【課題】データ線の配線構造に起因する寄生容量によって生ずるスジ状の系列的な表示ムラが改善された電気光学装置、この電気光学装置を備えた電子機器を提供すること。
【解決手段】電気光学装置としての液晶装置１００は、画像信号が供給される画像信号線１１１と、データ線６ａと、データ線６ａと画像信号線１１１との間に電気的に接続され、画像信号をデータ線６ａに供給する第１および第２トランジスターとしてのサンプリングトランジスター（Ｓ−ＴＦＴ）７１と、を備え、Ｓ−ＴＦＴ７１のゲート電極とデータ線６ａとが絶縁膜を介して重なるオーバーラップ量が異なる少なくとも２種のＳ−ＴＦＴ７１を備えた。これにより、ゲート電極とデータ線６ａとの間に寄生容量が生じ、オーバーラップ量を異ならせることで、それぞれのデータ線６ａが構造的に有する寄生容量を調整することができ、スジ状の系列的な表示ムラを改善できる。 （もっと読む）

【課題】封止性能を低減させることなく狭額縁化を実現することが可能な表示装置を提供する。
【解決手段】液晶表示装置１Ａは、駆動側基板１０および対向基板１８間に設けられると共に、複数の画素を有する画素部１０Ａと、駆動側基板１０上において、画素部１０Ａの周辺の額縁領域１０Ｂに配設されたトランジスタＴＦＴ１１と、額縁領域１０Ｂにおいて、トランジスタＴＦＴ１１を被覆して設けられた平坦化膜１３（絶縁膜）と、画素部１０Ａを封止すると共に平坦化膜１３の端縁部１３ｅを覆って設けられたシール層１９とを備えたものである。 （もっと読む）

【課題】製造コストを抑制しつつ、広い視野角特性を有しつつ透過率を向上し、表示品位の良好な画像を表示することができる液晶表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 各画素ＰＸに対応して配置された画素電極ＥＰを備えたアレイ基板ＡＲと、このアレイ基板ＡＲに対向配置され複数の画素ＰＸに共通の対向電極ＥＴを備えた対向基板ＣＴと、アレイ基板ＡＲと対向基板ＣＴとの間に保持された液晶層ＬＱと、を備え、画素電極ＥＰは、帯状の第１主電極部ＥＰａを有し、対向電極ＥＴは、第１主電極部ＥＰａとの間に横電界を形成するように第１主電極部ＥＰａと交互に平行に配置された帯状の第２主電極部ＥＴａを備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 絶縁性基板上の接続端子に駆動ＩＣを直接実装する表示装置において、生産コストアップを生じることなく、金属配線の露出による絶縁性低下、腐食を発生させることもなく、高い接続信頼性を得る。
【解決手段】 絶縁性基板１上に形成された金属配線と、金属配線上に形成された無機絶縁膜１２と、無機絶縁膜上に形成された有機樹脂膜１３と、金属配線上の無機絶縁膜１２および有機樹脂膜１３を除去した部分に形成された透明導電膜１０と、絶縁性基板１上の表示領域外の駆動ＩＣ４実装領域に形成された接続端子７と、表示領域に信号を供給するために、異方性導電膜５によって接続端子７と接続される駆動ＩＣ４のバンプ９とを備えた表示装置であって、駆動ＩＣ４実装領域において、金属配線上以外の領域の無機絶縁膜１２と有機樹脂膜１３とを除去したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】製造コストの削減が可能な薄膜トランジスタ回路基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 チャネル領域、前記チャネル領域を挟んだ両側にソース領域及びドレイン領域を有する酸化物半導体薄膜と、前記酸化物半導体薄膜と同一材料によって形成され、第１低抵抗部及び第２低抵抗部を有する第１容量形成部と、前記酸化物半導体薄膜の前記チャネル領域上及び前記第１容量形成部の前記第１低抵抗部上に形成されるとともに、前記酸化物半導体薄膜の前記ソース領域及び前記ドレイン領域及び前記第１容量形成部の前記第２低抵抗部を露出するゲート絶縁膜と、を備え、前記酸化物半導体薄膜のうち、前記ソース領域と前記ドレイン領域との間の前記チャネル領域の長さＬ１は、前記第１容量形成部のうち、前記ゲート絶縁膜が積層された端部から前記第２低抵抗部に至るまでの長さＬ２よりも短い。 （もっと読む）

