【課題】
短いチャネル長の酸化物半導体装置およびそれを低コストで実現することのできる製造方法を提供する。
【解決手段】
酸化物半導体装置において、チャネルとなる酸化物半導体層ＣＨと、第１方向に、酸化物半導体層ＣＨを介して延伸する第１の電極層（ソース又はドレイン）ＬＥおよび第２の電極層（ドレイン又はソース）ＵＥと、第１方向と交差する第２方向に延伸し、酸化物半導体層ＣＨと基板ＳＵに垂直な方向においてゲート絶縁層ＧＩを介して重なるゲート電極層ＧＥとを有し、酸化物半導体層ＣＨの膜厚がそのチャネル長となる。 （もっと読む）

【課題】画素電極の駆動素子として酸化物ＴＦＴを用いた表示装置の信頼性を向上させつつ、製造コストの低減を図ることを可能にした表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】画素電極および薄膜トランジタを有する複数の画素と、薄膜トランジタを駆動する信号線および走査線と、共通電極と、複数の画素と共通電極との間に配置される表示層とを備える表示部４を、第１のガラス基板２と第２のガラス基板３との間の間隙に設けた後、レーザ吸収能を有する封着用ガラス材料の焼成層からなる枠状の封着材料層１０にレーザ光１１を照射することによって、表示部４を封止する封着層９を形成する。 （もっと読む）

【課題】画像表示領域の端部と素子基板の端部との間で光硬化性のシール材に沿って配線を延在させた場合でも、シール材を確実に光硬化させることができるとともに、画像表示領域の外側でシール材および配線が占有する領域の幅寸法を縮小することのできる電気光学装置、および当該電気光学装置を備えた電子機器を提供すること。
【解決手段】電気光学装置１００では、素子基板１０の辺１０ｆと画像表示領域１０ａの端部とによって挟まれた領域に設けられた第１配線１１および第２配線１６のうち、配線幅寸法が広い第２配線１６は、シール材８０の内縁８１と画像表示領域１０ａの端部との間に設けられている。また、配線幅寸法が狭い第１配線１１は、シール材８０と重なる領域に設けられているが、シール材８０と重なる領域における第１配線１１の配線密度は、４０％から６０％である。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬパネルの取り出し用電極と第二電極とを低抵抗なコンタクト特性とすることで、高効率、長寿命、高輝度な有機ＥＬパネルを簡便で安価に提供すること。
【解決手段】有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルの取り出し用基板配線はキャリア注入層及び第二電極が積層されるコンタクトエリアを有し、コンタクトエリアの取り出し用基板配線表面には複数の凸状パターンが形成され、キャリア注入層は少なくとも、発光媒体層と、コンタクトエリアの取り出し用基板配線表面と、隔壁と、を覆うように形成され、第二電極はキャリア注入層上に形成されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルとしたもの。 （もっと読む）

【課題】発光素子の劣化を極力抑えるための構造を提供すると共に、各画素に必要とされる容量素子（コンデンサ）を十分に確保するための構造を提供する。
【解決手段】トランジスタ上に、第１パッシベーション膜１１８、第２の金属層１２０、平坦化膜１２１、バリア膜１２２及び第３の金属層１２４の順に積層され、平坦化膜１２１に設けられた第１開口部の側面がバリア膜１２２に覆われ、第１開口部の内側に第２開口部を有し、かつ、第３の金属層１２４は前記第１開口部及び第２開口部を介して前記半導体に接続され、トランジスタの半導体１１９、ゲート絶縁膜１１３、ゲート電極１１４、第１パッシベーション膜１１８及び前記第２の金属層１２０で積層形成された容量素子Ｃｓ２４を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】画品位に影響を及ぼす、２層目の平坦化膜のコンタクト部を自由にレイアウトできるようにする。
【解決手段】回路部が形成された基板表面を平坦化するための平坦化膜を、基板上に順に積層された第１，第２の平坦化膜７４，７７からなる２層構造とする。そして、第１，第２の平坦化膜７４，７７間に中継配線７６を形成し、この中継配線７６によって、第１の平坦化膜７４に形成され、トランジスタ（ＴＦＴ）７２を含む回路部に接続された第１のコンタクト部７５と、第２の平坦化膜７７の第１のコンタクト部７５と平面視で異なる位置に形成された第２のコンタクト部７５とを電気的に接続する。 （もっと読む）

