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Fターム[5C094AA37]の内容

要素組合せによる可変情報用表示装置 (81,180) | 目的 (21,550) | 耐久性、信頼性向上 (3,604) | 長寿命化、摩耗防止 (575)

Fターム[5C094AA37]に分類される特許

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【課題】額縁の領域をより狭くすることを可能とした表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の表示装置は、配列された複数の表示素子(120)と外周側に電源の配線層(107)とを有する基板(100)と、表示素子の相互間を分離するバンク層(113)と、複数の表示素子とバンク層とを覆う電極層(123)と、基板の外周部分と外周を一周する封止部(202)において接着剤などの接合手段(301)を介して接合して電極層を更に覆う封止基板(200)と、を備え、封止基板の外周を基板の外周の内側に位置し、電極層の外周部を封止基板の封止部(b+c)内にて電源の配線(107)と接続する。それにより、電極(123)と配線(107)との接続領域(c)を基板と封止基板との接合領域(b+c)として活用し、ガスバリア等のために所要の接合幅を確保しつつ表示装置の額縁の構成要素となる部分を減らす。 (もっと読む)


【課題】タッチセンサの感度の劣化を防止することができるようにする。
【解決手段】タッチセンサ機能を有するタッチセンサ付液晶パネルと、タッチセンサ付液晶パネルの上側面に配置される上偏光板と、タッチセンサ付液晶パネルの下側面に配置される下偏光板とからなる構成において、視野角補償機能を有する位相差板が、タッチセンサ付液晶パネルと下偏光板との間に配置されることで、タッチセンサの感度の劣化が防止される。本技術は、例えば、タッチセンサ付きの表示装置に適用することができる。 (もっと読む)


【課題】EL表示パネルは自己発光による光により、また、カソード電極を光透過電極とすることにより、画素トランジスタが内外光を受けて特性等が変化し、良好な画像表示を実現できない。
【解決手段】トランジスタ11aとトランジスタ11bを同一極性のトランジスタとし、トランジスタ11bをマルチゲートとする。画素に映像信号を書き込むときは、トランジスタ11bをオンさせて、トランジスタ11dをオフさせてコンデンサ19に安定に信号を書込み、EL素子15を発光させる時は、トランジスタ11bをオフし、トランジスタ11dをオンさせて安定にEL素子15に電流が流れるように制御する。 (もっと読む)


【課題】液晶等の電気光学素子若しくは発光素子等を表示媒体として用いる表示装置及びその駆動方法を提供する。
【解決手段】劣化しやすいトランジスタのゲート電極に、オンしたトランジスタを介して信号を入力することで、劣化しやすいトランジスタのしきい値電圧のシフト及びオンしたトランジスタのしきい値電圧のシフトを抑制する。すなわち、高電位(VDD)がゲート電極に印加されているトランジスタを介して(若しくは抵抗成分を持つ素子を介して)、交流パルスを劣化しやすいトランジスタのゲート電極に加える構成を含んでいる。 (もっと読む)


【課題】気密性の優れた封止体の作製方法を提供する。また、当該封止体で封止した発光装置の作製方法を提供する。
【解決手段】低融点ガラスを用いた封止体、発光装置について、ガラス粉末を溶融させガラス層にする加熱工程で、所望の表面形状にするため第3の基板を押付ける。低融点ガラスの表面と対向基板が気密性よく封止されるように、第3の基板の表面形状がなされており、その表面形状が対向基板と溶着するときまで保持できる。よって、気密性の高い封止体および当該封止体で封止した信頼性のある発光装置を作製することが出来る。当該発光装置の作製方法を、特に有機EL素子に適用した場合、信頼性の高い有機EL発光装置が作製できる。 (もっと読む)


【課題】液晶層中の不純物の偏在に起因する表示不具合が改善された液晶装置、液晶装置の製造方法、この液晶装置を備えた電子機器を提供すること。
【解決手段】本適用例の液晶装置は、基板としての素子基板10上にトランジスターとしてのTFT30と、画素電極15と、画素電極15をTFT30の半導体層30aにおける第2ソース・ドレイン領域30dに電気的に接続させる柱状のコンタクト部CNT4とを有し、コンタクト部CNT4は、画素電極15の液晶層側の表面において突出部15aを形成している。 (もっと読む)


【課題】同一基板上に駆動回路と画素部を形成した場合において、さらなる狭額縁化を図ることを課題とする。また、大型基板を用いた多面取りに有利な構造を有する発光装置とし、面取り数を増やして生産性を上げることを課題とする。また、フルカラーの発光装置において、R(赤色)、G(緑色)、B(青色)の発光素子のそれぞれの信頼性が異なっている場合において、3種類の発光素子の信頼性をほぼ同一とすることも課題とする。
【解決手段】本発明は、周辺回路部309と重なる位置に端子電極310を設け、該端子電極と、FPC306とを異方性導電接着材で接続する。加えて、基板301の端面および基板周縁部に接するシール材304でカバー材303を固着する。また、3種類の発光素子の信頼性をほぼ同一とするため、他の発光素子の信頼性に比べて低い発光素子の発光面積のみを拡大する。 (もっと読む)


