【課題】より低エネルギーで行われ、かつ、加工精度や加工品質にもより優れた、膜加工方法を提供する。
【解決手段】第１主面と当該第１主面に対向する第２主面とを有するガラス基板の前記第１主面上に形成された膜の除去予定部位にレーザ光を照射し、除去部を形成する膜加工方法であって、前記除去予定部位の側面部分を、ピコ秒レーザ光またはフェムト秒レーザ光の照射によって除去する第１工程と、前記第１工程によって側面部分が除去された前記除去予定部位を、ナノ秒レーザ光の照射によって除去し、前記除去部を形成する第２工程と、を備える膜加工方法。 （もっと読む）

【課題】パターン形成のタクトタイムの短縮を実現し、ＰＤＰ製造のトータル的低コスト化が可能な白黒二層構造のバス電極パターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る白黒二層構造のバス電極パターン形成方法は、基材上に、耐熱顔料を含む塗膜を形成する工程と、上記塗膜の上に、導電性粉末を含む塗膜を形成し、二層塗膜を得る工程と、上記二層塗膜に対し、レーザー照射によりパターンを描画するレーザー照射工程と、上記パターン以外の部分を除去する工程とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】レーザ光を用いて金属パターンを高精度に加工することができ、特に、比較的低パワーのレーザ光で金属厚膜を加工することができ、プラズマディスプレイ等のフラットパネルディスプレイにも応用可能な金属パターン付き基板の製造方法及び金属積層体付き基板を提供する。
【解決手段】基板１０上に、レーザ光を用いて金属層３０のパターンを形成する金属パターン付き基板の製造方法であって、表面に前記金属層が形成された基板を用意する工程と、前記金属層上に、前記金属層と異なる金属材料から構成され、前記レーザ光に対する光吸収率が前記金属層と異なるアシスト層４０を形成し、前記基板上に金属の積層体５０を形成する工程と、該積層体にレーザ光８１を照射し、該積層体のレーザ光照射部位を除去することにより前記金属層をパターニングし、金属パターンを形成する工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】前面基板と背面基板との間隔を一定に保持し、聴感ノイズの発生やクロストークの発生を抑制したＰＤＰを実現する。
【解決手段】互いに平行な複数の表示電極対１４と誘電体層１５と保護層１６とが形成された前面基板１１と、互いに平行な複数のデータ電極１８と下地誘電体層１９と隔壁２０と蛍光体層とが形成された背面基板１７とを、間に放電空間を形成するように隔壁２０を挟んで対向配置し周囲を封着材で封着したＰＤＰ１０であって、下地誘電体層１９を背面基板１７の外周領域４０を除く内周領域４１に設け、封着材を外周領域４０に設けた第１封着材２５と内周領域４１に設けた第２封着材２８とで構成し、第１封着材２５中に大径粒状物質２９を配置するとともに、第２封着材２８に小径粒状物質３０を配置し、大径粒状物質２９の粒径を小径粒状物質３０の粒径よりも下地誘電体層１９の膜厚分だけ大きくする。 （もっと読む）

【課題】ペースト中の金属粉末量を比較的少なくしても、基板と導電性配線との密着力が高く、かつ抵抗値が低く、膨らみ等が発生せず所望する適切な形状の導電性配線を形成することができるペーストを提供する。
【解決手段】有機バインダー成分を含む有機成分、ならびに金属粉末および軟化点が６２０℃〜７２０℃の範囲内である高軟化点ガラス粉末を含む無機成分からなり、前記有機成分の含有量が１０〜３５質量％の範囲内、前記無機成分の含有量が６５〜９０質量％の範囲内であり、かつ、前記金属粉末の含有量が前記無機成分に対し８０〜９５質量％、前記高軟化点ガラス粉末の含有量が前記無機成分に対し５〜２０質量％の範囲内であることを特徴とするペーストとする。 （もっと読む）

【課題】高精細なパターンを形成することができるレーザーを用いたパターン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明に係るパターン形成方法は、基材上に形成した無機粉末を含む塗膜に対し、パターンを描画するレーザー照射と同時にそのレーザー照射部を冷却する冷却工程と、前記パターン以外の部分を除去する工程とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】簡便な構成によって、不吐出箇所などの欠陥を検出し、高精細ピッチのプラズマディスプレイパネルの歩留低下防止を図ることを目的とする。
【解決手段】インクジェット装置は、蛍光体粒子を含有するインクを吐出するノズルを複数個配列して設けたヘッドと、このヘッドにより塗布された蛍光体層の蛍光体粒子を励起する光を照射する光源と、この光源により励起され前記蛍光体粒子からの発光を検出する検査装置とを具備し、インクジェット装置を用いて蛍光体粒子を含有するインクを吐出して隔壁内に蛍光体層を塗布し、その後前記光源から光を照射して蛍光体層からの発光を検査装置で検出することにより隔壁内に蛍光体層が塗布されたかどうかを検出し、前記蛍光体層が塗布されていない欠陥を検出した場合、欠陥を修復する。 （もっと読む）

