の収納室に収納するかまたはクリーニングするかを選択するようにする。 (もっと読む)


【目的】パターン面積密度計算と近接効果補正計算とを効率的に行なう荷電粒子ビーム描画装置を提供する。
【構成】描画する際のショット数が互いに略同一になるように描画領域を複数の第1のブロック領域に分割する分割部と、描画領域を、第1のブロック領域のいずれよりも小さい複数の第1の小領域と、第1の小領域よりも小さい複数の第2の小領域とを用いて、第1のブロック領域毎に、パターン面積密度を計算する面積密度計算部と、描画領域を改めて第1および第2の小領域の数が所定の閾値を超えないサイズで複数の第2のブロック領域に分割する分割部と、第2のブロック領域毎に、近接効果補正照射量を計算する補正照射量計算部と、荷電粒子ビームのビーム照射量を近接効果補正照射量を用いて計算するビーム照射量計算部と、試料に所定のパターンを描画する描画部と、を備えることを特徴とする荷電粒子ビーム描画装置。 (もっと読む)


【目的】斜入射反射光学系を用いた露光装置で生じるシャドーウィング効果の位置依存性誤差について補正可能な描画装置を提供する。
【構成】描画装置100は、斜入射反射光学系を用いてパターンが形成されたマスク基板に照明光を斜入射してマスク基板からの反射光を用いてマスク基板に形成されたパターンを被露光基板に転写する露光装置におけるシャドーウィング効果の位置依存誤差を補正する補正値が定義された補正テーブルを記憶する記憶装置142と、複数の図形について位置と形状とサイズが定義されたパターンデータを入力し、図形毎に、当該図形の位置に基づいて、補正テーブルから対応する補正値を取得する取得部12と、図形毎に、補正値を用いて、当該図形をリサイズするリサイズ処理部14と、荷電粒子ビームを用いて、パターン形成前のマスク基板にリサイズされた図形を描画する描画部150と、を備えたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】多重露光が必要なレジストを用いて振動ノイズの測定を行うに当たって、複数回の露光に起因する図形パターンの位置のノイズ成分を減衰させることなく、簡易かつ確実に定量的に振動ノイズの測定を行うことが可能な荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置を提供する。
【解決手段】位置ずれ測定の指標となるターゲットパターンTPの輪郭部における総露光量を設定するステップと、ターゲットパターンTPの露光に用いる第1の露光量を設定するステップと、バックグラウンドパターンBGP露光に用いる第2の露光量を設定するステップと、複数回に分けて露光を繰り返しバックグラウンドパターンBGPを露光するステップと、1度の露光によりターゲットパターンTPを形成するステップと、を備える。 (もっと読む)


【課題】変形が生じる部材からの所定方向の応力の静電偏向器の電極支持部などへの伝達を抑制し、複数の荷電粒子ビームの偏向ばらつき等を低減することができる荷電粒子光学系を提供する。
【解決手段】荷電粒子光学系は、熱による変形が生じる可能性がある第1の部材112と、第1の部材を通過した荷電粒子ビーム1を偏向する静電偏向器113と、を含む。静電偏向器は、第1の部材に固定された固定部7を介して第1の部材と組み立てられ、静電偏向器は、電極支持部5と、電極支持部に支持される第一の電極と2第二の電極3を有する。第一及び第二の電極間には、第1の部材を通過した荷電粒子ビーム1を偏向するための電界を発生させるギャップ11が形成されている。電極支持部5は、第1の部材112からの電界方向の変形応力の固定部7を介する電極支持部5への伝達が低減されるように、固定部7に取り付けられている。 (もっと読む)


【課題】荷電粒子線の軌道の安定化に有利な荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】この荷電粒子線装置は、荷電粒子線を被処理体に導く電子光学系の少なくとも一部を収容する第1の筐体10と、被処理体を保持して移動可能な基板保持部を収容する第2の筐体11と、第1の筐体10と第2の筐体11との接続部分に設けられ、第2の筐体11から第1の筐体10に流れる電流を低減する絶縁体31と、第1および第2の筐体10、11を通じた閉磁路を形成し、かつ、接続部分を介して第1および第2の筐体10、11の外部から内部に向かう電磁波を低減する機構20、30とを備える。 (もっと読む)


