【課題】磁気記録媒体とした際に環境変化による寸法変化が少なく、保存安定性に優れ、スリット性と巻き姿が良好である二軸配向ポリエステルフィルムを提供すること。
【解決手段】一方の表面を構成するＣ層を有する、少なくとも２層の積層構成を有する二軸配向ポリエステルフィルムであって、Ｃ層側表面のろ波中心線うねりが０．５ｎｍ以上１０ｎｍ未満であり、Ｃ層側表面と反対側の表面とを重ね合わせたときの空気漏れ指数が３，０００〜６，０００秒であり、幅方向の湿度膨張係数が０〜６ｐｐｍ／％ＲＨであり、長手方向の屈折率ｎＭＤと幅方向の屈折率ｎＴＤと厚み方向の屈折率ｎＺＤの平均で示されるｎ＿ｂａｒ（（ｎＭＤ＋ｎＴＤ＋ｎＺＤ）／３）が１．５９０〜１．６８０である二軸配向ポリエステルフィルムとする。 （もっと読む）

【課題】ＨＤＤとしたときに、磁気ディスクに記録されているTrack情報を含むサーボ情報を安定に読み出すことを実現できる磁気記録媒体用ガラス基板を提供する。
【解決手段】本発明のガラス基板１は、内孔の全周に亘る形状プロファイルより算出されるSkおよび／またはKu、あるいはスキューネスを加味した修正同軸度ＡＣの値が所定の範囲内である。 （もっと読む）

【課題】酸化ジルコニウムを研磨材として含有する研磨液を用いてガラス基板の主表面を研磨するときに、ナノピット、ナノスクラッチが生じ難くするようにした磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク、及び磁気記録再生装置を提供すること。
【解決手段】モノクリニック結晶構造（Ｍ）とテトラゴナル結晶構造（Ｔ）を有する酸化ジルコニウム砥粒を研磨材として含有する研磨液を用いてガラス基板の主表面を研磨する研磨工程を有する。 （もっと読む）

【課題】優れた耐衝撃性を有し、読み書きエラーの発生頻度が少ないＨＤＤ用ガラス基板およびＨＤＤ用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】中心孔を形成する内周端面に圧縮応力層とイオン交換層とを有し、主表面及び外周端面にイオン交換層を有さないことを特徴とするＨＤＤ用ガラス基板とする。中心孔を有する円盤状のガラス基板前駆体を用いたＨＤＤ用ガラス基板の製造方法であって、化学強化工程によって前記ガラス基板前駆体の全表面に厚みの合計が５０〜２００μｍである圧縮応力層とイオン交換層とを形成した後、外径研磨工程によって前記ガラス基板前駆体の外周端面に形成されたイオン交換層を除去し、研削工程及び／又は研磨工程によって前記ガラス基板前駆体の主表面に形成されたイオン交換層を除去することを特徴とするＨＤＤ用ガラス基板の製造方法を用いる。 （もっと読む）

【課題】平行度に優れた磁気記録媒体用ガラス基板を得ることが可能な磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法及び平行度に優れた磁気記録媒体用ガラス基板を提供する。
【解決手段】一対の主平面１１と、外周端面１２と、内周端面１３と、を有する磁気記録媒体用ガラス基板１０の製造方法であって、外周端面は外周側面部１２０と外周面取り部１２１とを有し、両面研磨装置を用いてキャリアに保持された磁気記録媒体用ガラス基板の主平面を研磨する主平面研磨工程を有し、主平面研磨工程で研磨される前の磁気記録媒体用ガラス基板は、外周端面において、磁気記録媒体用ガラス基板の中心角で１５度間隔に設けた計２４の外周端面測定箇所で表面粗さＲａを測定したとき、外周側面部の表面粗さＲａの最大値は０．５μｍ以下、標準偏差は０．２μｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】垂直配向型の磁気記録媒体に高密度で情報の記録を行うことができる簡易な構造の磁気ヘッド、および、この磁気ヘッドを用いた磁気記録方法を得ること。
【解決手段】非磁性体の支持体１１上に形成された磁性体層１２が、前記支持体１１の面方向に対して垂直方向に磁化容易軸を有する垂直配向型の磁気記録媒体１０に情報を書き込む磁気ヘッド１であって、磁気ギャップ４を挟んで対向する一対の磁極２、３を備え、前記一対の磁極の内の一方の磁極２の前記磁気記録媒体１０に対向する面が、前記一対の磁極の内の他方の磁極３の前記磁気記録媒体に対向する面よりも前記磁気記録媒体１０から後退して配置されている。 （もっと読む）

