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Fターム[5D112AA24]の内容

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【課題】本発明はアルカリ土類金属酸化物を含むガラス板から情報記録媒体用ガラス基板を製造する場合に、ガラス基板表面に異物欠点を生じさせない磁気ディスク情報記録媒体用ガラス基板を製造する方法の提供。
【解決手段】CaO、SrOおよびBaOを含有するガラス板をガラス円板に加工する円板加工工程、ガラス円板の主表面をラッピングするラッピング工程、ガラス円板のラッピングされた主表面を研磨する主表面研磨工程およびこれら工程間、これら工程内もしくはこれら工程後においてガラス円板を表面処理する工程を含む情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、表面処理に用いる処理液が、硝酸、酢酸、塩酸、過塩素酸、プロピオン酸、酪酸、酒石酸、マロン酸、リンゴ酸、コハク酸、フマル酸、マレイン酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、アルキルスルフォン酸およびアルキルホスホン酸から選ばれる少なくとも1を含む情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】生産性を損なうことなく、研磨後の基板表面のスクラッチやうねりを低減できる研磨液組成物、並びにこれを用いた基板の製造及び研磨方法の提供。
【解決手段】研磨材、水溶性重合体、及び水を含有する研磨液組成物であって、前記水溶性重合体が、スルホン酸基を有し、主鎖及び側鎖のそれぞれに芳香族環を有する研磨液組成物。前記研磨液組成物を被研磨基板の研磨対象面に供給し、前記研磨対象面に研磨パッドを接触させ、前記研磨パッド及び/又は前記被研磨基板を動かして研磨する工程を含む、基板の製造方法及び研磨方法。 (もっと読む)


【課題】イオン系コンタミが少なく、かつ乾燥不良が起きず、その結果ヘッド浮上量が微少なハードディスクに搭載してもヘッドクラッシュを起こさない磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】電気抵抗値が10MΩ・cm以下である水溶液を用いてガラス基板10をリンスする処理と、水よりも沸点の低い水溶性溶剤の蒸気を、前記リンス処理したガラス基板に接触させる乾燥処理とを含む磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、前記乾燥処理において、前記蒸気中の水分量が0.5質量%以下である蒸気を用いる。前記水よりも沸点の低い水溶性溶剤が、イソプロピルアルコール、エタノール、アセトンから選ばれる一種又は二種以上であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】電圧印加手段から電圧が印加される給電部材の弾性の劣化やヘタリを評価することができる。
【解決手段】基板処理装置は、搬入口と搬出口を有するチャンバ85と、チャンバ内にガスを供給するガス供給手段12と、ガスをプラズマにするためのプラズマ発生手段と、基板を保持する基板ホルダ20と、搬入口から搬入され、搬出口へと基板ホルダを保持しながら搬送するキャリア2と、基板ホルダ20に電圧を印加するための電圧印加手段16と、給電部材13を可動して、該給電部材を基板ホルダ20に接触又は非接触させることにより、電圧印加手段16からの電圧を供給するための駆動手段18と、給電部材13に流れる電流を測定する電流測定手段17と、を備えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】研磨工程において、ガラス基板の微小うねりを悪化させることなく高精度に制御でき、かつガラス基板へのダメージ傷の付着が抑制可能なハードディスク用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】研磨スラリー粒子を含む研磨スラリーを用いてガラス基板表面の研磨を行う研磨工程を含むハードディスク用ガラス基板の製造方法であって、前記研磨工程において、前記研磨スラリー粒子の実効粒子径を経時的に変化させる処理を用いることを特徴とするハードディスク用ガラス基板の製造方法。前記処理は、前記研磨スラリー粒子の表面電位を経時的に変化させる手段により行うことが好適である。また、前記手段は、交流電流を前記研磨スラリー粒子へ印加することが好適である。また、前記手段は、前記研磨スラリーのpHを変化させることが好適である。また、前記手段が、交流電流を前記研磨スラリー粒子へ印加すること、かつ、前記研磨スラリーのpHを変化させることが好適である。 (もっと読む)


【課題】砥粒に対する洗浄性が非常に高く、かつ、基板への残留が極めて少ない電子材料用洗浄剤、および電子材料の製造方法を提供する。
【解決手段】一般式(1)で表されるフェノール系化合物(A)またはこの塩を0.01〜10重量%と水を必須成分として含有し、1重量%水溶液の25℃における表面張力が50mN/m以下である界面活性剤(B)の含有量が0.01重量%未満である電子材料用洗浄剤。