【課題】大画面化、高精細化に適するＰＤＰを提供することを目的とする。
【解決手段】前面基板３に放電ギャップを形成して対向する第１電極４および第２電極５からなる表示電極を複数列形成した前面パネル１と、前面基板３に対向配置した背面基板８に前面パネル１との間の放電空間を仕切る隔壁１１を設けかつ隔壁１１間に表示電極に交差するようにデータ電極１０を形成するとともに隔壁１１間に蛍光体層１２を配置した背面パネル２とを有し、背面パネル２は、データ電極１０と平行な方向で複数の領域に分割して隔壁１１を形成し、かつ前面パネル１は表示電極と垂直な方向に３つ以上の領域に分割して表示電極を形成し、かつ前面パネル１および背面パネル２を張り合わせるためのアライメントマーク１ａ、２ａは、分割された領域の中の一つの領域にその全てが存在するように構成する。 （もっと読む）

【課題】プラズマディスプレイパネルにおいて、隔壁側面に十分な膜厚で蛍光体層を形成できるようにすることを目的とする。
【解決手段】基板上に形成した複数の表示電極を覆うように誘電体層を形成するとともにその誘電体層上に保護層を形成した前面基板と、この前面基板に放電空間を形成するように対向配置されかつ前記表示電極と交差する方向にデータ電極７を形成するとともに前記放電空間を区画する隔壁９を設けた背面基板と、この背面基板の隔壁９間に形成した蛍光体層１０とを有し、前記隔壁の表面に有機粒子とバインダー樹脂とからなるインク受容層を形成した後、前記隔壁間に蛍光体インクを塗布し、その後前記インク受容層及び蛍光体インクを焼成して蛍光体層１０を形成する製造方法である。 （もっと読む）

【課題】量産性高く、良好な耐薬品性とともに十分な導電性、信頼性を得ることが可能な電極パターンを提供する。
【解決手段】カルボキシル基を含有する有機バインダー（Ａ）１００質量部に対して銀粉（Ｂ）４００〜８００質量部、ガラスフリット（Ｃ）０．１〜７０質量部、平均粒径０．１〜２μｍの無機酸化物（Ｄ）０．１質量部〜１０質量部、光重合性モノマー（Ｅ）２０〜１００質量部、光重合開始剤（Ｆ）１〜３０質量部を含有する感光性銀ペーストを用いて、銀ペーストパターンを形成し、この一部を被覆するように導電性ペーストパターンを形成し、同時焼成する。 （もっと読む）

【課題】アレイ構造体の座屈を防止し、アレイ中の電極及びマイクロキャビティのパターンの歪みの発生を防止するマイクロキャビティ・プラズマ装置アレイを提供する。
【解決手段】マイクロキャビティ・プラズマ装置のアレイは、複数の薄い金属の第１の電極と、処理中および処理後に平坦性を向上させるため設計された応力低減構造体および／または幾何学的構造とを含む。第１の電極は、マイクロキャビティ中のプラズマから電極を保護する薄金属酸化物層に埋め込まれる。発明の実施形態では、電極の一部または全部が接続される。マイクロキャビティの１次元または２次元アレイにおいて接続のパターンが画定され得る。第１の電極は個々のマイクロキャビティを囲む外周電極を備える。埋め込まれた第２の電極を有する第２の薄層は第１の薄層に接合されている。パッケージ層は放電媒体をマイクロキャビティの中に密閉する。 （もっと読む）

【課題】安価なマイクロプラズマデバイス電極構造、及び軽量で、大面積化が可能なマイクロプラズマアレイを実現する製造方法を提供する。
【解決手段】マイクロキャビティプラズマデバイスアレイは、該デバイス内のマイクロキャビティを包囲する複数の第１の金属周囲電極を含む。該第１の周囲電極は、金属酸化物層内に埋め込まれており、該マイクロキャビティの軸と直角な平面内で該マイクロキャビティを包囲し、該金属酸化物によって該マイクロキャビティ内のプラズマから保護される。本発明の実施形態において、該周囲電極は、パターン状に接続することができる。第２の電極は、前記第１の金属酸化物層によって、前記第１の電極と隔離されるように配列される。いくつかの実施形態において、該第２の電極は、第２の層内にある。 （もっと読む）

