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Fターム[5C094AA43]の内容

要素組合せによる可変情報用表示装置 (81,180) | 目的 (21,550) | 製造容易 (2,384)

Fターム[5C094AA43]に分類される特許

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【課題】物理的な版を必要とせず、微細な導電パターンを形成でき、パターン変更に対して柔軟に対応できる配線の形成方法を提供する。
【解決手段】本発明では、基板上に、エネルギー付与によって臨界表面張力が変化する材料を含有する濡れ性変化層を形成する工程と、前記濡れ性変化層に選択的にレーザ光を照射して、前記濡れ性変化層の臨界表面張力が高くなるように変化させた高表面エネルギー領域部を前記濡れ性変化層に形成する工程と、前記高表面エネルギー領域部に導電性インクを塗布し、前記高表面エネルギー領域部上に配線を形成する工程と、を有し、前記濡れ性変化層と前記高表面エネルギー領域部とには段差がなく、前記配線は前記高表面エネルギー領域部上に形成されていることを特徴とする配線の形成方法が提供される。 (もっと読む)


【課題】有機EL素子を用いた表示装置において、従来の製造工程数を増やすことなく、発光した光が発散し視野角特性が良好となる表示装置を提供する。
【解決手段】複数の有機EL素子を互いに隔壁13で分離し、該隔壁13の開口部の開口径L、該隔壁13の膜厚D、該隔壁13のテーパー部の幅A、封止保護膜16の膜厚Tが、0.1<(T×D)/(L×A)<1の関係を満たすように隔壁13及び封止保護膜16を形成することにより、封止保護膜16表面に形成された凹面形状によって、発光の発散効果を得る。 (もっと読む)


【課題】接着剤の流動を適切に制御することができるディスプレイパネルの製造方法及び当該製造方法から得られたディスプレイパネルを提供する。
【解決手段】本発明のディスプレイパネルの製造方法は、光電デバイスが配設されるデバイス面を含む第1基板と、接着剤によって前記デバイス面に接着される接着面と接着面を取り囲む側面とを含む第2基板とを、接着剤を用いて接着させた積層基板を含むディスプレイパネルの製造方法であって、デバイス面に光電デバイスを配設し、光電デバイス層を形成する第1工程と、デバイス面よりも狭い接着面に、接着剤を用いて、接着剤層を形成する第2工程と、第1基板と第2基板とを重ね合わせ、光電デバイス層を第2基板で覆う第3工程と、接着剤層を加圧し、第1基板と第2基板との境界から接着剤を流出させ、側面の一部を接着剤で覆う第4工程と、を備えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】製造コストを大幅に増大させずに情報を記録することができるとともに、情報を容易に再生することのできる電気光学装置、および電子機器を提供すること。
【解決手段】電気光学装置100の素子基板10において、外周領域10cに複数の容量素子56を形成しておき、外部からいずれの容量素子56に高い電圧を印加して絶縁破壊させるかによって、電気光学装置100の一つ一つにID等情報を記録する。容量素子56は、ダミー画素100bに設けた蓄積容量55であり、データ線6a、走査線3aおよび容量線5bのうち、外周領域10cで延在している部分を配線として利用して、容量素子56への電圧印加および信号検出を行う。 (もっと読む)


【課題】信頼性の高い半導体装置、及び該半導体装置の作製方法を提供する。半導体装置を歩留まりよく作製し、高生産化を達成する。
【解決手段】ゲート電極層、ゲート絶縁膜、酸化物半導体膜が順に積層され、酸化物半導体膜に接するソース電極層及びドレイン電極層が設けられたトランジスタを有する半導体装置において、エッチング工程により、ソース電極層及びドレイン電極層を形成後、酸化物半導体膜表面及び該近傍に存在するエッチング工程起因の不純物を除去する工程を行う。 (もっと読む)


【課題】第1、第2グラフィック画像を個別又は一緒にユーザに選択的に表示する利便性の高い表示装置の提供。
【解決手段】偏光フィルタアセンブリ2と、アセンブリを背面照射する偏光照射源3と、第1、第2グラフィック画像を夫々生成する第1、第2偏光5、6を選択的に提供する光源を起動する手段4とを備え、偏光フィルタアセンブリ2は互いに結合した第1、第2表示要素13、14を備え、第1、第2表示要素は夫々第1、第2偏光パターンを有し、第1、第2パターンは夫々第1、第2偏光5、6で照射されると第1、第2グラフィック画像を生成し、第1、第2表示要素13、14の第1、第2基板層16、17上に夫々第1、第2偏光パターンを提供する透明な第1、第2偏光層18、19を備え、第1表示要素13は偏光フィルタアセンブリ2を形成するために第1、第2偏光層18、19間のインターフェース15に沿って第2表示要素14に結合される。 (もっと読む)