【課題】多層配線構造を有する配線基板において、上層配線の断線等による歩留まりの低下を抑制し、信頼性を向上させることのできる配線基板の製造方法、発光装置及び電子機器を提供する。
【解決手段】配線基板の製造方法は、基板１００上に形成されたＡｌ−Ｎｉ合金膜１０２上に保護膜としてＭｏ合金膜１０４を形成する工程と、Ｍｏ合金膜１０４上にレジスト１０５を形成する工程と、Ａｌ−Ｎｉ合金膜１０２をエッチングして、基板１００側の幅がその反対側の幅よりも大きい順テーパ形状を有する信号線Ｌｄを形成する工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】ＥＬ膜、陰極の断線を防止する技術を提供することを課題とする。陰極と陽極に
挟まれた部分で、ＥＬ膜の膜厚が局所的に薄くなることを抑えることができ、ＥＬ膜に局
所的に電界が集中することを防ぐことができる。
【解決手段】陽極１００上に絶縁膜１０１を形成し、絶縁膜１０１上にＥＬ膜１０２、陰
極１０３を形成したＥＬ素子において、絶縁膜１０１の下端部、上端部を曲面形状とする
。また、絶縁膜１０１の中央部のテーパー角を３５°以上７０°以下とする。 （もっと読む）

【課題】表示部の密封機能を向上させることができる表示装置および有機発光表示装置を提供する。
【解決手段】表示装置は、基板と、基板上に形成された表示部と、表示部を囲む接合層によって基板に固定されて樹脂マトリックスと複数の炭素繊維を含む複合部材および複合部材に結合して貫通ホールを形成する絶縁部材を備えた密封基板と、基板に向かう密封基板の一面に位置する金属膜と、貫通ホールを満たして金属膜と接する導電性の連結部とを含む。 （もっと読む）

【課題】本発明は、走査回路の動作の安定性と静電気対策の両方を兼ね備えた表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】表示装置は、１つのグループの画素１０をそれぞれ選択するための複数の走査線３８と、走査信号が入力される少なくとも１つの走査線３８を選択する制御のためのパルス信号が供給される制御線４２と、パルス信号によって制御される薄膜トランジスタを含み複数の走査線３８に接続され表示領域１２の外側に配置された走査回路４０と、交差する方向に延びる複数の導電線からなる導電メッシュ４６と、を有する。導電メッシュ４６は、画素１０領域を避けて、薄膜トランジスタ及び走査線３８の上方に配置されている。導電メッシュ４６を構成するそれぞれの導電線は、走査線３８の上方では、走査線３８と平行にならないように立体交差する。 （もっと読む）

【課題】パネルの電極引き出し線間での絶縁破壊の発生を抑制し、もって良好な画像表示が可能なパネルを実現することを目的とする。
【解決手段】薄型ディスプレイパネルは、対向する、２枚の基板の周辺部を封着層５０にて接合した構造である。その２枚の基板の一方には、隣接して配設された複数の電極３２を備える。電極３２における引き出し５１は、屈曲部５１ａ，５１ｂを有し、その屈曲部のうち、配設ピッチが最も狭くなっている箇所における屈曲部５１ａを覆って封着層５０が配設されている。 （もっと読む）

【課題】高品位な画像表示が可能な液晶表示装置等の電気光学装置において、比較的簡便にシール材を硬化する。
【解決手段】電気光学装置は、一対の基板（１０、２０）と、画素領域（１０ａ）の周囲のシール領域（１０ｂ）に配置され、一対の基板を接着する光硬化型のシール材（５２）と、導電層（１１、７１）と、画素領域、及びシール領域の更に周囲に位置する周辺領域（１０ｃ）において遮光性材料で導電層の表面を覆うことにより、導電層のうちシール領域に配置された部分の表面が少なくとも部分的に露出するように形成された反射防止膜（１４）とを備える。 （もっと読む）

【課題】マスクを用いて蒸着を行った際、構成材料がマスクに付着してその一部が剥離し、封止欠陥等を引き起こしてしまうことを防止した、有機ＥＬ装置の製造方法及び有機ＥＬ装置を提供する。
【解決手段】画素電極２０と対向電極６０との間に、少なくとも有機発光層を含む有機機能層４０を有してなる有機Ｅ素子を備えた有機ＥＬ装置の製造方法である。基板１０上に画素電極２０を形成する工程と、画素電極２０を囲って隔壁３４を形成する工程と、画素電極２０上及び隔壁３４上に有機機能層４０を形成する工程と、有機機能層４０上に対向電極６０を形成する工程と、を含む。対向電極６０を形成する工程は、対向電極６０の、有機機能層４０と反対の側に、フッ素含有層６０ｂを形成する工程を備えている。 （もっと読む）

【課題】極性の偏向による画質の低下を防止することのできる表示装置を提供する。
【解決手段】表示装置は、基板の上に具備され、第１方向に延長された複数のゲートライン２０と、複数のゲートライン２０と交差する複数のデータライン３０と、各々が四つの副画素を含む複数の主画素と、複数のデータライン３０に連結され、第１伝送部８１と第２伝送部８２とを有し、複数のデータ信号を副画素に伝達する伝送部８０と、を含み、第１伝送部８１は、互いに交差する少なくとも一対の伝送ライン４０を含み、第２伝送部８２は、互いに交差しない少なくとも一対の伝送ライン４０を含む。 （もっと読む）