【課題】 高密度での記録が可能である大容量磁気記録テープ用ポリエステルフィルムとして、ベースフィルムの生産性、電磁変換特性に優れ、エラーが少なく、特に高密度磁気記録を可能とするデータ記録用テープ用途に好適なベースとなるポリエステルフィルムを提供すること。
【解決手段】ポリエステル層Ａとポリエステル層Ｂとを有し、ポリエステル層Ａのポリエステル層Ｂと反対側の表面Ａに皮膜層Ｉを有し、ポリエステル層Ｂのポリエステル層Ａとは反対側の表面を表面Ｂとする積層フィルムであって、以下の（ａ）〜（ｄ）を満足する磁気記録テープ用ポリエステルフィルムとする。
（ａ）表面Ａに設ける皮膜層Ｉは、平均粒径５〜６０ｎｍの不活性粒子Ｉが含まれ、皮膜層Ｉ上の平均面粗さＲａが２〜６ｎｍで、皮膜層Ｉ上の深さ７ｎｍ以上の凹みが５，０００個／ｍｍ^２以下である。
（ｂ）ポリエステル層Ａは、実質的に不活性粒子を含有しないポリエステル層で、層厚みが３．０μｍ以上である。
（ｃ）ポリエステル層Ｂは、平均粒径０．１〜１．０μmの不活性粒子Ｂを含有するポリエステル層である。
（ｄ）表面Ｂは、平均面粗さＲａが８〜２０ｎｍ、かつ十点平均面粗さＲｚが３００ｎｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】六方晶系フェライト粉末の磁性層を使用してもカッピングを所定の範囲に収めることができ、優れた電磁変換特性を発現できるベースフィルムの提供。
【解決手段】磁性層が六方晶系フェライト粉末を使用した塗布型磁気記録テープのベースフィルムに用いる二軸配向積層フィルムであって、二軸配向積層フィルムは、磁性層を形成する側の最外層に位置するＡ層と、磁性層を形成しない側の最外層に位置するＢ層とを有し、単位断面積あたり１．０ＭＰａの荷重をかけて３０℃から１１０℃に昇温したときのＡ層の幅方向の伸縮率（ＴＭＡａ）とＢ層の幅方向の伸縮率（ＴＭＡｂ）の差（ＴＭＡｂ−ＴＭＡａ）が、０．０５％以上１．５％未満である２軸配向積層フィルム。 （もっと読む）

【課題】パーティクル等の異物が基板表面に強固に付着する前に、基板表面に吸着し、これらの異物の強固な付着を防ぎ、後の洗浄工程で基板上の異物の残留を著しく減少させることが可能となる電子材料用表面保護剤を提供することを目的とする。
【解決手段】炭素数６〜２４の脂肪族第１級アミンのアルキレンオキサイド付加物（Ａ１）、炭素数８〜３６の脂肪族第２級アミンのアルキレンオキサイド付加物（Ａ２）、炭素数６〜２４の第１級アルカノールアミンのアルキレンオキサイド付加物（Ａ３）および炭素数８〜３６の第２級アルカノールアミンのアルキレンオキサイド付加物（Ａ４）からなる群から選ばれる１種以上のアルキレンオキサイド付加物（Ａ）並びに水を必須成分として含むことを特徴とする電子材料用表面保護剤を用いる。 （もっと読む）

