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Fターム[5D033DA02]の内容

磁気ヘッド−薄膜磁気ヘッド等 (5,645) | 製造 (1,065) | 処理、加工 (456) | 製膜 (175)

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【課題】主磁極層の基板側に配置されているシールド磁性層の構造に起因したデータ消去等を軽減する。
【解決手段】薄膜磁気ヘッド300は,主磁極層26と、ライトシールド層60と、ギャップ層29と、薄膜コイル11,51とが基板1上に積層された構成を有している。薄膜磁気ヘッド300はシールド磁性層40を有している。シールド磁性層40は、主磁極層26に接続されている。シールド磁性層40は、下部前側シールド部42を有している。下部前側シールド部42の前端面42aと、下端面42bとのなす角度を示す前端角αが鈍角に設定されている。前端面42aは、ABS30に配置されている。下端面42bは下部前側シールド部42のうちの最も基板1に近い位置に配置されている。 (もっと読む)


【課題】近接場光発生部を含む前端面の幅が小さなプラズモンジェネレータを製造する。
【解決手段】プラズモンジェネレータ50は、表面プラズモンを伝播する伝播部51を備えている。伝播部51は、下面51a、上面51b、第1の側面51c、第2の側面51d、前端面51eを有している。前端面51eは近接場光発生部51gを含んでいる。プラズモンジェネレータ50の製造方法は、ベース部を形成する工程と、後にプラズモンジェネレータとなる金属膜を形成する工程と、充填層を形成する工程を備えている。ベース部は、ベース面と、ベース面から突出した突出部とを備え、突出部は、ベース面に対して高低差を有する上面と、ベース面と突出部の上面とを連結する第1の側壁241Pbとを有している。金属膜は、第1の側壁241Pbに付着した付着部を含んでいる。充填層は、第1の側壁241Pbとの間で付着部を挟む第2の側壁を有している。 (もっと読む)


【課題】媒体対向面において主磁極の端面に対して記録媒体の進行方向の前側に配置された端面を有するシールドと主磁極とを経由する磁路の長さを短くする。
【解決手段】磁気ヘッドは、主磁極15と、コイルと、媒体対向面2において主磁極15の端面に対して記録媒体の進行方向の前側に配置された端面を有するシールド16Dと、主磁極15に対して記録媒体の進行方向の前側に配置された帰磁路部40を備えている。帰磁路部40は、空間S1が形成されるように、主磁極15のうちの媒体対向面2から離れた部分とシールド16Dとを接続している。コイルは、帰磁路部40のコア部42の周りに巻かれた平面渦巻き形状の部分20を含んでいる。部分20は、空間S1を通過するように延びる2つのコイル要素20A,20Bを含んでいる。コイル要素20A,20Bを除くコイルのいかなる部分も空間S1内には存在しない。 (もっと読む)


【課題】光伝搬の効率が高く、変動の小さい光導波路をスライダ内に設けた熱アシスト磁気記録ヘッドを提供する。
【解決手段】光導波路を酸化膜からなるコアと酸化膜からなるクラッド層で構成し、コアと接するクラッド層の酸素含有量を化学量論的組成より高く設定する。 (もっと読む)


【課題】隣接トラック消去の発生の抑制と記録特性の向上を両立する。
【解決手段】磁気ヘッドは、主磁極15と記録シールド16とギャップ部17を備えている。記録シールド16は、サイドシールド16B,16Cと上部シールドを含んでいる。主磁極15は側部SP1,SP2を有し、サイドシールド16Bは側壁SW1を有し、サイドシールド16Cは側壁SW2を有している。ギャップ部17は、側壁SW1,SW2に接するように配置されたギャップ膜17Aと、非磁性層17Bを含んでいる。側部SP1は、媒体対向面2側から順に配置された第1および第3の側面を有している。第2の側部SP2は、媒体対向面2側から順に配置された第2および第4の側面を有している。非磁性層17Bは、第3の側面と第1の側壁SW1の間および第4の側面と第2の側壁SW2の間に存在する。 (もっと読む)


【課題】微小な偏向ミラーのハンドリング及び位置決めが容易な光アシスト磁気ヘッド及び光学的結合構造を提供する。
【解決手段】一の面と、一の面の所定の方向の一端に設けられた端面とを備え、ディスク状の記録媒体の回転に応じて記録媒体に対して浮上して相対移動するスライダと、一の面に固定され、所定の方向に光を出射する光源と、端面との接合面とは反対側の側面と、光入射面から入射した光を導く光導波路と、を有する磁気ヘッド部と、光源及び光入射面の双方に臨み、所定の曲率を有する凹型の反射面と、反射面に対して所定の方向に延伸され、かつ側面及び一の面のいずれかからなる基準面に当接されたフランジ部とを有し、反射面により光源からの光を光入射面に向けて反射及び集光させる偏向ミラーと、を備えたことを特徴とする光アシスト磁気ヘッド。 (もっと読む)