【課題】電子ビームリソグラフィーシステム内の収差を補正する。
【解決手段】
一実施形態は、電子ビームリソグラフィーシステム内の収差を補正する装置に関する。内部電極は、パターン生成装置を取り囲み、その内部電極の周りには、少なくとも1つの外部電極がある。内部電極及び外部電極の各々は、パターン生成装置の平面内に、平坦な表面を有する。回路は、内部電圧レベルを内部電極に印加し、少なくとも1つの外部電圧レベルを少なくとも1つの外部電極に印加するように構成されている。電圧レベルは、電子ビームリソグラフィーシステム内の像面の反りを補正するように設定され得る。別の実施形態は、電子ビーム検査システム又は再検査システム又は計量システム等の電子ビーム基盤型システム内で利用される収差を補正する装置に関する。他の実施形態、態様及び特徴も開示される。 (もっと読む)


【目的】マルチビーム形成アパーチャによって散乱した荷電粒子によるブランキング偏向器アレイへの帯電とコンタミ成長を抑制する装置を提供することを目的とする。
【構成】描画装置100は、荷電粒子ビームを放出する電子銃201と、マルチビームを形成するマルチビーム形成アパーチャ部材203と、マルチビームのうち、それぞれ対応するビームのブランキング偏向を行う複数のブランカーが配置されたブランキングプレート204と、マルチビーム形成アパーチャ部材203とブランキングプレート204との間に配置された、電磁レンズ212,214と、電磁レンズ212,214の間であってマルチビームの集束点位置に配置され、集束点から外れた荷電粒子の通過を制限する制限アパーチャ部材216と、複数のブランカーによってビームoffの状態になるように偏向された各ビームを遮蔽する制限アパーチャ部材206と、を備えたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】マルチビーム配列が完全正方行列でなく、一定の走査速度で各ビームのON/OFF信号を独立のタイミングで制御する必要があり、制御データ量が膨大であった。走査方向と非走査方向でパターンのエッジのシャープネスが異なり、高精度なパターン描画が困難であった。
【解決手段】電子銃1からの電子ビームをビームサイズの整数倍の間隔の2次元平面内の正方格子行列ビーム群を形成する。描画すべきデバイスのメッシュの個別ブランカ13をビットマップ信号によりON/OFFし、所望のビームを得る。また、偏向装置17,18によりビームを必要位置に偏向し、ビーム状態が静定した後、全体ブランカ16を開としてビーム照射することにより、高精度かつ高速の描画パターンを得る。 (もっと読む)


【課題】試料冷却温度とステージ停止位置精度を保ったまま、ステージ移動可能な範囲を広げることができる試料冷却装置を提供する。
【解決手段】真空に維持される試料室と、試料室内に配置される移動ステージと、移動ステージ上に熱的に遮断された状態で取り付けられた試料ホルダ固定台と、前記試料ホルダ固定台上に脱着可能に装着され、試料を保持するための試料ホルダと、移動ステージと周囲の試料室の側壁の間に設けられ、試料を冷却するための冷媒を収容する冷却槽と、前記冷却槽に収容された冷媒と前記試料ホルダ固定台との間で熱交換するための冷熱伝導体と、冷却槽に収容された冷媒を冷却する冷却装置とを備え、前記冷熱伝導体は、試料ホルダ固定台に固定された一端と、自由端である他端を有し、その自由端が冷却槽の開口部を介して冷媒内に浸漬され、前記移動ステージの移動と共に、自由端が冷媒に浸漬されつつ前記開口部内で移動されることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】高密度の荷電粒子小ビームを用い、高精度で荷電粒子小ビームを操作することのできる粒子光学システムを提供する。
【解決手段】粒子光学装置であって、荷電粒子ビームを発生させる少なくとも1つの荷電粒子源301と、複数の開孔を有し、その下流側で荷電粒子ビーム309から複数の荷電粒子小ビーム3が形成され、その集束領域に荷電粒子小ビームのそれぞれが焦点323を有する少なくとも1つの多孔プレート313と、荷電粒子小ビームの焦点が形成される多孔プレートの集束領域で視野レンズの効果を有する焦点レンズ装置307と、粒子光学装置の物体面内に位置決め可能な物体上に多孔プレートの集束領域をおおむね結像させるための対物レンズ102とを備える。 (もっと読む)


