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Fターム[5D112AA24]の内容

磁気記録媒体の製造 (17,949) | 磁気記録媒体の構造、形状、物性 (7,034) | 磁気記録媒体及び支持体の形状 (2,070) | ディスク(ハード、フレキシブル) (1,860)

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【課題】板厚のばらつきが小さい板状ガラス素材を製造する方法を提供する。
【解決手段】一対の主表面を有する磁気ディスク用ガラスブランクの製造方法であって、溶融したガラスの塊を落下させる落下工程と、前記塊の落下経路の両側から、互いに対向する一対の型の面で前記塊を同じタイミングで挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材を成形するプレス工程と、前記プレス工程時における前記塊の全体における位置による粘度差を低減すべく、前記プレス工程前に、前記塊の温度を調整する温度調整工程と、を有することを特徴とする磁気ディスク用ガラスブランクの製造方法。 (もっと読む)


【課題】熱によるスタンパの寸法変化を防止され、製造コストを削減可能なインプリント装置を提供すること。
【解決手段】表面に凹凸パターンを有するスタンパ56を、基板52上に供給された紫外線硬化樹脂材料54の上に配置し、該スタンパ56の背面を流体を用いて加圧することにより該スタンパ56を押圧し、紫外線を照射することにより、前記紫外線硬化樹脂材料54を硬化させ、前記基板52の表面に前記凹凸パターンの反転凹凸パターンを形成するインプリント装置10において、前記基板52を保持する保持部材14と、前記保持部材14と対向する耐圧体12と、前記紫外線の光源20と、を有し、前記耐圧体14はその底部に導光板16を収容し、該導光板16は前記保持部材14と対向して配置されており、前記光源20から発生した紫外線は、該導光板の側面16bから入射して該導光板16の前記保持部材14側から出射し、前記紫外線硬化樹脂材料に照射されることを特徴とするインプリント装置。 (もっと読む)


【課題】熱によるスタンパの寸法変化が防止され、製造コストが削減されたインプリント装置を提供すること。
【解決手段】表面に凹凸パターンを有するスタンパ56を、基板52上に供給された紫外線硬化樹脂材料54の上に配置し、該スタンパ56の背面を流体を用いて加圧することにより該スタンパ56を押圧し、紫外線を照射することにより、前記紫外線硬化樹脂材料54を硬化させ、前記基板52の表面に凹凸パターンを形成するインプリント装置10において、前記基板52を保持する保持部材14と、前記保持部材14と対向する耐圧体12と、を有し、前記耐圧体12は、その底部に前記紫外線硬化樹脂材料54に紫外線を照射するLED16を備え、且つ前記耐圧体12の底部と前記保持部材14とが対向するように配置されていることを特徴とするインプリント装置。 (もっと読む)


【課題】良好な研磨レートを維持しつつ、スクラッチ(傷)等の表面欠陥を従来品より更に低減させることができ、基板表面品質への要求が現行よりもさらに厳しいものとなっている次世代用の基板として使用することが可能な高品質のガラス基板を低コストで製造できる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板を、表面に研磨パッドが配備された一対の定盤で挟み、ガラス基板と研磨パッドとの間に研磨砥粒を含む研磨液を供給することでガラス基板の主表面を研磨する研磨工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法である。ここで、摩擦係数が0.02〜0.05の範囲内となるように調整された研磨液と研磨パッドを用いて上記研磨工程を行う。 (もっと読む)


【課題】正確なパターン形成とスループットとの両立に有利なインプリント装置を提供する。
【解決手段】インプリント装置1は、基板10上のインプリント12材を型8により成形して硬化させ、基板10上にパターンを形成するものである。インプリント装置1は、基板10上のインプリント材12と型8との間にガスを供給する供給手段6を有する。この供給手段6は、型8、インプリント材12および基板10の少なくとも1つを透過する透過性ガスと、成形により生じる圧力により液化する凝縮性ガスとを混合した混合ガスを供給する。 (もっと読む)


【課題】鏡面板ガラスの主表面を微細な固定砥粒で研磨する際に、研磨開始時から高加工レートを実現でき、加工時間を短縮すること。
【解決手段】主表面が鏡面となっている鏡面板ガラス(3)を、固定砥粒であるダイヤモンドシート(10)を用いて必要な平坦度及び表面粗さに加工するガラス基板の製造方法である。前処理としてダイヤモンドシート(10)が研磨作用する程度まで鏡面板ガラス(3)表面を機械的方法又は化学的方法で粗面化する。その後、ダイヤモンドシート(10)を用いて鏡面板ガラス(3)表面を加工して所望の板厚及び平坦度に加工する。 (もっと読む)