【課題】画像表示素子の配線接続部における温度上昇とそれに伴う接続抵抗の上昇を抑え，安定した配線接続によって配線接続部の信頼性を向上させる画像表示素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】裏面基板２は隣り合う複数の画素列の間で電極に繋がる電極端子４が露出するように分割されると共に，この分割部分に前面基板１との対向面の裏側（裏面側）にある上部が底部より幅広の形状を有するように二つの加工面２ｂ，２ｃにより構成される溝部３が形成され，信号用金属配線５ａが溝部３の一方の加工面２ｂに沿って溝部３に露出した電極端子４に接続されるように形成されると共に，信号用金属配線５ａが防湿性コート剤７によって覆われた画像表示素子において，裏面基板２の前面基板１との対向面の裏側（裏面側）に放熱用部材５ｂを設けた。 （もっと読む）

【課題】金属の腐食を抑制することができる表示パネル、表示パネル基板及び表示装置を提供する。
【解決手段】単体の液晶表示パネルが複数含まれる基板である液晶表示パネル基板の切断線３２０付近において、コモン信号線３７０は、ガラス基板３７５上に成膜された透明導電膜３７２と、この透明導電膜３７２上に金属配線として成膜された銅配線３７１とで構成されており、このうち銅配線３７１が切断線３２０の手前で終端し、透明導電膜３７２のみが切断線３２０を越えて、コモン信号線検査領域３１６にまで延び、コモン信号共通線３１７の一部を形成している。また、コモン信号線検査領域３１６における透明導電膜３７２上には、切断線３２０を挟んで終端した銅配線３７１に対向して、銅配線３７３が形成され、透明導電膜３７２と共にコモン信号共通線３１７を形成している。 （もっと読む）

【課題】簡単なプロセスを以って、コントラストと明るさを向上させることができる電気光学装置及び電気光学装置の製造方法並びに電子機器を提供する。
【解決手段】電気光学装置の製造方法は、基板上に第１導電膜９ｂをパターニング形成する工程と、基板及び第１導電膜９ｂ上に絶縁膜８ｂを形成する工程と、絶縁膜８ｂを平坦化処理して、絶縁膜８ｂから第１導電膜９ｂの上面を露出させる工程と、絶縁膜８ｂ上であって、平面視で第１導電膜９ｂの上面と重なり、第１導電膜９ｂと電気的に接続するように第２導電膜９を形成する工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】効率的にタッチパネル電極付カラーフィルタ基板を得ることができる製造方法を提供する。
【解決手段】まず、ガラス基板２の一方面に、第１透明電極３１、第１絶縁膜４１、第２透明電極３２及び金属電極３を形成する。次に、最上層の第２透明電極３２及び金属電極３３の表面全体を覆うように、第２透明絶縁膜４２を形成する。次に、ガラス基板２の他方面にカラーフィルタ層５を形成する。このとき、第２透明絶縁膜４２は金属電極３３の保護膜として機能する。最後に、金属電極３３を覆う第２透明絶縁膜４２の少なくとも一部を選択的に除去する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、アルミニウム又はアルミニウム合金からなる膜の溶解を防止することを目的とする。
【解決手段】表示装置は、第１基板１０及び複数層の金属膜からなり、第１基板１０を最下層とする積層体１８を含む。最上層及び最下層を除く１層は、アルミニウム又はアルミニウム合金からなる第１金属膜２２である。第１金属膜２２の上の１層は、モリブデン、タングステン、クロム、チタン、酸化インジウムスズ、酸化インジウム亜鉛及び酸化インジウムスズ亜鉛からなるグループのいずれか１つの材料又は材料を含む合金からなる第２金属膜２４である。第２金属膜２４は、第１金属膜２２の上面を全て覆う第１部分２６と、第１金属膜２２の下の層に載るとともに第１金属膜２２の端面を覆う第２部分２８と、を含む。 （もっと読む）

【課題】駆動用トランジスタのゲートと有機ＥＬ素子のカソードとが画素内で電気的にショートしにくい配線構造を採用し、欠陥画素や線状の欠陥が発生しないようにすること。
【解決手段】本発明は、有機ＥＬ素子１Ｄ、書き込みトランジスタ１Ａ、駆動トランジスタ１Ｂ、保持容量１Ｃ、補助容量１Ｊを備える画素が行列状に配置される構成において、保持容量１Ｃと補助容量とが隣接して配置され、保持容量１Ｃの駆動トランジスタ１Ｂのゲート電極と導通する配線と、補助容量１Ｊの有機ＥＬ素子１Ｄのカソードと導通する配線とが異なる層に設けられている表示装置である。 （もっと読む）

【課題】ボトムゲート型の薄膜トランジスタにおいて、ソース電極とドレイン電極間に生じる恐れのある電界集中を緩和し、スイッチング特性の劣化を抑える構造及びその作製方法を提供する。
【解決手段】ソース電極及びドレイン電極上に酸化物半導体層を有するボトムゲート型の薄膜トランジスタとし、酸化物半導体層と接するソース電極の側面の角度θ１及びドレイン電極の側面の角度θ２を２０°以上９０°未満とすることで、ソース電極及びドレイン電極の側面における電極上端から電極下端までの距離を大きくする。 （もっと読む）