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Fターム[5D006CB04]の内容

磁気記録担体 (13,985) | 基体層(ベース) (1,454) | 基材 (719) | 無機材(Al合金等) (441)

Fターム[5D006CB04]に分類される特許

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【課題】アルミニウム合金基板表面の研削加工において、研削速度に影響が少なく、研削面が平滑であるアルミニウム合金基板を提供することを課題とする。
【解決手段】Mg:2.0〜6.0mass%(以下単に%)、Fe:0.01〜0.03%、Cu:0.005〜0.15%、Zn:0.05〜0.6%、Cr:0.01〜0.3%、Si:0.001〜0.03%を含有するアルミニウム合金基板であって、該基板の鋳塊の面削後表層から深さ30mmまでDASが35〜75μmであり、該アルミニウム合金基板はその表面から5〜70μmの深さまでの領域において、最長径が1〜2μmのAl−Fe系金属間化合物の1mm当たりの個数(N1)が100〜500個、最長径が2〜7μmのAl−Fe系金属間化合物の1mm当たりの個数(N2)が5〜100個、かつN1とN2の比率(N1/N2)が5〜75であるアルミニウム合金基板。 (もっと読む)


【課題】表面平滑性に優れた磁気記録媒体用基板、磁気記録媒体、磁気記録媒体用基板の製造方法及び表面検査方法を提供する。
【解決手段】中心孔を有する円盤状の磁気記録媒体用基板であって、その主面における表面粗さは、円周方向のうねりの空間周期(L)が10〜1000μmの範囲における二乗平均平方根粗さ(Rq)で1Å以下であり、且つ、表面粗さについてスペクトル解析を行い、その空間周期(L)を横軸[μm]とし、そのパワースペクトル密度(PSD)を縦軸[k・Å・μm](kは定数)とした両対数グラフ上に表される曲線Sにおいて、空間周期(L)が10μmとなる点Aと、空間周期(L)が1000μmとなる点Bとを結ぶ線分Zの縦軸方向の成分をHとし、この線分Zに対して曲線Sの縦軸方向の成分が最大となる変位をΔHとしたときに、ΔH/H×100[%]で表される値(P)が15%以下である。 (もっと読む)


【課題】磁気ディスク装置における磁気記録媒体のフラッタリング変位を抑制するとともに、耐衝撃性を向上させた磁気記録媒体用ガラス基板を提供する。
【解決手段】本発明の磁気記録媒体用ガラス基板は、中央部に貫通する円孔を有し、互いに対向する1対の主平面を有する円盤形状の磁気記録媒体用ガラス基板であって、前記主平面において、磁気記録媒体をハードディスクドライブに固定する時に締結部材により締付けられる箇所を含むクランプ領域は、平坦度が1μm以下であり、かつ前記クランプ領域は板厚偏差が0.3μm以下であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】磁気記録媒体用ガラス基板の記録再生領域の全面について、微小うねりの変化量が所定の範囲内にある、磁気記録媒体用ガラス基板、及び、該磁気記録媒体用ガラス基板を用いた磁気記録媒体を提供することを目的とする。
【解決手段】一対の主平面と、外周端面と、内周端面と、を有する磁気記録媒体用ガラス基板であって、少なくとも一方の主平面は、主平面の全面に設定される格子状の各評価領域で微小うねり(nWq)を測定したとき、一の評価領域と、これに隣接する評価領域との間における微小うねりの変化量の絶対値(ΔnWq)は、前記一の評価領域の微小うねりに対する比率が10%以下であることを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板、及び、該磁気記録媒体用ガラス基板を用いた磁気記録媒体を提供する。 (もっと読む)


【課題】磁気記録媒体用ガラス基板の少なくとも一方の主平面(記録再生面)全体に設定される、格子状の評価領域ごとに表面粗さRaを測定した場合、その最大値が所定の範囲内にある、磁気記録媒体用ガラス基板及び該磁気記録媒体用ガラス基板を用いた磁気記録媒体を提供することを目的とする。
【解決手段】一対の主平面と、外周端面と、内周端面と、を有する磁気記録媒体用ガラス基板であって、少なくとも一方の主平面は、主平面の全面に設定される格子状の各評価領域で測定した表面粗さRaの最大値が、前記表面粗さRaの平均値の1.7倍以下であることを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板及び該磁気記録媒体用ガラス基板を用いた磁気記録媒体を提供する。 (もっと読む)


【課題】磁気ディスクの読取不良及び書込不良の発生を抑制した、磁気ディスク用ガラス基板を提供すること。
【解決手段】一対の主表面と、外周端面と、内周端面と、を有する磁気記録媒体用ガラス基板であって、前記磁気記録媒体用ガラス基板の全表面に存在するセリウム量が0.020ng/mm以下である磁気記録媒体用ガラス基板。 (もっと読む)