【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の強化ガラス基板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量％でＳｉＯ_２ ４０〜７１％、Ａｌ_２Ｏ_３ ３〜２１％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜３．５％、Ｎａ_２Ｏ ７〜２０％、Ｋ_２Ｏ ０〜１５％を含有すると共に、表面粗さ（Ｒａ）１０Å以下の未研磨の表面を有し、オーバーフローダウンドロー法で成形されてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
厚み０．５〜３００μｍの長尺なガラスフィルムを巻き取ってガラスロールを作製した際に、ガラスロールの内層部に位置するガラスフィルムの破損を抑制すること。
【解決手段】
厚みが０．５〜３００μｍであり、密度が２．４５ｇ／ｃｍ^３未満のガラスフィルム１０をロール状に巻き取ることによって、ガラスロール１５を作製する。 （もっと読む）

【課題】外光反射光により形成される反射像の色割れを低減することができ、周囲環境の影響を抑制することが可能となる画像表示装置を提供する。
【解決手段】複数の画素で構成された画像表示装置であって、
前記画素は、発光層と、該発光層から生じた光を取り出すための構造層を有し、
前記構造層は、第１の媒質により形成された複数の構造体が、該第１の媒質と異なる屈折率を有する第２の媒質により形成された層中に非周期的に配列され、前記画像表示装置の画面と平行な面内方向に屈折率分布を有する構造を備え、
前記非周期的に配列された構造によって、外光反射光が重なり範囲を有するように反射させ、該外光反射光により形成される反射像の色割れを低減する構成とする。 （もっと読む）

【課題】光取り出し効率の最適化を行って光取り出し効率を更に向上させる。
【解決手段】ＥＬ素子１は、第一の基板１Ａと、その一方の面に設けた陽極３と陰極４とに挟まれた発光層２とを備えた。第一の基板１Ａの光出射側の面に設けた光制御シート５は、基層７の表面に間隔を空けて配列したマイクロレンズを構成する複数の第１凹凸部１４と、第１凹凸部１４同士の隙間を埋めて第１凹凸部１４より高さの低いプリズムからなる複数の第２凹凸部１５とを有する。基層７の表面の面積をＳ１とし、表面に接する第１凹凸部１４の面積の和をＳ２として、下記（１）式を満足する。第１凹凸部１４は第２凹凸部１５より光の外部取り出し効率が大きく、第１凹凸部１４の面積率Ｓ２／Ｓ１が大きくなると光の外部取り出し効率が大きくなる。
０．１≦Ｓ２／Ｓ１≦π／２√３ …（１） （もっと読む）

【課題】
ＦＰＤの薄型化を可能にする実用的な技術を提供する。
【解決手段】
一対のガラス基板１の一方に電極を形成してガラス基板をシール材を介して貼り合わせ、内部を封止した後、ガラス基板の外面をエッチング研磨して厚さを薄くする。ノズルに対して相対的にガラス基板を移動させながら、酸性弗化アンモニウムを主成分とする溶出液をノズルからガラス基板の外面に向けて静かに噴射する。溶出液は重力のみによる加速度により、０．５ｋｇ／ｃｍ^２以下の圧力でガラス基板外面に吹き付ける。外面は溶出液により溶出され、溶出液の化学的作用を利用して外面が研磨される。 （もっと読む）

【課題】画像表示装置のコストおよび性能曲線を改善するための新規なサブ画素配置が開示される。
【解決手段】液晶ディスプレイであって、第１の方向に偶数のサブ画素を有するサブ画素繰り返し集団から実質的に構成されるパネルと、パネルに画像データおよび極性信号を送るドライバと、を備えており、ドライバは、実質的に一貫する輝度エラーを有する複数のサブ画素に修正信号を送信することを特徴とする液晶ディスプレイが開示される。また、極性信号は、ドット反転方式であることを特徴とする液晶ディスプレイが開示される。 （もっと読む）

【課題】電気光学ディスプレイを提供すること。
【解決手段】電気光学ディスプレイは、基板（１００）と、該基板（１００）の実質的に１つの面に配置された非線形デバイス（１０２）と、該非線形デバイス（１０２）と接続されている画素電極（１０６）と、電気光学媒体（１１０）と、該画素電極（１０６）に対して該電気光学媒体（１１０）の反対面上の共通電極（１１２）とを備える。該ディスプレイの様々なパーツの係数は、該ディスプレイが湾曲しているとき、中立軸または中立面が該非線形デバイス（１０２）の該平面に実質的に横たわっているように調製されている。 （もっと読む）

