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Fターム[5D006EA03]の内容

磁気記録担体 (13,985) | 記録担体の製造法、処理 (996) | 非塗布型(メッキ、渡金) (421) | 蒸着、スパッタ、イオンプレーティング (381)

Fターム[5D006EA03]に分類される特許

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【課題】 加熱処理によってもアモルファスまたは微結晶構造を維持できる熱アシスト磁気記録媒体用軟磁性膜およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 原子比における組成式がFe100−x−y−z−Cu−Nb−(Si+B)、0.5≦x≦3.0、1≦y≦15、20≦z≦30で表され、残部不可避的不純物でなる熱アシスト磁気記録媒体用軟磁性膜である。また、原子比における組成式がFe100−x−y−z−Cu−Nb−(Si+B)、0.5≦x≦3.0、1≦y≦15、20≦z≦30で表され、残部不可避的不純物でなる合金ターゲットを用いてスパッタリングにより形成する熱アシスト磁気記録媒体用軟磁性膜の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】磁気ディスク用ガラス基板の端面を低コストで効率良く高品質に仕上げることができる安定した研削加工を可能とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】円板状のガラス基板の端面部分に研削液を供給しつつ、基板の外周側端面に砥石を接触させて研削することにより基板の端面を形状加工する。上記砥石は、端面部分を有する円盤状に形成されその中心を回転軸にして回転可能に構成されている円盤状回転砥石である。砥石の移動方向とガラス基板の移動方向とが交差するようにして、砥石の端面部分を基板の端面に接触させ且つ前記基板と砥石とを相対的に移動させる。 (もっと読む)


【課題】製造工程中にFePtまたはCoPt層の表面が粗くならないような、化学的に規則化されたFePtまたはCoPt記録層を有する、パターニングされた垂直磁気記録ディスクの作製方法を提供する。
【解決手段】FePt(またはCoPt)合金の記録層250を堆積させるステップと、その後、FePt層250の上にシーリング層を堆積させてから、高温アニーリングを実行するステップを含む。高温アニーリングにより、FePtはLI相で実質的に化学的に規則化される。アニーリングの後、シーリング層を除去する。シーリング層によって、FePt層250とシーリング層の表面におけるFePt材料のナノクラスタ化と凝集が防止され、FePtの表面粗さが好ましくない大きさとなることを抑制する。 (もっと読む)


【課題】 本発明により、室温で低いBsを示すとともに、高温においてBsの低下幅が小さい垂直磁気記録媒体用軟磁性合金およびこの合金の薄膜を作製するためのスパッタリングターゲット材を提供できる。
【解決手段】 at%で、Ti,Zr,Hf,V,Nb,Ta,Cr,Mo,W,Mn,Ni,Cu,Al,B,C,Si,P,Zn,Ga,Ge,Snを1種以上、残部Co、Feおよび不可避的不純物からなり、下記の式(1)〜(3)を全て満たすことを特徴とした垂直磁気記録媒体における軟磁性薄膜層用合金およびスパッタリングターゲット材。(1)0≦Fe%/(Fe%+Co%)≦0.5
(2)5≦Ti%+Zr%+Hf%+V%+Nb%+Ta%+B%/2
(3)0.3≦0.813×Fe%/(Fe%+Co%)−0.062×TNM+1.751≦1.2 (もっと読む)


【課題】 本発明により室温でのBsに対する高温でのBsの低下幅が小さい垂直磁気記録媒体用軟磁性合金、およびこの合金の薄膜を作製するためのスパッタリングターゲット材を提供する。
【解決手段】 at%で、原子番号が57〜71のランタノイドに属する元素を1種以上と、Y,Ti,Zr,Hf,V,Nb,Ta,Bの1種もしくは2種以上または/およびC,Al,Si,P,Cr,Mn,Ni,Cu,Zn,Ga,Ge,Mo,Sn,Wの1種もしくは2種以上を含み、残部Co,Feおよび不可避的不純物からなり、下記の式(1)〜(3)を全て満たすことを特徴とした垂直磁気記録媒体における軟磁性薄膜層に用いる合金。(1)0.5≦TLA≦15、(2)5≦TLA+TAM、(3)TLA+TAM+TNM≦30 (もっと読む)


【課題】磁性粒子間の弱い均一な直接交換結合を用いた低結合型垂直記録媒体を提供する。
【解決手段】低結合型垂直磁気記録媒体10は、磁気記憶層17と、少なくとも1つの低飽和磁化層16とを備え、前記磁気記憶層は、約400から900emu/cm3の飽和磁化を有し、前記少なくとも1つの低飽和磁化層の飽和磁化は前記磁気記憶層の飽和磁化よりも低い。 (もっと読む)