【課題】シアマークに起因する主表面の欠陥を抑制した磁気ディスク用ガラス基板を効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】一対の主表面を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、溶融したガラスを切断してなるガラスの塊を鉛直方向下向きに落下させる落下工程と、互いに対向する一対の型から前記塊の少なくとも切断痕がはみ出すタイミングで、前記塊の落下経路の両側から、前記一対の型の面が前記塊を同じタイミングで挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材を成形するプレス工程と、前記一対の型からはみ出したガラス素材を除去する除去工程と、を有することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】小径化が急務となっている磁気ディスク用ガラス基板の内周側端面の表面状態を低コストで効率良く高品質に仕上げる研磨ブラシ、研磨方法等を提供する。
【解決手段】中心部に円孔を有する円板状のガラス基板の内周側端面部分に研磨液を供給しつつ、前記ガラス基板の内周側端面に研磨ブラシを接触回転させて研磨する研磨方法に用いる研磨ブラシである。該研磨ブラシ20は、その軸心21に対して毛材22が略直交する方向に突設されてなり、2つの外径D1,D2の異なる部分が軸方向にわたって交互に配列されるとともに、その小径D2となされた部分が大径D1となされた部分よりも毛材の硬度を大きくする。そのため、研磨ブラシ20における小径D2となされた部分の毛材を樹脂で固める。 (もっと読む)


【課題】真円度に優れた磁気ディスク用ガラス基板を効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】一対の主表面を有する磁気ディスク用ガラス基板Gの製造方法であって、溶融したガラスの塊GGを落下させる落下工程と、前記塊の落下経路の両側から、互いに対向する一対の型121,122の面121a,122aで前記塊GGを同じタイミングで挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材Gを成形するプレス工程と、前記板状ガラス素材Gを加工する加工工程と、を有し、前記塊GGの落下方向の速度成分について、前記一対の型121,122に対する前記塊GGの相対速度を0に近づけるべく、前記プレス工程は、前記塊GGが落下する方向に前記一対の型121,122が移動しながら、前記塊GGを挟み込むことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板Gの製造方法。 (もっと読む)


【課題】本発明は、吸着部で情報記録媒体用ガラス基板を吸着した際に、情報記録媒体用ガラス基板の表面に付着する異物や傷等の数が多量に増加するおそれが少ない情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、および、情報記録媒体用ガラス基板を研磨装置の研磨パッドから取り外し易い吸着具の提供を目的とする。
【解決手段】本発明の吸着具1は、吸着パッド32を備えている。吸着パッド32は、中心孔32aと、その中心孔32aから当該当接パッド32の外周端に延ばされた溝32bとを備えている。 (もっと読む)


【課題】熱アシスト磁気記録方式による垂直磁気記録媒体に対して、光照射機能を有するような特別の磁気ヘッドを用いることなく、サーティファイ検査を実施する。
【解決手段】熱アシスト磁気記録方式に用いる磁気記録媒体の検査方法であって、磁気記録媒体に熱エネルギーを与えるステップと、磁気記録媒体における磁化の方向が一定となるように、磁気記録媒体の熱エネルギーが与えられた領域に磁界を印加するステップと、磁気記録媒体から再生信号を得るステップと、再生信号において、ピークが発生した部分に対応する磁気記録媒体の領域を欠陥と判別するステップとを備えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】アルミニウム合金基板の表面にNiPめっき被膜を形成した磁気記録媒体用基板について、アルミナ砥粒を使用しない磁気記録媒体用基板の製造方法を提供する。
【解決手段】アルミニウム合金基板の表面にNiPめっき被膜を形成した磁気記録媒体用基板の表面を研磨する際に、第1の研磨盤を用いて粉砕シリカ砥粒を含む研磨液を供給しながら研磨する粗研磨工程と、第2の研磨盤を用いてコロイダルシリカ砥粒を含む研磨液を供給しながら研磨する仕上げ研磨工程と含むことにより、アルミナ砥粒を使用することなく、この磁気記録媒体用基板の表面に対して良好な研磨処理を施すことができるため、従来のアルミナ砥粒を用いた場合に生じるアルミナ砥粒の磁気記録媒体用基板への突き刺さりを防ぐことが可能である。 (もっと読む)