【課題】効率的に製造することができる基板、スライダ、近接場光ヘッド、基板製造方法、及び基板検査方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る基板は、近接場光を発生する近接場光発生素子と、入射した光を出射する導光機能部とを備え、導光機能部の光出射側の面積は、近接場光発生素子の近接場光発生側の面積よりも大きく形成されており、導光機能部は、近接場光発生素子の近接場光発生側の面の形状が所望の大きさであるか否かを判別するために用いられるものであることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】コア、クラッドおよび散乱体の相対位置、散乱体の寸法を高精度に製造できる近接場光発生素子の製造方法を提供すること。
【解決手段】基板に設けられたクラッドに凹溝およびV溝を形成し、それぞれの溝内部にコアおよび金属構造物を成膜した後、基板表面を平坦化する。その上からクラッドを再び成膜した後、基板を切断し、V溝内に形成された金属構造物が所定厚さになるよう切断面を研磨し、散乱体を形成する。 (もっと読む)


【課題】 光導波路の媒体対向面に近接場光発生素子が容易かつ高精度に成形可能な熱アシスト磁気記録方式の近接場光発生装置、及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 第1導波路と、第1導波路の光軸上に備えられた第2導波路とを備える。次に、第1導波路と第2導波路との境界において、第2導波路の断面のうち、第1導波路の断面に相当する部分以外の露出部分に犠牲膜を形成し、犠牲膜をマスクとして第1導波路を除去する。次に、犠牲膜の第1導波路の除去された部分に金属膜を形成する。これにより、金属膜は、第2導波路の光軸上に近接場光発生素子として形成される。 (もっと読む)


【課題】 光導波路の媒体対向面に近接場光発生素子が容易かつ高精度に成形可能な近接場光発生装置、及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 第1導波路と、第1導波路の光軸上に備えられた第2導波路と、第1導波路と第2導波路との間に離間部とを備える。次に、離間部に金属材料を入射することにより、第2導波路の断面に金属膜を成膜し、第1導波路をマスクとして金属膜をエッチングすることにより、金属膜は、第2導波路の光軸上に近接場光発生素子として形成される。 (もっと読む)


【課題】2つのサイドシールドにおける磁気的欠陥の発生を抑制すると共に、2つのサイドシールドの形状を容易に決定する。
【解決手段】磁気ヘッドは、主磁極12と、媒体対向面において主磁極12の端面の周りを囲むように配置された端面を有するシールドを備えている。シールドは、下部シールド13Aと2つのサイドシールド13B,13Cと上部シールドを含んでいる。磁気ヘッドの製造方法では、下部シールド13Aの上面上に、フォトリソグラフィによって形状が決定され後に除去される型を形成する。次に、シード層を形成することなくめっきを行って、下部シールド13Aの上面上に2つのサイドシールド13B,13Cを形成する。次に、型を除去した後、第1のギャップ層27、主磁極12、第2のギャップ層、上部シールドを順に形成する。 (もっと読む)


【課題】高密度記録に好適なTAMRヘッドを提供する。
【解決手段】本発明のTAMRヘッドは、通電された際に、磁気記録媒体に書き込みを行うための記録磁界を発生させる磁極と、電磁放射の放射源と、1対の側面を有する磁気コアと、エアベアリング面と平行な断面において1対の側面をコンフォーマルに覆う導電材料からなるプラズモン生成層とを含むプラズモンアンテナと、プラズモンアンテナに電磁放射を導くとともに、電磁放射と、プラズモンアンテナの内部で生成されたプラズモンモードとを結合させる導波路とを備える。プラズモン生成層は、エアベアリング面と直交する方向において厚さが変化し、エアベアリング面に最も近い位置において最も薄く、かつ、導波路に隣接する領域内において最も厚い。 (もっと読む)


【課題】前端面における上端に、近接場光発生部を形成する尖端が形成され、多くの表面プラズモンを励起させ、且つこの表面プラズモンを近接場光発生部に集中させることが可能な近接場光発生素子を提供する。
【解決手段】近接場光発生素子16の外面は、下面16aと、導波路対向面16bと、前端面16cと、側面16dとを含んでいる。前端面16cは、下面16aの端に位置する第1の辺16c1と、基板の上面からより遠い端に位置して近接場光発生部16gを形成する尖端16c4と、第1の辺16c1の一端と尖端16c4とを接続する第2の辺16c2と、第1の辺16c1の他端と尖端16c4とを接続する第3の辺16c3とを含んでいる。導波路対向面16bは、前端面16cに近づくに従って下面16aおよび前端面16cに平行な方向についての幅が小さくなる幅変化部分を含んでいる。 (もっと読む)


