【課題】主表面に設けられる凹凸パターンが微細であったとしても、所定の幅を有する凹部を設計通り形成するモールドの製造方法及びレジスト処理方法を提供する。
【解決手段】凹凸からなるレジストパターンを処理するレジスト処理方法において、前記レジストパターンにおける凹部の開口部の幅が所定の幅より小さく形成されたレジストパターンを削ることにより前記レジストパターンの凹部の幅を拡大させるレジストパターン凹部幅拡大工程を有し、前記凹部幅拡大工程は、前記レジストパターンにおける凹部の開口部の幅を、前記所定の幅と実質的に同一の幅へと拡大する第１工程と、前記レジストパターンにおける凹部の主表面の部分を実質的に厚さ方向に向けて削ることによって、前記レジストパターンの凹部の幅を前記開口部の幅と実質的に同一とする第２工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】ヘッドスキューの補償を伴うマルチトラック記録のためのパターン化磁気記録ディスクと、同ディスクをナノインプリントするためのマスタテンプレートとを提供する。
【解決手段】本発明は、マスタテンプレートからナノインプリントすることにより作製され、ヘッドスキューを補償するためのパターンで配置されたデータアイランドを有するマルチトラック記録用パターン化メディアディスクである。アイランドは、マルチトラック記録に必要なように、ディスク半径方向線に対して鋭角だけ傾斜された線に沿って配置される。但し、この角度はすべての帯に対して同じでないが、ヘッドスキューを補償するために帯毎に変化する。傾斜された帯内の線の角度はヘッドスキューの量だけ減じられる。角度が放射状線からの一方向であるディスク内径（ＩＤ）と中径（ＭＤ）間の複数の帯と、角度が放射状線から反対方向であるディスクＭＤと外径（ＯＤ）間の複数の帯とが、存在する。 （もっと読む）

【課題】パターン化磁気記録ディスクをナノインプリントするための放射状非データマークを有するマスタディスクを作製するためのブロック共重合体を使用する方法を提供する。
【解決手段】 パターン化メディア磁気記録ディスクをナノインプリントするためのマスタディスクを作製する方法は、データアイランドと非データ領域の両方のパターンを有する。本方法は、ブロック共重合体（ＢＣＰ）成分の１つの隙間領域のパターンだけでなくほぼ放射状の線のパターンおよび／またはほぼ同心のリングを形成するためにブロック共重合体（ＢＣＰ）の誘導自己組織化を利用する。線および／またはリングのパターンは基板に垂直なラメラとして位置合わせされたＢＣＰ成分を有し、一方、隙間領域のパターンは基板に平行なラメラとして位置合わせされたＢＣＰ成分を有する。ＢＣＰ成分の１つは除去され、他のＢＣＰ成分をエッチマスクとして残す。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリントにおいて、モールドの耐久性を向上させる。
【解決手段】微細な凹凸パターン１３を表面に有するモールド本体１２と、この表面に形成された離型層１４とを備えたナノインプリント用のモールド１において、離型層１４が、主鎖を構成する原子数が２０未満である短鎖離型剤２０と、主鎖を構成する原子数が２０以上である長鎖離型剤２２とを含むものとする。 （もっと読む）

【課題】ドットパターンを有する領域と，ドットパターンを有しない領域と，を備えるモールドを高精度で作成可能とする。
【解決手段】実施形態のモールドの製造方法は，第１の高分子に親和な基板上に，第２の高分子に対して親和な第１の層を形成する工程と，第１の層に，第１，第２の開口を形成する工程と，第２の開口内にレジストを充填，硬化する工程と，ブロックコポリマーを含む第２の層を形成，自己組織化する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】ナノ構造を有し、球状の硬磁性体を高密度で備えており、高い記録密度を有する磁気記録材料を提供する。
【解決手段】絶縁性非磁性体からなるマトリックス中に、平均粒子径が２．５ｎｍ〜２５ｎｍである球状の硬磁性体が三次元的且つ周期的に分散配置しており、繰り返し構造の一単位の長さの平均値が１ｎｍ〜１００ｎｍである三次元的周期構造を有しているナノヘテロ構造磁気記録材料。 （もっと読む）

【課題】高密度磁気記録を行うには、磁性体を充填する細孔を微細にする必要があり、その微細な加工を短時間で行い、製造コストの低減ならびにスループットの向上を図る。
【解決手段】加工速度が早い加工装置により、基板に比較的大きな凹パターンを形成した後、その凹パターン内に薄膜を形成することにより、微細で均一なパターンを低コストかつ高スループットのプロセスによって、形成できる。この基板内に磁性体を埋め込むことで、パターンドメディアが形成される。また、この基板をインプリントモールド原版またはインプリントモールドとして用いることにより、磁気特性に優れた磁性層を有するパターンドメディアの製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】 磁気記録層が所定のパターンに加工された磁気記録媒体において、良好な記録再生特性を得る。
【解決手段】 磁気記録媒体は、垂直磁気記録層、チタン、及びシリコンから選択される磁性失活元素を含むＲｕ非磁性下地層、及び非磁性基板を含む積層に、磁性失活ガスを用いてガスイオン照射を行なうことにより形成される。ガスイオン照射を行なう前の垂直磁気記録層は、鉄及びコバルトのうち少なくとも１つ、及びプラチナを含有する。ガスイオン照射には、ヘリウム、水素、及びＢ_２Ｈ_６からなる群から選択される少なくとも１種のガスと窒素ガスの混合ガス、あるいは単独の窒素ガスのいずれかを使用する。 （もっと読む）