[式中、X〜Xはそれぞれ独立に水素原子、水酸基、カルボキシル基またはアミノ基を表す。] (もっと読む)


【課題】本発明は被研磨体の平面の表面うねりを抑制することを課題とする。
【解決手段】研磨装置を用いて台座10の上・下平面14、15を平滑に加工する。台座10の上平面14に微細なダイヤモンド砥粒を電着し、上平面14上に砥粒層18を所定パターンで形成し、本発明の研磨パッド用ドレッサー20が完成する。台座10の上・下平面14、15を平滑に加工しているため、ダイヤモンド砥粒が電着される平面精度が極めて高く、電着量を均一に制御することで砥粒層18の平面精度が高められる。台座10の上・下平面14、15の表面粗さは、Raが0.23μm以下であることが望ましい。 (もっと読む)


【課題】良好な表面凹凸の精度と耐衝撃性を備えた磁気ディスク用ガラス基板を、効率よく製造する方法を提供すること。
【解決手段】溶融ガラスの塊を、互いに対向し、かつ、略同じ温度に設定された一対の型の面を用いて挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材を成形する工程と、板状ガラス素材の主表面に研磨パッドを押圧させ、板状ガラス素材と研磨パッドとの間に研磨材を含む研磨液を供給しながら、板状ガラス素材と研磨パッドとを相対的に移動させて、板状ガラス素材の主表面を研磨する研磨工程と、を有することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】磁気記録膜用スパッタリングターゲットに対して、スパッタリング中のパーティクル発生を抑制し、かつバーンイン時間の短縮化が可能であり、漏洩磁束が大きく、マグネトロンスパッタ装置でスパッタする際に安定した放電が得られるスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】Cr:20mol%以下、Pt:30mol%以下、残余がCoとするCoを主成分とする磁性合金と導電性酸化物からなる焼結体スパッタリングターゲットであって、焼結体ターゲット中に平均粒子径が10〜100μmの範囲の導電性酸化物が分散されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】磁気ディスク用基板を研磨する用途での使用により適した研磨用組成物を提供する。
【解決手段】研磨用組成物は、コロイダルシリカのような砥粒と、クエン酸やオルトリン酸のような酸と、過酸化水素のような酸化剤と、ベンゾトリアゾールのようなアゾール類及びその誘導体から選ばれる化合物とを含有してなる。研磨用組成物は、磁気ディスク用基板を研磨する用途で好適に使用される。 (もっと読む)


【課題】生産性の高いガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】溶融ガラスを板状ガラスに成形し、それを冷却する成形工程と、冷却された板状ガラスを切断してガラス素板とする第1切断工程と、ガラス素板を切断してガラス板とする第2切断工程と、ガラス板を所望の形状に加工する形状加工工程とを有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、第1切断工程と第2切断工程との間に、ガラス素板のたわみを測定する抜き取り検査工程を有する。抜き取り検査工程は、ガラス素板の対向する2辺を支持し一方の主表面とセンサ間の距離を測定した後、他方の主表面とセンサ間の距離を測定し、ガラス素板の自重によるたわみを相殺することでガラス素板のたわみを求める。 (もっと読む)