【課題】磁気ディスク用ガラス基板において、ガラス基板表面の粗さを大きくすることなく、換言すると、ガラス基板表面の粗さが大きくなることを抑えつつ、ガラス基板表面に付着した金属汚染物質を効果的に除去する。
【解決手段】ガラス基板の洗浄工程を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、洗浄工程においては、シュウ酸イオンと鉄の2価イオンとを含む洗浄液7を用いて酸性条件下で洗浄を行い、洗浄工程と並行して、または、相前後して、洗浄液に含まれる2価の鉄イオンが酸化されて生成した3価の鉄イオンを紫外線照射2により還元する操作を行う。 (もっと読む)


【課題】磁気ディスク用ガラス基板の端面を低コストで効率良く高品質に仕上げることができる安定した研削加工を可能とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】円板状のガラス基板の端面部分に研削液を供給しつつ、基板の外周側端面に砥石を接触させて研削することにより基板の端面を形状加工する。上記砥石は、端面部分を有する円盤状に形成されその中心を回転軸にして回転可能に構成されている円盤状回転砥石である。砥石の移動方向とガラス基板の移動方向とが交差するようにして、砥石の端面部分を基板の端面に接触させ且つ前記基板と砥石とを相対的に移動させる。 (もっと読む)


【課題】充分な厚みの圧縮応力層を有していることにより優れた耐衝撃性を有し、かつ、高平滑性を備えるとともに、高温高湿環境下においても歪みの発生しにくいHDD用ガラス基板および該HDD用ガラス基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】一対の主表面に圧縮応力層が設けられたHDD用ガラス基板であって、前記主表面にイオン交換層を有さず、前記圧縮応力層の厚みが2〜30μmであることを特徴とするHDD用ガラス基板。 (もっと読む)


【課題】充分な厚みの圧縮応力層を有していることにより優れた耐衝撃性を有し、かつ、高平滑性を備えるとともに、磁気ディスク装置に搭載された場合に使用時にイオン溶出による後発エラーの発生頻度が少ないHDD用ガラス基板および該HDD用ガラス基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】一対の主表面に圧縮応力層が設けられたHDD用ガラス基板であって、前記主表面にイオン交換層を有さず、前記圧縮応力層の厚みが100μmを超え180μm以下であるHDD用ガラス基板。 (もっと読む)


【課題】外周端面の外周側面部の表面粗さRaを複数箇所で測定した場合に、その最大値、標準偏差が所定の範囲内にあり、主平面研磨を行った場合に平行度に優れた磁気記録媒体用ガラス基板を提供することを目的とする。
【解決手段】磁気記録媒体用ガラス基板であって、前記磁気記録媒体用ガラス基板の外周端面において、中心角で15度間隔に設けた計24の外周端面測定箇所で表面粗さRaを測定したとき、前記外周端面の外周側面部の表面粗さRaの最大値が0.5μm以下であり、前記外周側面部の表面粗さRaの標準偏差が0.2μm以下であることを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板を提供する。 (もっと読む)


【課題】1平方インチ当たり40ギガビット以上のような高記録密度での使用に供される磁気ディスクとして構成しても、サーマルアスぺリテイ障害を起こすことがなく、耐衝撃性にも優れた磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを提供する。携帯電話、デジタルカメラ、携帯型「MP3プレイヤ」、PDA等の携帯情報機器や、「カーナビゲーションシステム」など車載用機器にも搭載できるように、例えば、外径30mm以下の小型磁気ディスクとして構成しても、安定した動作を実現できる磁気ディスク用ガラス基板を提供する。
【解決手段】端面部が鏡面加工されており、端面部の算術平均粗さ(Ra)が100nm以下である。 (もっと読む)


【課題】高記録密度化に好適な割れにくい基板用ガラスの提供。
【解決手段】下記酸化物基準のモル%表示で、SiOを66〜77%、Alを7〜17%、Bを0〜7%、LiOを0〜9%、NaOを0〜8%、KOを0〜3%、MgOを0〜13%、CaOを0〜6%、TiOを0〜5%、ZrOを0〜5%含有し、SO、AlおよびBの含有量の合計SiO+Al+Bが81〜92%、LiO、NaOおよびKOの含有量の合計LiO+NaO+KOが3〜9%、MgOおよびCaOの含有量の合計MgO+CaOが4〜13%、NaO、KOおよびCaO含有量の合計NaO+KO+CaOが0〜10%、TiOおよびZrOの含有量の合計TiO+ZrOが0〜5%である基板用ガラス。 (もっと読む)


【課題】メッキ表面の平滑性に優れ、磁気ディスクの高容量化および高密度化が可能な磁気ディスク用アルミニウム合金基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】Mg:2.0〜6.0%、Cu:0.005〜0.15%、Zn:0.05〜0.6%、Cr:0.01〜0.3%、Si:0.001〜0.03%、Fe:0.001〜0.03%を含有し、残部Alと不可避的不純物からなり、最長径が1μmを超えるAl−Cu−Mg−Zn系金属間化合物が0.2mm当たり1個以下である磁気ディスク用アルミニウム合金基板で、熱間圧延終了温度が280〜360℃、かつ熱間圧延終了時の板幅中央部と端部の表面温度の差が30℃以内となるように熱間圧延を行う。 (もっと読む)