【課題】処理対象物の表面に凹凸が生じることを防止できる生産性のよいイオン注入法を提供する。
【解決手段】本発明は、Ｘ_ｍＹ_ｎ（式中、Ｘ及びＹのいずれか一方を水素原子とし、いずれか他方を質量数が１１〜４０の原子とし、水素原子の数を１〜６、他方の原子の数を１〜２とする）で表される分子の中から選択される少なくとも１種を含む処理ガスを用い、この処理ガスを減圧下で導入してプラズマを形成し、プラズマ中で電離したイオンを引き出し、引き出したイオンを加速して処理対象物Ｗ内に注入するイオン注入法であって、処理ガスの分圧、イオンの注入エネルギ及びイオンの注入ドーズ量の少なくとも１つを制御して、処理対象物Ｗ表面に堆積する活性種の堆積速度よりも、加速したイオンによる活性種のエッチング速度を遅くする。 （もっと読む）

【課題】ヘッドスペーシングの拡大、および磁性層の磁気異方性の低下を抑制することができる垂直磁気記録媒体の製造方法の提供。
【解決手段】（１）規則合金を構成する金属および炭素を含むターゲットを用いるスパッタ法によって、非磁性基板上に、規則合金の結晶粒子および炭素からなる粒界層を含む磁気記録層と、磁気記録層上に存在し、炭素からなる保護層前駆体とを形成する工程と、（２）保護層前駆体に、炭化水素系ガスに対するプラズマ放電により生成した炭化水素系イオンを照射して、保護層前駆体を保護層に変化させる工程とを含み、炭化水素系イオンは保護層前駆体に到達する際に３００ｅＶ以上のエネルギーを有することを特徴とする方法。 （もっと読む）

【課題】 複数の磁気層および中間層を有するパターン化垂直磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】 パターン化垂直磁気記録媒体は、第１および第２の強磁性層（ＭＡＧ１およびＭＡＧ２）を、ＭＡＧ１とＭＡＧ２との間に第１および第２の非磁性中間層（ＩＬ１およびＩＬ２）を備えた状態で有するディスクリートデータアイランドを有する。ＭＡＧ１およびＭＡＧ２は、類似の厚さを有した類似のＣｏＰｔＣｒ合金でもよく、ＩＬ１およびＩＬ２の厚さは、ＭＡＧ１およびＭＡＧ２が強固に交換結合されることを保証する。あるいは、ＭＡＧ２は、「書き込み補助」層、例えば、交換スプリング構造における高飽和磁化の軟磁性材料でもよく、ＩＬ１は非常に薄く、それによってＩＬ２が、ＭＡＧ１と書き込み補助ＭＡＧ２層間とのカップリング層として機能できる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、オフセットデータおよびサーボ領域を備えるパターン化磁気媒体を製造するための方法を提供する。
【解決手段】本発明は、パターン化磁気媒体を製造するための方法である。本方法は、別領域のパターニングに悪影響を及ぼす一領域へのパターニングを必要とせずに、データ領域およびサーボ領域の両方がパターン化されることを可能にする。本方法によって、パターン化されたデータ領域と、パターン化されたサーボ領域と、サーボ領域とデータ領域との間の中間領域と、が設けられる。前記中間領域は、互いに非対称になる可能性が高いが、それが必然ではなく、本方法が媒体をパターン化するため使用されたことを示している。 （もっと読む）

【課題】平坦化の間に磁気ビットを保護する方法および装置を提供する。
【解決手段】実施形態は、炭素領域平面化の間に磁気ビットを保護するための方法を開示し、パターン化スタック上の磁気ビットおよび磁気薄膜に停止層を堆積させるステップと、停止層上に炭素充填層を堆積させるステップと、炭素領域の平面化およびエッチバックの間に停止層を用いて、炭素領域平面化の間にパターン化スタックの磁気ビットを保護するステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】単一の記録マスタから両面テンプレートを作る方法を提供する。
【解決手段】単一の記録マスタを使用して第一のテンプレートを製造するステップを備える。第一のテンプレートにおいては、デューティサイクルが変更され、サーボアーク配向は変更されない。方法はさらに、第一のテンプレートの複製物を作成するステップを備える。複製物においては、サーボアーク配向が鏡写しとなり、デューティサイクルが変更される。方法はさらに、複製物を使用して第二のテンプレートを製造するステップを備え、パターンドスタックの第二面に転写するための所定の鏡写しのサーボアーク配向および所定のデューティサイクルを第二のテンプレートに形成する。 （もっと読む）