【課題】微細なパターニングが可能であり、大量の現像液やエッチング剤等の薬液等を使用せず製造コストおよび環境負荷を抑制すること等ができ、さらにレーザ照射欠陥が生じない、回路パターンを有するガラス基板の製造方法、およびこれにより製造される回路パターンを有するガラス基板の提供。
【解決手段】ガラス基板１０上に薄膜層１２を形成した後、レーザ光２２をして、ガラス基板上に回路パターン２６を形成する工程と、ガラス基板上に、低融点ガラス２８を付着させる工程と、低融点ガラスを焼結して低融点ガラス層３２を形成し、さらに、ガラス基板と低融点ガラス層との間に、レーザ光の照射によってガラス基板に形成されたレーザ照射欠陥２４の厚さ以上の厚さを有する相溶層を形成する工程とを具備する回路パターンを有するガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】低いエネルギーのレーザ光の照射であってもアブレーション現象が起こり、問題なくパターニングできる酸化錫薄膜が付いた透明基板の製造方法の提供。
【解決手段】透明基板上にキャリア濃度が５×１０^１９／ｃｍ^３以上である透明導電膜を有する薄膜付き透明基板に、波長が１０６４ｎｍのレーザ光を照射して前記透明基板上に回路パターンを形成する、回路パターン付き透明基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】優れた輝度特性及び低電圧駆動を有する平板表示装置を提供する。
【解決手段】互いに対向配置される第１基板及び第２基板、放電空間を区画する隔壁、各放電空間内に形成される蛍光体層、第２基板の一側に沿って形成されるアドレス電極、第２基板でアドレス電極を覆いながら形成される第２誘電層、第１基板でアドレス電極と交差する方向に沿って形成され、各放電空間で少なくとも一対が対向形成される表示電極及び第１基板で表示電極を覆いながら形成される第１誘電層を含み、第１誘電層は誘電層内部から放電空間に向かって成長した炭素系物質を含む。放電時炭素系物質を分離せず、平板表示装置内部でのイオンによる２次電子放出係数が増大してグロー放電に要求される電子を容易に供給することによって、放電空間内電子密度を高め、放電モード変更による放電特性及び輝度特性が顕著に向上できる。 （もっと読む）

【課題】放電電圧を低減することを課題とする。
【解決手段】一画素において一対の表示電極を備えた第１の基板と、前記一対の表示電極上に形成された保護膜と、該保護膜が内側になるように放電空間を介して対向させた第２の基板とからなり、前記保護膜が、前記一対の表示電極間の中心線方向に配向した結晶質膜からなることを特徴とするプラズマディスプレイパネルにより上記課題を解決する。 （もっと読む）

【目的】成膜対象基板の所望する部位に成膜材料を成膜する際に、マスクの位置合わせや、レーザ走査位置の位置合わせを不要とし、容易な成膜処理を実現する。
【構成】成膜対象となる基板にレーザ光を照射して成膜材料をアブレーションさせて成膜対象基板の成膜対象面に溶射する成膜方法にて、成膜材料から成るターゲット基板と、成膜対象となる基板の成膜面との間にあらかじめ形成すべき成膜パターンに対応した間隙寸法差を形成し、その寸法差による成膜条件の違いを利用して、パターニングを行う。 （もっと読む）

【課題】プラズマディスプレイパネルの電極製造に使われるモールドプレート、プラズマディスプレイパネルの電極製造方法、及びその製造方法により製造された電極を備えたプラズマディスプレイパネルを提供する。
【解決手段】プラズマディスプレイパネルのバス電極のパターンに対応するメッキ溝が備えられたモールドプレート（５０）を準備するステップと、前記メッキ溝の内部にメッキ処理を行うことによって第１メッキ層（６１）を形成するステップと、前記第１メッキ層上に接合用のフリットを塗布するステップと、前記フリットを塗布した第１メッキ層と前記プラズマディスプレイパネルのガラス基板（６８）上に形成された表示電極（６７）とを、前記フリットを通じて接合させるステップと、前記モールドプレートを除去して、前記表示電極上に前記第１メッキ層を転写ステップと、を含む。 （もっと読む）