【課題】磁気記録媒体用結合剤として好適なスルホン酸（塩）基含有ビニル系ポリマーを容易に得るための手段を提供すること。
【解決手段】タウリン、Ｎ−メチルタウリン、およびメタアミノベンゼンスルホン酸からなる群から選択されるスルホン酸基含有化合物とアルカリ金属水酸化物とをメタノール中で反応させて得られた第一液と、分子内にエポキシ基を有するビニル系ポリマーをケトン系溶媒中に含む第二液とを混合することにより、前記ビニル系ポリマーの側鎖にスルホン酸アルカリ金属塩基を導入する付加反応を行うことを特徴とするビニル系ポリマーの製造方法。 （もっと読む）

【課題】研磨パッドの硬度を調整することなく、１次研磨工程でガラス基板の端部形状を隆起状態に仕上げること。
【解決手段】ガラス基板の表面を粗研磨する１次研磨工程と、ガラス基板の表面を精密研磨する２次研磨工程とを含み、１次研磨工程では、ガラス基板を外周端部が中央部よりも隆起した状態に仕上げ、２次研磨工程では、ガラス基板の前記隆起状態をなくすように研磨する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、１次研磨工程では、研磨中にガラス基板の外周端部を研磨パッド２４と一時的に非接触状態とすることにより、ガラス基板の前記隆起状態を形成する。 （もっと読む）

【課題】塗布型磁気記録テープに用いても優れた電磁変換特性およびエラーレート特性を発現できるポリエステルフィルムの提供。
【解決手段】塗布型磁気記録テープに用いるベースフィルムであって、磁性層を形成する側の表面は表面粗さが４ｎｍ未満であり且つ該表面の波長１０μｍにおけるウネリ指数が０．２５以下であり、他方磁性層を形成しない側の表面は表面粗さが４〜１０ｎｍの範囲であり、幅方向の温度膨張係数が−５〜１ｐｐｍの範囲にある積層ポリエステルフィルム。 （もっと読む）

【課題】塗布型磁気記録テープに用いても優れた電磁変換特性およびドロップアウト特性を発現できるポリエステルフィルムの提供。
【解決手段】塗布型磁気記録テープに用いるベースフィルムであって、磁性層を形成する側の表面は表面粗さ（ＲａＡ）が４ｎｍ未満であり、他方磁性層を形成しない側の表面は、表面粗さ（ＲａＢ）が４〜１０ｎｍの範囲であり、高さが６０ｎｍ以上で且つ面積が１５０ｎｍ^２以上の突起が、２０個／０．０６ｍｍ^２以下である積層ポリエステルフィルム。 （もっと読む）

【課題】表面の清浄度を高く維持しつつ、平滑性を優れたものとすることができる情報記録媒体用ガラス基板を提供する。
【解決手段】情報記録媒体用ガラス基板は、原子間力顕微鏡を使用して、表面粗さ（Ｒａ）を１０μｍ四方の視野で１０視野以上測定した測定結果より算出される表面粗さ（Ｒａ）のばらつき率は、３％以下である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ガラス基板の面取り部にピット欠陥がないガラス基板の提供を目的とする。
【解決手段】磁気記録媒体用ガラス基板の内周端面研磨に用いる研磨ブラシとして、植毛部の幅が、積層されたガラス基板同士の積層幅（ガラス基板とスペーサを合わせた厚み。スペーサを使用しないガラス基板積層体の場合はガラス基板の厚み。）の１．１〜２．２倍である研磨ブラシを用いる。研磨工程終了後、ガラス基板の表面を、フッ酸や硝酸等を含む酸性のエッチング溶液を用いて５μｍエッチングし、面取り部に残留する加工変質層（キズなど）を等方的にエッチングして観察しやすい大きさのピット欠陥にした後、光学顕微鏡を用いて観察する。磁気記録媒体用ガラス基板１０の面取り部において、直径（または長径）が１０μｍ以上の円形状または楕円形状を有する凹をピット欠陥とし、その数を計測した。計測結果の面取り部のピット欠陥数は、５個／ｍｍ^２以下である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、平行度に優れる磁気記録媒体用ガラス基板の提供を目的とする。
【解決手段】ガラス基板を研磨する前の両面研磨装置の上定盤の研磨面と下定盤の研磨面の形状を、内周端における上定盤の研磨面と下定盤の研磨面との距離をＤｉｎとし、外周端における上定盤の研磨面と下定盤の研磨面との距離をＤｏｕｔとしたとき、ＤｏｕｔからＤｉｎを引いたΔＤ（＝Ｄｏｕｔ−Ｄｉｎ）を−３０μｍ〜＋２３μｍとしてガラス基板を研磨する工程を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法により、レーザ干渉計を用いて測定する磁気記録媒体用ガラス基板の少なくとも記録再生領域における前記両主平面の平行度が２．８μｍ以下である磁気記録媒体用ガラス基板を提供できる。 （もっと読む）