【課題】６００℃〜７００℃の高温であっても高い耐酸化性と低抵抗を両立し、かつ低コストで形成可能な配線材料を提供する。
【解決手段】基板上に形成される銅配線と、銅配線上に５０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の膜厚で形成される５０重量％以上のアルミニウムを含有する銅合金薄膜と、を具備する配線部材を用いる。上記銅配線の膜厚は、１μｍ以上５０μｍ以下である。基板と銅配線の間には下地層が配置されている。配線部材の電気抵抗率は、４×１０^-6Ωcm以下である。 （もっと読む）

【課題】薄膜トランジスタ及びその製造方法、並びにそれを含む有機電界発光表示装置を提供する。
【解決手段】基板と、前記基板上に位置し、チャンネル領域、イオンを含むソース／ドレイン領域及びオフセット領域を含む半導体層と、前記半導体層上に位置するゲート絶縁膜と、前記ゲート絶縁膜上に位置するゲート電極と、前記ゲート電極上に位置する第１絶縁膜と、前記第１絶縁膜上に位置する第２絶縁膜と、前記第２絶縁膜上に位置し、前記半導体層のソース／ドレイン領域とそれぞれ電気的に接続されるソース／ドレイン電極とを含み、前記ソース／ドレイン領域上の前記ゲート絶縁膜及び前記第１絶縁膜の厚さの合計は、０を超え前記ソース／ドレイン領域に含まれたイオンの垂直浸透深さより小さいことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】アルミを主成分とした散乱形状を有する反射層の反射率を簡便に高めることが可能な製造方法を提供すること。
【解決手段】浸漬工程において、アルミを主成分とした金属からなる反射層７を２０〜６０ｗｔ％の範囲内の燐酸を含むエッチング溶液中に浸漬することにより、微細な凹凸を有する反射層７の表面を溶かして滑らかにすることができる。また、燐酸の濃度が２０〜６０ｗｔ％の範囲内であるため、浸漬条件を出し易く、表面の凹凸面のみを安定的に滑らかにすることができる。従って、アルミを主成分とした金属からなる反射層の反射率を簡便に高めることが可能な反射層の製造方法を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】金属酸化物半導体層を薄膜トランジスターのチャネル領域として使用した場合でも薄膜トランジスターのオン／オフ比の低下やオン電流のばらつきが発生しない半導体装置の製造方法、半導体装置、該半導体装置を備えた電気光学装置、および該電気光学装置を備えた電子機器を提供すること。
【解決手段】薄膜トランジスター１ｃのチャネル領域７ｃを酸化物半導体層により構成するにあたって、高抵抗の酸化物半導体層からなる半導体層７ａを用いるため、プラズマの影響によって、半導体層７ａの抵抗値が低下する問題が発生しにくい。また、半導体層７ａに接するように易酸化性金属層５ａを形成しておき、加熱工程によって、半導体層７ａ（酸化物半導体層）から易酸化性金属層５ａに酸素を移動させるため、半導体層７ａの抵抗値を下げることができる。 （もっと読む）

【課題】光取り出し効率に優れる発光素子用の光学基板を提供する。
【解決手段】透明基板上にこの透明基板より屈折率が低い低屈折率層を設け、この低屈折率層上にＳｉ−Ｏ−Ｃ構造を有する成分を含むゾル溶液をコートし、乾燥後、紫外線照射により密度を増加させ、前記低屈折率層より表面粗さが小さく、Ｓｉ−Ｏ−Ｃ構造を有するゾルゲル膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】表面が撥液性に優れたパターン付き基板を簡便な手法で形成することを目的とする。
【解決手段】支持フィルム上に含フッ素化合物層が積層された含フッ素化合物層積層フィルムであって、該含フッ素化合物層は含フッ素化合物を３０〜１００質量％含有する組成物からなり、含フッ素化合物層の積層量が支持フィルム１ｍ^２あたり１〜４０ｍｍ^３であることを特徴とする含フッ素化合物層積層フィルム。 （もっと読む）

【課題】ディスプレイ用の各画素を制御するための回路チップや発光ダイオードなど、半導体チップが埋め込まれたディスプレイ用基板を、品質よく、高い生産性のもとで効率的に作製するための基板用樹脂シート、及びそれを用いて得られた基板用シートを提供する。
【解決手段】半導体チップが埋め込まれる樹脂層と、活性エネルギー線硬化型樹脂材料及び／又はその硬化物からなる、支持基板に対する密着層とを有することを特徴とする基板用樹脂シート、及び該基板用樹脂シートに半導体チップが埋め込まれてなる基板用シートである。 （もっと読む）