【課題】主平面の研磨工程での研磨パッドの目詰まりを抑制して、ドレス処理の頻度を低減するとともに研磨速度を安定させ、主平面の平滑性に優れ、異なるロットのガラス基板間の板厚のばらつきが小さい磁気記録媒体用ガラス基板を得るための製造方法を提供する。
【解決手段】この磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法は、形状付与工程と、主平面研磨工程と、洗浄工程とを備え、前記主平面研磨工程は、前記ガラス基板の主平面を両面で5μm以上の研磨量で研磨する粗研磨工程を有する。そして、前記粗研磨工程では、気泡を含有し、研磨面に開口する前記気泡の平均直径が80〜300μmであり、かつ1.1〜2.5%の圧縮率を有する研磨パッドと、砥粒を含有する研磨液を用いて主平面を研磨することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、きわめて低い比重を有する結晶化ガラスおよび情報記録媒体用結晶化ガラス基板を提供する。
【解決手段】結晶相としてRAl、RTiO、(ただしRはZn、Mg、Feから選択される1種類以上)から選ばれる一種以上を含有する結晶化ガラスであって、酸化物基準の質量%で、SiO40%〜60%、Al7%〜23%、TiO1〜15%、MgO1%〜20%、CaO0%〜10%、SrO0%〜5%、BaO0%〜5%、ZnO0%〜15%、FeO0%〜8%、P0%〜7%、B0%以上8%未満、の各成分を含有し、(MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO+FeO)/(SiO+Al)の値が0.25以下、(ZnO+FeO)/MgOの値が0以上0.9以下、比重が2.67以下であることを特徴とする結晶化ガラス。 (もっと読む)


【課題】研磨液中の遊離砥粒として酸化セリウムの代替として、酸化セリウムと同等の研磨効果が得られる研磨工程によって、次世代のハードディスク用基板に求められる、機械的強度が高い材料を低コストで高精度の表面性状に加工する製造方法を提供すること。
【解決手段】情報記録媒体用基板の製造方法は、少なくともSiO成分を含むガラス又は結晶化ガラスからなる板状の無機材料を、研磨液及び研磨パッドを用いて研磨する研磨工程を含む情報記録媒体用基板の製造方法であって、研磨液は、Zr及びSiを含む化合物からなる砥粒を少なくとも含有し、研磨開始時における研磨液中の砥粒濃度が15wt%〜40wt%の範囲であり、研磨液中の砥粒の全重量に対する、Zr及びSiを含む化合物からなる砥粒の含有量が70wt%以上であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】表面が平滑で、且つ耐熱性に優れ、しかも表面硬度の高い磁気記録媒体用アルミニウム基板を製造する方法を提供する。
【解決手段】アルミニウム基板にベーマイト処理を施した後、加熱して酸化皮膜を形成する工程と、加熱後のアルミニウム基板表面に無機ポリシラザン含有溶液を塗布した後、加熱して表面硬度の高いSiO2膜を形成する工程、を含む製造方法。 (もっと読む)


【課題】研磨液中の遊離砥粒として酸化セリウムの代替として、酸化セリウムと同等の研磨効果が得られる研磨工程によって、次世代のハードディスク用基板に求められる、機械的強度が高い材料を低コストで高精度の表面性状に加工する製造方法を提供すること。
【解決手段】情報記録媒体用基板の製造方法は、少なくともSiO成分を含むガラス又は結晶化ガラスからなる板状の無機材料を、研磨液及び研磨パッドを用いて研磨する研磨工程を含む情報記録媒体用基板の製造方法であって、前記研磨液は、Zr及びSiを含む化合物からなる砥粒を少なくとも含有し、前記研磨液中の砥粒濃度が2wt%〜40wt%の範囲であり、前記研磨液中の砥粒の全重量に対する、前記Zr及びSiを含む化合物からなる砥粒の含有量が70wt%以上であり、前記研磨工程における加工圧力が120g/cm〜160g/cmであることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】研磨液中の遊離砥粒として酸化セリウムの代替として、酸化セリウムと同等の研磨効果が得られる研磨工程によって、次世代のハードディスク用基板に求められる、機械的強度が高い材料を低コストで高精度の表面性状に加工する製造方法を提供すること。
【解決手段】少なくともSiO成分を含む板状の無機材料を、研磨液及び研磨パッドを用いて研磨する研磨工程を含む情報記録媒体用基板の製造方法であって、前記研磨液は、Zr及びSiを含む化合物からなる研磨砥粒を少なくとも含有し、前記研磨液中の砥粒濃度が2wt%〜40wt%の範囲であることを特徴とする情報記録媒体用基板の製造方法。 (もっと読む)


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