【課題】 磁気記録層が所定のパターンに加工された磁気記録媒体において、良好な記録再生特性を得る。
【解決手段】 磁気記録媒体は、垂直磁気記録層、チタン、及びシリコンから選択される磁性失活元素を含むRu非磁性下地層、及び非磁性基板を含む積層に、磁性失活ガスを用いてガスイオン照射を行なうことにより形成される。ガスイオン照射を行なう前の垂直磁気記録層は、鉄及びコバルトのうち少なくとも1つ、及びプラチナを含有する。ガスイオン照射には、ヘリウム、水素、及びBからなる群から選択される少なくとも1種のガスと窒素ガスの混合ガス、あるいは単独の窒素ガスのいずれかを使用する。 (もっと読む)


【課題】スパッタリング法等により形成される不規則なA1構造を有するFe−Pt系合金薄膜を、熱処理以外の方法により規則化させてL1構造を有するFe−Pt系合金磁性薄膜にすることができる手段を提供すること。
【解決手段】Fe−Pt合金に特定量のPを単独で配合するか或いは特定量のCu又は特定量のCu及びAgと共に配合すると、電子線照射により、熱処理することなく、規則化を行うことができるFe−Pt系合金薄膜を得ることができる。 (もっと読む)


【課題】 低保磁力を有する垂直磁気記録媒体における軟磁性薄膜層用合金、およびこの合金の薄膜を作製するためのスパッタリングターゲット材を提供する。
【解決手段】 Ti,Zr,Hf,Nb,Ta,Bを1種以上、W,Snの1種または2種を含み、残部CoおよびFeからなり、下記(1)〜(4)を満たすことを特徴とする、垂直磁気記録媒体における軟磁性薄膜層用合金。at.%で、
(1)6≦Ti%+Zr%+Hf%+Nb%+Ta%+B%/2≦24
(2)Zr%+Hf%≦14
(3)3≦W%+Sn%≦19
(4)0.20≦Fe%/(Fe%+Co%)≦0.90 (もっと読む)


【課題】保護層の厚さを2nm以下としつつも、優れた耐食性を有する磁気記録媒体を提供すること。
【解決手段】基板上に磁性層と、炭素系保護層とを含み、上記炭素系保護層の厚さが2nm以下であり、かつ、上記炭素系保護層表面の水滴に対する接触角が25度以上60度未満である。 (もっと読む)


【課題】ヘッドスペーシングの拡大、および磁性層の磁気異方性の低下を抑制することができる垂直磁気記録媒体の製造方法の提供。
【解決手段】(1)規則合金を構成する金属および炭素を含むターゲットを用いるスパッタ法によって、非磁性基板上に、規則合金の結晶粒子および炭素からなる粒界層を含む磁気記録層と、磁気記録層上に存在し、炭素からなる保護層前駆体とを形成する工程と、(2)保護層前駆体に、炭化水素系ガスに対するプラズマ放電により生成した炭化水素系イオンを照射して、保護層前駆体を保護層に変化させる工程とを含み、炭化水素系イオンは保護層前駆体に到達する際に300eV以上のエネルギーを有することを特徴とする方法。 (もっと読む)


【課題】 規則化温度の低い膜を成膜することができると共にパーティクルの発生が抑制可能な磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供すること。
【解決手段】 磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットが、一般式:{(FePt100−x(100−y)In(100−z)、原子比により30≦x≦80、1≦y≦20、3≦z≦65で表される組成を有した焼結体からなる。また、このスパッタリングターゲットの製造方法は、InPt合金粉と、FePt合金粉と、Pt粉と、グラファイト粉またはカーボンブラック粉と、の混合粉末を、真空または不活性ガス雰囲気中でホットプレスする工程を有している。 (もっと読む)


【課題】磁気特性の変化を防止するパターン化媒体の製造プロセスを提供する。
【解決手段】実施形態は、スタックのパターン化された磁気材料を保護する方法を開示する。方法は、連続薄膜が堆積されるパターン化されたスタックの磁気材料に対して不活性である不活性材料の連続薄膜を堆積するステップと、非エッチング高レリーフ磁気アイランドの上部および側壁領域ならびにパターン化スタックの磁気薄膜エッチング表面を、空気暴露損傷および埋め戻し材料との接触による損傷から保護するために、連続薄膜から薄膜中間インターフェース層を形成するステップとを含む。 (もっと読む)


【課題】高周波のSNR特性とSquash特性を同時に満足する高記録密度化に対応した磁気記録媒体を提供すること。
【解決手段】本発明の磁気記録媒体は、非磁性基体上に少なくとも軟磁性裏打ち層と、磁気記録層を含む。この磁気記録媒体では、軟磁性裏打ち層は、非磁性基体側の軟磁性層、交換結合制御層、磁気記録層側の軟磁性層からなる積層構造を有するものであり、且つ、前記磁気記録層側の軟磁性層は、前記非磁性基体側の軟磁性層よりも比透磁率の周波数特性(10MHz時の比透磁率に比べて、比透磁率が50%低下させる周波数)が高く、前記非磁性基体側の軟磁性層が前記磁気記録層側の軟磁性層よりも比透磁率が高いことを特徴とする磁気記録媒体。 (もっと読む)