【課題】上端が鋭く尖った形状の前端面を有する近接場光発生素子を製造する。
【解決手段】近接場光発生素子16の外面は、斜面16b,16cと、斜面16b,16cを接続するエッジ部16dを含んでいる。近接場光発生素子16の製造方法では、まず、金属層の上に研磨停止層を形成し、金属層に斜面16bが形成されるように研磨停止層および金属層をエッチングする。次に、金属層と研磨停止層とを覆うように、後に行われる第2のエッチング工程におけるエッチング速度が金属層よりも小さい、金属以外の無機材料よりなる被覆層18Aを形成する。次に、研磨停止層が露出するまで被覆層18Aを研磨する。次に、第2のエッチング工程により、被覆層18Aをエッチングマスクとして用いて研磨停止層および金属層をエッチングする。これにより、金属層は、斜面16cとエッジ部16dが形成されて近接場光発生素子16になる。 (もっと読む)


本発明は、真空チャンバー内で基板を加熱して、次に即座に基板をコーティングする方法に関し、当該方法は、(1)基板の下面を基板ホルダー上に配置する工程、(2)基板を、基板ホルダーに対して所定距離に亘って持ち上げる工程、(3)加熱装置、例えば、放射熱装置を用いて、その上面によって持ち上げ基板を加熱する工程、(4)例えば、コーティングゾーンの中およびそれを通過して移動することによって加熱基板をコーティングする工程、(5)基板をチャック上まで下ろして、基板を冷却する工程、および(6)必要に応じて、冷却基板を更にコーティングする工程を含む。本発明に係る方法は、実施される方法手順を更に可能にし、様々な規定温度を各々の工程の間に基板上に設定でき、および必要に応じて、その後に即座に1以上のコーティングを前記基板温度で行うことができる。例えば、コーティング(抑えた)した後に即座に所定時間に亘って基板を更に高温で保持できる場合も含まれる。
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【課題】内部ミラーに起因して光の利用効率が低下することを防止する。
【解決手段】熱アシスト磁気記録ヘッドは、反射膜支持体27と反射膜35とを有する内部ミラー30を備えている。内部ミラー30は、導波路26の上方から到来する光を、導波路26内を媒体対向面に向けて進行するように反射する。反射膜支持体27は、第1および第2の傾斜面272a,272bを含み、反射膜35は、それぞれ第1および第2の傾斜面272a,272bの上に配置された第1および第2の部分351,352を含んでいる。反射膜支持体27を形成する工程は、初期支持体に対する2回のテーパーエッチングを含んでいる。 (もっと読む)


【課題】スキューに起因した問題の発生を防止でき、トラック幅を精度よく規定でき、且つ記録特性を向上させることのできる磁極層を形成する。
【解決手段】磁気ヘッドは、トラック幅規定部と幅広部を含む磁極層と、磁極層を収容する溝部43aを有する収容層43を備えている。溝部43aは、トラック幅規定部を収容する第1の部分43a1と、幅広部を収容する第2の部分43a2を含んでいる。磁気ヘッドの製造方法は、後に収容層43となる非磁性層の上に溝部規定層13を形成する工程と、非磁性層のうち、第1の部分43a1が形成される予定の領域を覆うマスクを形成する工程と、非磁性層に第2の部分43a2が形成されるように非磁性層をエッチングする工程と、マスクを除去する工程と、第1の部分43a1が形成されて溝部43aが完成するように非磁性層をテーパエッチングする工程とを含んでいる。 (もっと読む)


【課題】厚膜の磁性多層膜に隣接する埋め込み膜にボイド・シームを発生させない磁気ヘッドの製造方法及びこれを用いた差動型再生ヘッドもしくはMAMR素子を提供する。
【解決手段】磁性多層膜14のパターン加工後の隣接する埋め戻し膜42,43の堆積を,第1段階の堆積工程と,続けて堆積した膜をエッチバックする工程と,第2段階の堆積工程からなる一連の製造プロセスによって形成する。ハードバイアスを加える硬磁性膜を埋め戻す場合には,第2段階の堆積工程の前に配向下地膜を堆積する工程を追加することで保磁力を増加できる。 (もっと読む)


【課題】垂直書き込みヘッドにおける磁気シールド用の傾斜バンプ設計およびその製造方法を提供する。
【解決手段】傾斜バンプ磁気シールドは、ハードディスクドライブにおける磁気記憶ディスクなどの磁気媒体に書き込むための磁束を最大限にするために、小さなスロート高さを提供し、一方で飽和を回避する。エッチングプロセスを用いて、非磁性ギャップ材料のテーパを形成する。次に、磁気シールドが、テーパに堆積され、シールドの傾斜バンプを形成する。エッチングプロセスは、テーパを形成する場合に、優れたエッジおよび厚み制御を提供するために多重エッチングプロセスであってもよい。 (もっと読む)


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