【課題】短時間にサーボ特性を最適にする垂直磁気記録媒体の初期化方法を提供する。
【解決手段】保磁力がHcであり、かつ核発生磁界がHnの垂直磁気記録媒体を初期化するための垂直磁気記録媒体の初期化方法であって、前記垂直磁気記録媒体を所定の位置に配置する配置ステップと、電磁石または永久磁石を有する磁界印加手段が、前記垂直磁気記録媒体に直流磁界Haを印加する磁界印加ステップと、を備え、前記磁界印加ステップでは、前記直流磁界Haの成分のうち、前記垂直磁気記録媒体の表面に平行な成分である水平方向磁界成分をHah、垂直な成分である垂直方向磁界成分をHazとしたとき、Haz/Hn≦1.17かつHah/Hc≧1.3になるように、前記直流磁界Haを前記垂直磁気記録媒体に印加する垂直磁気記録媒体の初期化方法。 (もっと読む)


【課題】短時間で、かつ磁気記録媒体の表面全体にわたって保護層の被覆性を評価できる方法およびその方法に用いる分析装置の提供。
【解決手段】本発明は、基板と、金属材料を含む磁性層と、該磁性層の上に形成された炭素系保護層とを少なくとも含む磁気記録媒体を対象とし、磁気記録媒体にコロイド微粒子を付着させる工程と、コロイド微粒子の付着状態を光学的に観察する工程とを含む炭素系保護層の被覆性を評価する方法に関する。また、本発明は、磁気記録媒体に対するコロイド水溶液の塗布手段と、磁気記録媒体を光学的に観察する手段とを含む、炭素系保護層の被覆性を評価する分析装置に関する。 (もっと読む)


【課題】 パターンの形成にかかる時間を短縮するパターン形成方法、磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】 ハードマスクが成膜された基板にレジストを塗布し、レジストパターンを形成し、前記レジストパターンをマスクとして前記ハードマスクをエッチングしてハードマスクパターンを形成し、前記ハードマスク上にレジストを塗布し、電子ビーム描画を行って第2のレジストパターンを形成し、前記第2のレジストパターンをマスクとして前記ハードマスクをエッチングして第2のハードマスクパターンを形成する。 (もっと読む)


【課題】所定の組成を有するレジスト層に対して所望の解像度をもたらしつつも、レジストパターンを形成する際の必要露光量を低減させる。
【解決手段】α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、アルコール溶媒Aと、メチルイソブチルケトンからなる溶媒Bとを含む。 (もっと読む)


【課題】所定の組成を有するレジスト層に対して所望の解像度をもたらしつつも、レジストパターンを形成する際の必要露光量を低減させる。
【解決手段】α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、フルオロカーボンを含む溶媒Aと、前記溶媒Aよりも前記レジスト層に対する溶解度が高い酢酸−n−アミル又は酢酸エチル又はそれらの混合物からなる溶媒Bとを含む。 (もっと読む)


【課題】ナノインプリントにおいて従来技術に比してパターン形成性をより向上させる。
【解決手段】微細な凹凸パターンを有する基板12と、この凹凸パターンに沿ってこの凹凸パターンの表面に形成された離型層14とを備えるモールドを用いて、基板2上に塗布されたレジスト3を押圧し、上記凹凸パターンが転写されたレジストパターンを形成するナノインプリント方法において、上記レジストパターンのラインの幅が所望の値となるように、上記離型層14の厚さと、上記モールドを用いて上記レジスト3を押圧する際の押圧圧力の大きさとを調整する。これにより、レジストパターンのラインの幅を制御する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、平行度などの形状特性に優れる磁気記録媒体用ガラス基板の提供を目的とする。また、平行度などの形状特性に優れる磁気記録媒体用ガラス基板を高い生産性で研磨するガラス基板の研磨方法、及び該研磨方法を用いた研磨工程を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、磁気記録媒体用ガラス基板の上下主平面を研磨する研磨工程において、ガラス基板を研磨する両面研磨装置の上定盤及び下定盤は、内周端と外周端のある円盤形状を有し、該外周端により形成される外径が0.6m〜2mであり、下定盤は回転速度33〜49rpmで回転駆動し、上定盤は下定盤と反対方向に回転速度10〜21rpmで回転駆動し、ガラス基板を保持するキャリアは下定盤と同方向に速度2〜16rpmで公転し、ガラス基板の両主平面を押圧する上定盤と下定盤の圧力は8.0〜16.0MPaである研磨方法を有することを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】所定の組成を有するレジスト層に対して所望の解像度をもたらしつつも、レジストパターンを形成する際の必要露光量を低減させる。
【解決手段】α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、フルオロカーボンを含む溶媒Aと、前記溶媒Aよりも前記レジスト層に対する溶解度が高いメチルイソブチルケトンからなる溶媒Bとを含む。 (もっと読む)


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