【課題】AM−OLED等に比べて構成要素の膜厚管理を厳密に管理しなくても、高い発光効率と優れた光取り出し効率で駆動でき、幅広い発光波長で良好な駆動を期待できる自発光型表示装置を提供する。さらにLCDやPDPよりも軽量・薄型化でき、屋外での長時間使用にも耐えうる、高輝度で高画質を期待できる自発光型表示装置を提供する。
【解決手段】
基板2の上にTFT配線部3、パッシベーション膜4、第一蛍光体層6a、第一平坦化層7aを積層し、その上に透明アノード電極100、発光層101、透明カソード電極102を順次積層した発光体10を配設する。発光層101はZnO系またはGaN系等材料で構成し、発光面(上面)の面積に対する側面の総面積の割合を1/10以上に設定する。これにより表示装置1を得る。 (もっと読む)


【課題】酸化物半導体を使用する薄膜トランジスタの特性を向上させることができる薄膜トランジスタ表示板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】薄膜トランジスタ表示板を提供する。本発明の一実施形態に係る薄膜トランジスタ表示板は、基板の上に配置するゲート配線層、前記ゲート配線層の上に配置する酸化物半導体層、及び前記酸化物半導体層の上に配置して、前記ゲート配線層と交差するデータ配線層を含み、前記データ配線層は銅を含む主配線層、及び前記主配線層の上に配置して、銅合金を含むキャッピング層を含む。 (もっと読む)


【課題】高信頼性の表示装置を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、第1基板部と、第2基板部と、表示層と、シール部と、を備えた表示装置が提供される。第1基板部は、第1基板と、表示電極と、端子部と、第1絶縁層と、を含む。第1基板は、表示領域と、表示領域の外側の周辺領域と、を有する第1主面を有する。表示電極は、表示領域に設けられる。端子部は、周辺領域に設けられ、表示電極と接続される。第1絶縁層は、端子部の少なくとも一部を露出しつつ表示電極を覆い、表示領域及び周辺領域の上に設けられ、ポリシロキサンを含む。第2基板部は、第1主面と対向する、表示層は、表示電極と第2基板部との間に設けられる。シール部は、第1基板部と第2基板部との間に設けられ、表示層を囲み、第1絶縁層と接する。シール部の外縁は、第1絶縁層の外縁よりも内側である。 (もっと読む)


【課題】 異物遮蔽性に優れ、低コスト化を図ることのできる基板、基板を備えた表示装置及び基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 基板Sは、表面に開口した凹部を有するシート状のコア部材1と、コア部材の表面全体を被覆した有機材料又は無機材料で形成されたバリア層5とを備えている。バリア層5は、コア部材1の凹部内に充填されている。 (もっと読む)


【課題】液晶パネルなどにおいて、取り出し端子とFPCを接続するための異方性導電膜のコンタクトの信頼性を向上する。
【解決手段】アクティブマトリクス基板101上の接続配線183は端子部182において異方性導電膜195によって、FPC191に電気的に接続される。接続配線183はアクティブマトリクス基板101上のTFTのソース/ドレイン配線と同じ工程で作製され、金属膜と透明導電膜の積層膜でなる。異方性導電膜195との接続部分において、接続配線183の金属膜の側面は保護膜で覆われているためこの部分において、金属膜は透明導電膜、下地の絶縁膜109、保護膜に接して囲まれ外気に触れることがない。 (もっと読む)


【目的】ガスバリア性に優れ、ガスバリア層の密着性が良く、クラックやピンホール、反りが無いガスバリア性積層ポリイミドフィルムを提供すること。
【解決手段】100℃から200℃での熱線膨張係数が0〜23ppm/℃であるポリイミドフィルム(1)の一方の表面上に、ガスバリア層(2)を積層してなるガスバリア性積層ポリイミドフィルムにおいて、前記ガスバリア層(2)はガラスペーストを塗布、焼成することで得られることを特徴とするガスバリア性積層ポリイミドフィルムを用いる。 (もっと読む)


【課題】酸化物半導体を用いた半導体装置に安定した電気的特性を付与し、高信頼性化す
ることを目的の一とする。
【解決手段】酸化物半導体膜を有するボトムゲート構造のトランジスタの作製工程におい
て、熱処理による脱水化または脱水素化処理、及び酸素ドープ処理を行う。酸素ドープ処
理されたゲート絶縁膜、熱処理による脱水化または脱水素化処理された酸化物半導体膜を
有するトランジスタは、バイアス−熱ストレス試験(BT試験)前後においてもトランジ
スタのしきい値電圧の変化量が低減できており、信頼性の高いトランジスタとすることが
できる。 (もっと読む)