【課題】スループットの向上を図ることのできる荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法を提供する。
【解決手段】制御計算機19は、描画パタンを精度を要求される領域とそうでない領域に弁別し、入力部20から基準値以上の描画精度を要求されるパターンの面積がパターン全体の面積に占める割合を取得し、この割合が所定値以上であるか否かによって描画条件を決定する。割合が所定値未満である場合、基準値未満の描画精度を要求されるパターンを、基準値以上の描画精度を要求されるパターンより高い電流密度で描画する。割合が所定値以上である場合、全てのパターンを同じ電流密度で描画する。電流密度の変化は、電子ビーム54を透過させる開口部を備えた電流密度調整用アパーチャ101を鉛直方向に移動させることで行う。 (もっと読む)


【課題】マルチビーム方式の描画装置で、異常な荷電粒子線が存在しても描画に有利な技術を提供する。
【解決手段】描画装置は、荷電粒子光学系と制限部と制御部とを備える。荷電粒子光学系は、第1方向に沿って第1ピッチで配置されたn以上のN本の荷電粒子線を含む行が、第1方向に直交する第2方向に沿って第2ピッチでm以上のM行存在し、M行のうち1番目からm番目の行は、各行の先頭の荷電粒子線の第1方向における位置が第1ピッチの(1/m)ずつずれ、かつ、(m+i)番目の行の先頭の荷電粒子線の第1方向における位置がi番目の行の先頭の荷電粒子線の第1方向における位置と同じに配列された(M×N)本の荷電粒子線を生成する。制御部は、(M×N)本の荷電粒子線の中に異常線が存在する場合、該異常線を含まず連続するn本の荷電粒子線を含む行が、mの約数分の行だけ第2方向に沿って連続して使用できるように、制限部を制御する。 (もっと読む)


【課題】 描画に使用する荷電粒子線の強度を計測する精度の点で有利な描画装置を提供する。
【解決手段】 荷電粒子線のパルスで基板に描画を行う描画装置は、入射した荷電粒子線に応じた電流を出力する検出器と、入射した前記パルスに応じた前記検出器の出力電流で充電されるキャパシタを含み、前記キャパシタの電圧値を検出し、前記キャパシタの容量値および前記電圧値に基づいて前記検出器に入射した前記パルスの強度を求める処理部と、を有する。前記処理部は、抵抗を含み、入射した荷電粒子線に応じた前記検出器の出力電流を前記抵抗での電圧降下を介して検出し、該検出に基づいて決定された電流値を有する電流を前記キャパシタに供給して前記キャパシタの電圧値を検出し、該電圧値と前記キャパシタに供給された前記電流の前記電流値とに基づいて、前記容量値を求める。 (もっと読む)


【課題】 荷電粒子線の特性の計測精度の点で有利な照射装置を提供する。
【解決手段】 複数の荷電粒子線を物体に照射する照射装置は、複数の開口を有する遮蔽板と、前記複数の開口をそれぞれ通過した複数の荷電粒子線をそれぞれ検出する複数の検出器とを含み、前記複数の荷電粒子線の強度を計測する計測器と、前記複数の荷電粒子線がそれぞれ前記複数の開口のエッジを横切るように前記複数の荷電粒子線と前記計測器との間の相対的な走査を行う走査手段と、前記走査手段と前記計測器とを制御して前記複数の荷電粒子線それぞれの特性を求める制御部と、を備える。前記走査の期間において、前記複数の荷電粒子線の前記遮蔽板によって遮断されるエネルギーが時間とともに変動しないように構成されている。 (もっと読む)


【課題】 本発明の目的は、小型化を図ることのできるシャッター装置を提供すること。
【解決手段】シャッター装置1は、振動子と該振動子の質量を変化させる質量変化手段との間に設けられ、質量変化手段による振動子の質量変化を許容する開状態と阻止する閉状態とを切り替えることができる。このようなシャッター装置1は、駆動軸41と、予圧を持って駆動軸41に保持された移動体42と、駆動軸41をその軸方向に振動させる圧電素子43とを有するアクチュエーター4と、移動体42に支持され、移動体42の移動方向に延在する長尺状のシャッター部2とを有している。駆動軸41は、移動体42と摺動する領域において、移動体42との間の摩擦力が基端側よりも先端側の方が小さくなるように構成されている。 (もっと読む)


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