【課題】５００℃という高温に加熱されても平坦度の悪化や結晶粒の粗大化を抑制することのできる磁気ディスク用アルミニウム合金基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る磁気ディスク用アルミニウム合金基板は、Ｍｇを３．５質量％以上６質量％以下含有し、残部がＡｌおよび不可避的不純物からなり、５００℃で１０秒間加熱された前後における平坦度の変化量が５μｍ以下であり、かつ５００℃で１０秒間加熱された前後における平均結晶粒径の変化量が１０μｍ以下である。本発明に係る磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法は、前記した組成からなる磁気ディスク用アルミニウム合金基板について行う積み付け焼鈍を、２℃／分以下の昇温速度で３５０℃以上となるまで昇温し、３５０℃以上で２時間以上保持し、次いで、２℃／分以下の降温速度で冷却するという条件で行う。 （もっと読む）

【課題】 磁気テープ走行時に発生する１００℃以上の高温度下でも引張り破断強度等の樹脂の機械的強度が維持され、耐久性（耐熱性や耐摩擦性等）に優れる磁気記録媒体用バインダーを提供する。
【解決手段】 活性水素成分（Ａ）とポリイソシアネート成分（Ｂ）とを反応させてなるポリウレタン樹脂（Ｃ）からなる磁気記録媒体用バインダーであって、前記（Ａ）が１，２，４−ベンゼントリカルボン酸（無水物）（ｘ）と炭素数２〜１０の脂肪族ジオール（ｙ）とを必須成分として反応させてなるポリエステルポリオール（ａ１）を、前記（Ａ）と前記（Ｂ）の合計重量に対して０．２〜５０重量％含有することを特徴とする磁気記録媒体用バインダー。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、寸法安定性、特に温度や湿度といった環境変化に対する寸法安定性に優れた二軸配向ポリエステルフィルムおよび上記の寸法安定性に優れた二軸配向ポリエステルフィルムを提供しうるポリエステルの提供。
【解決手段】４、４´−（アルキレンジオキシ）ビス安息香酸成分およびフェニレン基またはナフタレンジイル基にジカルボン酸が付加した芳香族ジカルボン酸成分とアルキレングリコールまたはシクロアルキレングリコールからなるグリコール成分とからなる共重合芳香族ポリエステルであって、
芳香族ジカルボン酸成分のモル数を基準として、４、４´−（アルキレンジオキシ）ビス安息香酸成分を５モル％以上９０モル％未満含む共重合芳香族ポリエステルおよびそのフィルム。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ガラス基板上の硝酸イオンコンタミネーション量を一定以下のものにし、ハードディスク装置に装着した場合にヘッドが硝酸イオンコンタミネーションに衝突するおそれの少ない情報記録媒体用ガラス基板、その製造方法、情報記録媒体、及びハードディスク装置の提供を目的とする。
【解決手段】板状ガラス素材を硝酸塩を用いて化学強化する化学強化工程を含む製造工程を経て得られる本発明の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法は、製造工程の最終工程としての最終洗浄工程で、前記板状ガラス素材１０の表面に存在する硝酸イオン（ＮＯ_３⁻）コンタミネーション量を５０ｎｇ／ｃｍ^２以下になるように洗浄する。 （もっと読む）