【課題】 主表面の表面凹凸を抑制した磁気ディスク用ガラス基板を、効率よく製造する方法及び磁気ディスク用ガラス基板を提供する。
【解決手段】 溶融ガラスの塊を、互いに対向しかつ略同じ温度に設定された一対の型の面を用いて挟み込みプレス成形することにより、ヘイズ率が20%以上の板状ガラス素材を成形する工程と、板状ガラス素材を固定砥粒を用いて研削する工程と、を有することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】循環耐久性に優れ、高研磨速度と低表面粗さを両立できる、ガラスハードディスク基板の製造方法の提供。
【解決手段】研磨材、酸、ベンゼン環上に互いに隣接する2個以上の水酸基を有する多価ヒドロキシベンゼン化合物、及び水を含有し、pH1.0〜4.0である研磨液組成物を用いて被研磨ガラス基板を研磨する工程を含む、ガラスハードディスク基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】本発明は、フラッタリング特性と表面平滑性に優れた記録媒体用ガラス基板を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の記録媒体用ガラス基板は、内層の表裏両面を表層で被覆したものであって、該内層は、SiO2およびP25の少なくとも1種を30質量%以上含み、かつLi2O、Na2O、およびK2Oからなる特定アルカリ成分の合計量が0.1〜16質量%であるガラス組成を有し、該表層は、SiO2およびP25の少なくとも1種を30質量%以上含み、かつLi2O、Na2O、およびK2Oからなる特定アルカリ成分の合計量が0〜0.1質量%であるガラス組成を有し、かつ該内層の特定アルカリ成分の合計量と該表層の特定アルカリ成分の合計量との差が、0.1質量%以上であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 良好な信号対ノイズ比(SNR)特性と良好な熱揺らぎ耐性を有する磁気記録媒体を用いて、高密度記録を行う。
【解決手段】 基板と、軟磁性層と、軟磁性層上に形成された多層下地層と、多層下地層上に形成された連続膜型磁気記録層とを含む磁気記録媒体。多層下地層は、銅からなり、(100)面配向した面心立方格子構造をもつ結晶粒子を含有する第1の下地層、第1の下地層上に形成された銅及び窒素からなる第2の下地層、及び第2の下地層上に島状に形成された第3の下地層を含む。連続膜型磁気記録層は、Fe及びCoのうち少なくとも一種の元素、及びPt及びPdのうち少なくとも一種の元素を含有し、L1構造を持ち、主として(001)配向した磁性結晶粒子を含む。 (もっと読む)


【課題】本発明は、フラッタリング特性と表面平滑性に優れた記録媒体用ガラス基板を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の記録媒体用ガラス基板は、内層の表裏両面を表層で被覆したものであって、該内層は、SiO2を40〜70質量%含み、かつLi2O、Na2O、およびK2Oからなる特定アルカリ成分の合計量が10〜16質量%であるガラス組成を有し、該表層は、SiO2を40〜70質量%含み、かつLi2O、Na2O、およびK2Oからなる特定アルカリ成分の合計量が1〜9.9質量%であるガラス組成を有し、内層の特定アルカリ成分の合計量と表層の特定アルカリ成分の合計量との差が、0.1質量%以上であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ブランク材の残留応力を完全に除去するようにブランク材を適正に矯正することができること。
【解決手段】最上端にあるブランク材14aiの凸面側(巻きの外側)の表面の中央部の周縁が矯正ブロック10の押圧面10PSに当接し、また、最下端にあるブランク材14aiの凹面側の周縁が矯正ブロック12の押圧面12PSに当接するように配置された後、所定の圧力により、ブランク材14aiの凸面が矯正ブロック10の押圧面10PSに倣って反転し、矯正ブロック12の押圧面12に倣って凹面となるまで変形され矯正されるもの。 (もっと読む)


【課題】 砥粒や研磨屑に対するリンス性が非常に高い電子材料用リンス液を提供することを目的とする。
【解決手段】 還元剤および水を必須成分として含有するリンス液を用いる。 (もっと読む)


【課題】 任意のターンテーブル回転速度において設計通りのパターンを高精度に描画してフォーマット情報領域を形成するディスク原盤製造制御方法の提供。
【解決手段】 任意の回転速度で回転されるターンテーブル上の基盤にフォーマット情報領域を形成する場合に、固定クロック信号に基づいて電子ビームの照射オン/オフ制御を行い電子ビーム照射によるパターン描画を行う。このときに、パターン情報とターンテーブルの回転速度とに基づき、電子ビームの照射オンと照射オフとの切り替え制御を行うタイミングを算出し、該算出したタイミングだけ固定クロック信号に基づく計時が行われるまで基盤に対する電子ビームの照射を行う。こうすると、可変周波数クロックを採用しておらずまたエンコーダパルス信号の発生精度にパターンの描画精度が依存しないので、ターンテーブルが任意の回転速度で回転されても設計通りのパターンを基盤上に高精度に描画することができる。 (もっと読む)


【課題】 砥粒に対する洗浄性が非常に高く、かつ、悪影響を及ぼす界面活性剤などの有機物の基板表面の残留が極めて少ない電子材料用洗浄剤、または悪影響を及ぼす界面活性剤を含有せずに非常に高い洗浄性を発揮する電子材料用洗浄剤および電子材料の製造方法を提供する。
【解決手段】 還元性を有するレダクトン類(A)0.01〜10重量%と水を含有し、1重量%に希釈したときの25℃での表面張力が50mN/m以下である界面活性剤(B)の含有量が0.01重量%未満であることを特徴とする電子材料用洗浄剤を用いる。 (もっと読む)


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