【課題】本実施形態は、パターン形成にかかる時間を短縮しつつ、インプリントリソグラフィ法において、硬化性樹脂をパターン形成用テンプレートのパターン溝に充填する際に生じる充填欠陥を低減することができ、加えて、異物によるパターン形成用テンプレートの欠損を避けることができるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本実施形態のパターン形成方法は、被加工基板上に硬化性樹脂を塗布し、硬化性樹脂にパターン形成用テンプレートを接触させて、被加工基板上に硬化性樹脂からなるパターンを形成するものであり、硬化性樹脂を塗布する前に、被加工基板上にある異物の位置情報を測定し、記憶し、記憶された異物の位置情報に基づいて、異物粉砕テンプレートを異物に押し付けることにより異物を粉砕し、次いで、粘着膜が貼付けされた除去用テンプレートを粉砕された異物に接触させて粘着することにより異物を除去する。 （もっと読む）

【課題】安価な装置で簡便にレジスト膜の膜厚を測定できるようする。
【解決手段】被転写物膜厚検査方法は、所定のパターンの設けられたスタンパを被転写物用基板に塗布された光硬化樹脂剤に押圧すると共に光硬化樹脂剤にＵＶ光線を照射し、硬化後にスタンパを剥離することによってスタンパの所定のパターンの転写された被転写物用基板を製造する際に、光硬化樹脂剤に転写されたパターンの所定箇所を観察することによって、光硬化樹脂剤の膜厚が適切であるか否かを検査する。所定のパターンが設けられていない部分に、それぞれ幅または深さの異なるパターンを膜厚測定用パターンとして設けたスタンパによって転写し、この膜厚測定用パターン内のどのパターンに光硬化樹脂が充填されているか否かを観察することによって、被転写物用基板に塗布された光硬化樹脂剤の膜厚を測定する。 （もっと読む）

【課題】 描画時間の短縮化が図れ、記録密度を向上させるためのより微細なビットの形成ができ、さらには、ビットの形状制御も比較的に容易であるビットパターンドメディア製造用モールドの製造方法を提供する。
【解決手段】 最小磁化反転単位である磁性材料からなる磁性領域が非磁性領域により分断された状態で複数個配列されてなるデータトラック領域（サーボ領域）を有するビットパターンドメディア製造用モールドの製造方法であって、レジストとして感光性樹脂膜が形成された基板を準備する工程と、感光性樹脂膜に対して、感光性樹脂膜の平面に対する照射形状が細長形状に制御された電子ビームスポットを１ショットで照射し、最小磁化反転単位である磁性材料からなる磁性領域の形状に対応させた細長形状の潜像を形成させる電子線描画工程と、を有するように構成される。 （もっと読む）

【課題】離型剤を用いることなく、離型力を大幅に低減させて、被成形物からモールドを容易に離型させる。
【解決手段】モールド３０に形成された所望のパターンを被成形材料に転写することで被成形物を成形するインプリント装置１において、少なくともモールド３０と被成形物とを含む空間内の圧力を調整する。具体的には、被成形物からモールド３０を引き離す離型時において、モールド３０と被成形物とを含む空間内の圧力を、モールド３０と被成形物との間の圧力に近付くよう減圧制御することで実現する。 （もっと読む）

【課題】磁気ヘッドスライダの浮上挙動ないし接触挙動を安定化させ、長期間の製品信頼性を維持すること。
【解決手段】非磁性基板上に磁性層、保護層及び潤滑層が順次積層され、前記潤滑層表面は前記磁気ディスクの周方向に中心角θ_ｒ（°）毎に繰り返される凹凸構造パターンを有し、前記凹凸構造パターンは前記潤滑層と前記保護層表面との吸着により形成されており、前記磁気ヘッドスライダの固有振動数をｆ（ｋＨｚ）、磁気ディスクの回転数をＲ_０（回転/分）としたときに、前記中心角θ_ｒが次式（ａ）：θ_０＝３６０×(Ｒ_０/６０)/(ｆ×１０００)で表される角度θ_０（°）と合致しないように設定されていることを特徴とする磁気ディスク、前記磁気ディスクを含む磁気ディスク装置及びエネルギー線照射により前記凹凸構造パターンを形成する前記磁気ディスクの製造方法。 （もっと読む）

【課題】型が光を透過しない材質で構成され、また、被成型品にアライメントマークが設けられていなくても、被成型品の正確な位置に微細な転写パターンを転写できる転写装置を提供する。
【解決手段】型Ｍを保持し、被成型品Ｗに接近・離反する方向に移動位置決め自在な型保持体９と；被成型品Ｗを保持し、型保持体９の接近・離反方向に交差する方向に移動位置決め自在な被成型品保持体５と；型Ｍと被成型品Ｗとの間に挿入される第１の位置と、型Ｍと被成型品Ｗとから離れた第２の位置との間を移動自在な検出子１５で被成型品Ｗの縁の位置を検出して、型Ｍに対する被成型品Ｗの位置ずれ量を検出する位置ずれ量検出手段１１と；第１の位置に検出子１５を位置させて被成型品Ｗの位置ずれ量を検出し、この位置ずれ量を、型保持体９を移動することによって補正し、型Ｍを被成型品Ｗに接触させて転写を行うように制御する制御手段５１とを有する。 （もっと読む）