Fターム[5C034CC00]の内容
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Fターム[5C034CC00]の下位に属するFターム
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Fターム[5C034CC00]に分類される特許
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不均一なイオン注入エネルギーを得られるイオン注入装置及びその方法
【課題】ウエハー内の領域別に相異なる注入エネルギーでイオン注入を行う、不均一なイオン注入エネルギーを得られるイオン注入装置及びイオン注入方法を提供する。
【解決手段】イオンビームを発生するイオンビームソース110と、第1時間の間は相対的に小さい第1注入エネルギーのイオンビームを作り、第2時間の間は相対的に大きい第2注入エネルギーのイオンビームを作る注入エネルギー調節器120と、前記注入エネルギーが調節されたイオンビームを加速するビームライン130と、前記ウエハー150を前記イオンビームに対して垂直方向に移動し、前記ウエハー150の第1領域には前記第1注入エネルギーのイオンビームを注入し、前記ウエハーの第2領域には前記第2注入エネルギーのイオンビームを注入するためのエンドステーション140と、を備えてイオン注入装置を構成する。
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