【課題】予め碁盤目状にLEDの取付位置が設定されているLED取付板に、利用者が取付位置を選択して複数個のLEDを配置し、その複数個のLEDにより数字や文字などのパターンを形成できるようにし、簡易な構造にして、LEDそれぞれの位置を定め易く安価な表示板を提供する。
【解決手段】前面開口に光拡散板5を配したケースの内にある電源3と、砲弾型の複数のLED12と、碁盤目状のLED取付部11にLED12を抜き差し可能に保持するLED取付板4と、電源3からの電力供給によりLED取付部11に保持されたLED12それぞれを点灯可能にする配線手段と、人感センサ15の感応時にLED12と電源2との間の通電回路を閉成してLED12を点灯させる点灯手段とで、表示板1を構成した。 (もっと読む)


【課題】酸化物半導体を用いた半導体装置に安定した電気的特性を付与し、高信頼性化す
ることを目的の一とする。
【解決手段】第1の絶縁膜を形成し、第1の絶縁膜上に、ソース電極およびドレイン電極
、ならびに、ソース電極およびドレイン電極と電気的に接続する酸化物半導体膜を形成し
、酸化物半導体膜に熱処理を行って、酸化物半導体膜中の水素原子を除去し、水素原子が
除去された酸化物半導体膜に酸素ドープ処理を行って、酸化物半導体膜中に酸素原子を供
給し、酸素原子が供給された酸化物半導体膜上に、第2の絶縁膜を形成し、第2の絶縁膜
上の酸化物半導体膜と重畳する領域にゲート電極を形成する半導体装置の作製方法である
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【課題】額縁の領域をより狭くすることを可能とした表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の表示装置は、配列された複数の表示素子(120)と外周側に電源の配線層(107)とを有する基板(100)と、表示素子の相互間を分離するバンク層(113)と、複数の表示素子とバンク層とを覆う電極層(123)と、基板の外周部分と外周を一周する封止部(202)において接着剤などの接合手段(301)を介して接合して電極層を更に覆う封止基板(200)と、を備え、封止基板の外周を基板の外周の内側に位置し、電極層の外周部を封止基板の封止部(b+c)内にて電源の配線(107)と接続する。それにより、電極(123)と配線(107)との接続領域(c)を基板と封止基板との接合領域(b+c)として活用し、ガスバリア等のために所要の接合幅を確保しつつ表示装置の額縁の構成要素となる部分を減らす。 (もっと読む)


【課題】低コストかつ簡易なプロセスで保護膜を形成することが可能な半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体装置(TFT,バックプレーン等)は、ゲート電極と、ゲート絶縁膜を介してゲート電極と対向配置されると共に、有機半導体を含む半導体層と、半導体層の一部に電気的に接続され、ソースまたはドレインとして機能するソース・ドレイン電極と、半導体層上に設けられ、有機溶媒に可溶であると共に有機半導体と相分離する有機絶縁材料を含む保護膜とを備える。保護膜は、製造プロセスにおいて、有機溶媒に溶かされた状態(溶液の状態)で半導体層上に塗布(または印刷)されることにより形成される。有機溶媒によって半導体層の表面側の一部が溶け出すが、この溶けた部分は上記溶液と相分離する。保護膜に有機絶縁材料を用いる場合であっても、有機溶媒による半導体層の侵食の進行が抑制される。 (もっと読む)


【課題】隣接する開口部の内部へ有機半導体インクを塗布した際に、互いのインクの混合を抑制し、高い品質を備える薄膜トランジスタ装置とその製造方法、有機EL表示素子、および有機EL表示装置を提供する。
【解決手段】隔壁1016における開口部1016bを臨む側面部のうち、隣接する開口部1016cの側の側面部1016eは、側面部1016dを含む他の側面部よりも傾斜が相対的に急峻な斜面となっている。隔壁1016における開口部1016cを臨む側面部のうち、隣接する開口部1016bの側の側面部1016fは、側面部1016gを含む他の側面部よりも傾斜が急峻な斜面となっている。開口部1016bと開口部1016cとの各内部に対して、有機半導体インクを塗布した場合、X軸方向に互いに離れる方向に偏った表面プロファイルを有することになる。 (もっと読む)


【課題】有機半導体層の形成に際して、不所望の領域への有機半導体層の形成を抑制し、且つ、隣接する開口部間でのインクの混合を抑制することにより、高い品質を備える薄膜トランジスタ装置とその製造方法、有機EL表示素子、および有機EL表示装置を提供する。
【解決手段】隔壁1016には、3つの開口部1016a,1016b,1016cが開けられている。開口部1016b,1016cの各底部には、ソース電極1014a,1014b、ドレイン電極1014c,1014dが露出し、各々がチャネル部として機能する部分である。開口部1016bを臨む側面部のうち、側面部1016d,1016eは、側面部1016iに比べ、傾斜が相対的に急峻な斜面である。開口部1016cを臨む側面部のうち、側面部1016fは、側面部1016jに比べ、傾斜が相対的に急峻な斜面である。 (もっと読む)