【課題】 飽和磁束密度、非晶質性および耐候性に優れた垂直磁気記録媒体用軟磁性合金において、マグネトロンスパッタ時に効率良く使用できるターゲット材を提供する。
【解決手段】 Zr、Hf、Nb、TaおよびBの2種以上を含有し、残部CoおよびFe、ならびに不可避的不純物よりなり、下記式1および式2を満足し、相対密度99%以上であることを特徴とする垂直磁気記録媒体における軟磁性膜層用合金ターゲット材。
0.60≦Fe/(Fe+Co)≦0.65(at.%比) … (1)
5at%≦(Zr+Hf+Nb+Ta)+B/2≦10at% … (2)
ただし、B:7%以下とする。 (もっと読む)


【課題】粒子サイズ制御用の複数の磁気層および中間二重核形成膜を有する垂直磁気記録ディスクを提供する。
【解決手段】垂直磁気記録ディスクは、磁気層間に2つの核形成膜(NF1およびNF2)を有する、少なくとも2つの強磁性交換結合されたCoPtCr酸化物磁気層(MAG1およびMAG2)で形成された段階的異方性を持つ記録層(RL)を有する。NF1は、好ましくはRuまたはRuCrの様なRu基合金である金属膜である。NF2は、約0.2〜1.0nmの厚さにNF1上に堆積される、好ましくはTa酸化物の金属酸化物膜である。MAG2は、NF2上に堆積される。NF1およびNF2により、MAG1およびMAG2間に核形成膜を持たない段階的異方性を持つRLと比較して、RLにおける平均粒子サイズの大幅な縮小が提供されると同時に、MAG1およびMAG2の強固な交換結合も保証される。 (もっと読む)


【課題】 倒立型Hk構造を有する垂直磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】 一実施形態によれば、垂直磁気記録媒体は、磁気異方性Kuを特徴とする第1粒状記録層と、磁気異方性Kuを特徴とする第1粒状記録層上方の第2粒状記録層と、磁気異方性Kuを特徴とする第2粒状記録層上方の第3粒状記録層と、を含み、Ku<Ku>Kuである。別の実施形態によれば、磁気媒体は、第1比率Xにおける第1CoCrPt合金を有する第1記録層と、第1記録層上方に位置し、且つ、第2比率Xにおける第2CoCrPt合金を有する第2記録層と、第3比率Xにおける第3CoCrPt合金を有する第2記録層上方の第3記録層と、を含み、各比率は、それぞれのCoCrPt合金中におけるPtの濃度をCrの濃度によって除算したものとして規定され、X<X>Xである。 (もっと読む)


【課題】適切な指標を用いて行う評価により検査された垂直磁気記録媒体用基板を提供する。
【解決手段】垂直磁気記録媒体用基板であって、主表面が研磨された円盤状の基板の主表面の断面形状を測定し、測定した断面形状の波形をフーリエ変換することにより、主表面の断面形状の波形を波長と強度との関係に変換して、フーリエ変換により得られた波長と強度との関係に基づき、測定された全範囲の波長の範囲について強度を積分した値である全範囲積分値と、予め設定された波長の範囲について強度を積分した値である設定範囲積分値とを算出した場合に、全範囲積分値に対する設定範囲積分値の比が、0.3以下であり、全範囲の波長は、4nm以上、125nm未満の範囲の波長であり、設定範囲積分値を算出する波長の範囲は、8〜24nmの波長範囲である。 (もっと読む)


【課題】絶縁体材料を用い、極薄膜において、室温で、垂直磁化が同時に実現される垂直磁気記録媒体および磁気記録装置を提供する。
【解決手段】基板10と、基板10上に配置された単結晶よりなる垂直磁化膜12とを備え、垂直磁化膜12は、キュリー温度が室温以上である絶縁体からなり、膜厚が100nm以下であり、かつ有効異方性磁場が20kOe以上である垂直磁気記録媒体2および垂直磁気記録媒体2を備える磁気記録装置。 (もっと読む)


【課題】 高い温度域でも結晶膜化を抑制可能な垂直磁気記録媒体等に用いられるFe−Co系合金軟磁性膜およびそのFe−Co系合金軟磁性膜形成用粉末焼結スパッタリングターゲット材を提供する。
【解決手段】 原子比における組成式が((Fe−Co100−X100−Y−Ni100−a−b−M−B、10≦X≦70、0≦Y≦25、7≦a、1≦b≦5、13≦a+b≦25で表され、前記組成式のM元素がNbおよび/またはTaからなる粉末焼結ターゲット材をスパッタリングして、膜厚20〜300nmに成膜されてなる垂直磁気記録媒体用Fe−Co系合金軟磁性膜である。 (もっと読む)


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