【課題】外力が発生しても高い気密性を保持できる、信頼性の高い気密容器を製造する。
【解決手段】粘度が負の温度係数を有し、第1および第2のガラス基材1,2よりも軟化点が低い接合材4を、第2のガラス基材2の上に枠状に形成し、第1のガラス基材1を、接合材4と接触させるように、接合材4が形成された第2のガラス基材2に対向配置する。接合材4が延びる方向から見たとき、局所加熱光9の照射は、接合材4と、第2のガラス基材2の側端部6とが照射範囲に含まれるように行われるとともに、接合材4の両端部からそれぞれ、第2のガラス基材2の側端部6までの距離をA、第2のガラス基材2の側端部6と反対側の、照射範囲の境界までの距離をBとすると、B≧Aの関係を満たすように行われる。 (もっと読む)


【課題】酸化物半導体を用いた半導体装置に安定した電気的特性を付与し、信頼性の高い半導体装置を提供する。
【解決手段】化学量論的組成比を超える酸素を含む領域を有する非晶質酸化物半導体層と、該非晶質酸化物半導体層上に設けられた酸化アルミニウム膜とを含んで構成される半導体装置を提供する。該非晶質酸化物半導体層は、脱水又は脱水素化処理を行った結晶性又は非晶質酸化物半導体層に対して、酸素注入処理を行い、その後、酸化アルミニウム膜を設けた状態で450℃以下の熱処理を行うことで形成される。 (もっと読む)


【課題】可動シャッタ方式のディスプレイにおいて、可動シャッタを、低応力で安定したアモルファスシリコン膜で形成する。
【解決手段】第1基板と、第2基板とを有する表示パネルを有し、前記表示パネルは、複数の画素を有し、前記各画素は、可動シャッタと、前記可動シャッタを駆動する駆動回路とを有し、前記可動シャッタは、アモルファスシリコンで構成される表示装置であって、前記可動シャッタの前記アモルファスシリコンは、少なくとも2つのアモルファスシリコン膜で構成され、前記少なくとも2つのアモルファスシリコン膜の中で、互いに隣接する2つのアモルファスシリコン膜を、アモルファスシリコン膜Aと、前記アモルファスシリコン層A上に積層されるアモルファスシリコン膜Bとするとき、アモルファスシリコン膜Aと前記モルファスシリコン膜Bとは、特性値が異なっている。 (もっと読む)


【課題】表示装置等の接続端子部分における腐食による断線を防止する。
【解決手段】第1の配線(2)と第2の配線(6)とを透明導電薄膜(10)により複数箇所で接続して接続端子を構成する。接続端子部分が第1の配線(2)と第2の配線(6)とによる並列接続となり、且つ、第1の配線(2)と第2の配線(6)とが複数箇所で接続されるため、断線のリスクが大幅に低減される。 (もっと読む)


【課題】酸化物半導体膜を用いたトランジスタに安定した電気的特性を付与し、信頼性の高い半導体装置を作製する。
【解決手段】酸化物半導体膜を用いた半導体装置であるトランジスタにおいて、酸化物半導体膜から水素を捕縛する膜(水素捕縛膜)、および水素を拡散する膜(水素透過膜)を有し、加熱処理によって酸化物半導体膜から水素透過膜を介して水素捕縛膜へ水素を移動させる。具体的には、酸化物半導体膜を用いたトランジスタのゲート絶縁膜を、水素捕縛膜と水素透過膜との積層構造とする。このとき、水素透過膜を酸化物半導体膜と接する側に、水素捕縛膜をゲート電極と接する側に、それぞれ形成する。その後、加熱処理を行うことで酸化物半導体膜から脱離した水素を、水素透過膜を介して水素捕縛膜へ移動させることができる。 (もっと読む)


【課題】TFTの特性劣化を抑制しつつクロス容量を低下することが可能な表示装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】基板11上にゲート電極12および第1配線層21を形成したのち、全面にゲート絶縁膜13を形成する。次に、ゲート絶縁膜13上に半導体層14Aを形成したのち、半導体層14A上に第1保護膜15を形成する。第1配線層に対向する領域の半導体層14および第1保護膜15の除去およびその他の領域をエッチングにより加工する。次いで、全面に第2保護膜23を形成および加工したのち、ソース・ドレイン電極17および第2配線層24を形成する。これにより、チャネル層14表面の損傷が防止されると共に、配線部20のクロス容量が低減される。 (もっと読む)


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