【課題】製造容易な表示装置を提供する。
【解決手段】複数の導光部のそれぞれは、一端と、他端と、一端から他端に向かう第1方向に沿って延在する側面と、を有する。複数の導光部は、第1方向に対して交差する第2方向に、互いに離間しつつ並ぶ。光源は、導光部の一端から導光部中に光を入射させる。支持基板は、導光部の側面に接する第1主面と、第1主面とは反対側の第2主面と、を有し、前記側面に接する部分が透明である。第1電極は、第2主面に設けられた光透過性の電極である。対向基板は、第2主面と対向し、第1電極と離間して設けられる。第2電極は、対向基板の前記第2主面と向かい合う面に設けられた光透過性の電極である。複数のスペーサは、支持基板と対向基板との間に設けられ、第1方向及び第2方向に対して平行な平面に射影したときに、複数の導光部間に配置される。 (もっと読む)


【課題】微細な構造であっても高い電気特性を有するトランジスタを提供する。
【解決手段】酸化物半導体層、及びチャネル保護層を覆うようにソース電極層、及びドレイン電極層となる導電膜を形成した後、酸化物半導体層、及びチャネル保護層と重畳する領域の導電膜を化学的機械研磨処理により除去する。ソース電極層、及びドレイン電極層となる導電膜の一部を除去する工程において、レジストマスクを用いたエッチング工程を用いないため、精密な加工を正確に行うことができる。また、チャネル保護層を有することにより、導電膜の化学的機械研磨処理時に当該酸化物半導体層に与える損傷、または膜減りを低減できる。 (もっと読む)


【課題】発光効率が高く、低駆動電圧、長寿命であり、かつ経時安定性に優れ、さらにウェットプロセスによる生産適性を有する半導体ナノ粒子分散液、有機エレクトロルミネッセンス素子、該有機エレクトロルミネッセンス素子を備えた照明装置及び表示装置を提供する。
【解決手段】半導体ナノ粒子が含フッ素アルコールに分散されたことを特徴とする半導体ナノ粒子分散液。 (もっと読む)


【課題】アクティブマトリクス型基板において、薄膜トランジスタと、その端子接続部を同時に作り込み、少ないマスク数で歩留まりの良い表示装置を提供する。
【解決手段】画素部および外部入力端子を有する表示装置であって、画素部は、ゲート電極と、半導体膜と、ゲート電極上に形成された絶縁膜、および絶縁膜上に半導体膜と電気的に接続された電極を有するTFTを有し、外部入力端子は、ゲート電極と同じ層に形成された第1の配線と、電極と同じ層に形成され、絶縁膜に形成されたコンタクトホールを介し第1の配線と接続された第2の配線と、第2の配線に接続され、第2の配線上に形成された透明導電膜と、第2の配線と透明導電膜が接続している位置で透明導電膜と電気的に接続するフレキシブルプリント配線板を有する表示装置。 (もっと読む)


【課題】信頼性の高い半導体装置を提供する。該半導体装置を作製する。半導体装置を歩留まりよく作製し、生産性を向上させる。
【解決手段】ゲート電極層、ゲート絶縁膜、酸化物半導体膜が順に積層され、酸化物半導体膜に接するソース電極層及びドレイン電極層が設けられたトランジスタを有する半導体装置において、エッチング工程によりゲート電極層、又はソース電極層及びドレイン電極層を形成後、ゲート電極層又は酸化物半導体膜表面及び該近傍に存在するエッチング工程起因の残留物を除去する工程を行う。 (もっと読む)


【課題】微細な構造であっても高い電気的特性を有するトランジスタを歩留まりよく提供する。該トランジスタを含む半導体装置においても、高性能化、高信頼性化、及び高生産化を達成する。
【解決手段】チャネル形成領域、及びチャネル形成領域を挟む低抵抗領域を含む酸化物半導体膜、ゲート絶縁膜、及び上面及び側面を覆う酸化アルミニウム膜を含む絶縁膜が設けられたゲート電極層が順に積層されたトランジスタを有する半導体装置において、ソース電極層及びドレイン電極層は、酸化物半導体膜及び酸化アルミニウム膜を含む絶縁膜の上面及び側面の一部に接して設けられる。 (もっと読む)


【課題】表示むらを抑制すること、又は異なる画素におけるトランジスタ特性のばらつきを低減すること、あるいは、発光素子の劣化等に伴う輝度の低下を抑制する事が可能な発光装置を提供する。
【解決手段】基板100の上に設けられたトランジスタ121と、発光素子109とを具備する画素部120を有し、トランジスタは、チャネル形成領域を形成する単結晶半導体層122を有し、基板と単結晶半導体層との間に、酸化シリコン層が設けられており、トランジスタのソース又はドレインと発光素子の電極とが電気的に接続され、発光素子の発光時にトランジスタを飽和領域で動作させる。また、発光素子の階調表示を、トランジスタのゲートに印加する電位を変化させることによって行う。 (もっと読む)


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