【課題】砥粒に対する洗浄性が非常に高く、かつ、基板への残留が極めて少ない電子材料用洗浄剤、および電子材料の製造方法を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表されるフェノール系化合物（Ａ）またはこの塩を０．０１〜１０重量％と水を必須成分として含有し、１重量％水溶液の２５℃における表面張力が５０ｍＮ／ｍ以下である界面活性剤（Ｂ）の含有量が０．０１重量％未満である電子材料用洗浄剤。


［式中、Ｘ^１〜Ｘ^５はそれぞれ独立に水素原子、水酸基、カルボキシル基またはアミノ基を表す。］ （もっと読む）

【課題】研磨時の被鏡面研磨面のスクラッチ・パーティクル等の欠陥が少なく、かつ、被鏡面研磨面の表面粗さが小さくなる安定した研磨特性が得られる仕上げ用研磨パッドを提供する。
【解決手段】異なる２種以上の層からなる研磨シート（ａ）とクッション層（ｂ）からなる研磨パッドであって、前記研磨シート（ａ）の表層が湿式凝固法で得られるポリウレタンを主成分とする多孔質ポリウレタン層（ｃ）であり、その他の層のいずれかが圧縮弾性率が０．０８ＭＰa以上０．２５ＭＰａ以下の発泡プラスチック層（ｄ）からなる研磨パッド。 （もっと読む）

【課題】ＤＴメディアやパターンドメディアの製造に適した磁気記録媒体用基板であって、複雑な工程が不要で簡易にＤＴメディアやパターンドメディアを製造することが可能な磁気記録媒体用基板を提供する。
【解決手段】磁気記録媒体用基板は、円板状の形状を有する非磁性の母材を基板とし、基板表面の磁性膜を成膜しようとする所定領域の濡れ性が、他の領域の濡れ性と異なっている。 （もっと読む）

【課題】基板表面に砥粒の残留がなく凹み欠陥も存在しないハードディスク基板を製造するためのリンス剤、及び該リンス剤を使用したハードディスク基板の製造方法を得ること。
【解決手段】本発明のリンス剤は、砥粒としてコロイダルシリカを含有するリンス液であり、コロイダルシリカ砥粒の濃度をＣ、コロイダルシリカ砥粒の平均粒径をＲとしたときに（Ｃ、Ｒはそれぞれ重量％、nmで表される）、コロイダルシリカ砥粒の濃度Ｃと平均粒径Ｒの関係が下記の式（１）を満足する構成を有している。
Ｒ≧２．２Ｃ＋１８．２・・・・・（１） （もっと読む）

【課題】イオン注入の際にマスクとして用いたレジストを効率よく除去することができる磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】イオン注入処理の終了後、レジストパターンをアッシングする前に、レジストパターンをフッ素処理する。上記フッ素処理によって、イオンの照射により変質したレジストパターンは、上記アッシングによる除去処理に適した物質へ変換される。これにより、アッシング工程において効率よくレジストパターンを除去することが可能となる。また、レジストの残渣量が低減されることで、表面平坦度の高い磁気記録媒体を安定して製造することができる。 （もっと読む）

【課題】適用範囲が広く研磨した表面における端面だれを低減できる研磨剤組成物を提供する。
【解決手段】研磨材（但し中間アルミナを除く）、酸、酸化剤を含有する研磨剤組成物であって、研磨材の累積粒度分布のＤ１０およびＤ５０を用いて算出したＤ１０／Ｄ５０の値が０．５５以上である研磨剤組成物。 （もっと読む）

【課題】被処理面にスクラッチや繊維かすを発生させず、かつ、異物および余剰油分を除去できる機能を持つワイピングフィルムを提供すること。
【解決手段】柔軟なフィルム状基材と、該基材の一表面上に被覆されたワイピング層とを有するワイピングフィルムにおいて、該ワイピング層が結合剤とその中に分散されたプラスチック製微粒子とを有するワイピングフィルム。 （もっと読む）

【課題】アルミナ粒子とシリカ粒子とを含む磁気ディスク基板用研磨液組成物であって、研磨速度の向上とロールオフの低減が可能な磁気ディスク基板用研磨液組成物、及びこれを用いた磁気ディスク基板の製造方法の提供。
【解決手段】アルミナ粒子、シリカ粒子、オキシアルキレン基を有する化合物、及び水を含有する磁気ディスク基板用研磨液組成物であって、前記シリカ粒子が透過型電子顕微鏡観察による測定で得られた前記シリカ粒子の粒径（ｎｍ）に対して小粒径側からの累積体積頻度（％）をプロットして得られた前記シリカ粒子の粒径対累積体積頻度グラフにおいて粒径１０ｎｍにおける累積体積頻度が０〜４０％でありかつ粒径４０ｎｍにおける累積体積頻度が５５〜１００％である、磁気ディスク基板用研磨液組成物。 （もっと読む）

【課題】基板の研磨方法を提供する。
【解決手段】本発明は、（ｉ）（ａ）８以上のモース硬さを有する第１の研磨粒子を５〜４５ｗｔ％、（ｂ）より小さな一次粒子の凝集体を含む三次元構造を有する第２の研磨粒子を１〜４５ｗｔ％、及び（ｃ）シリカを含む第３の研磨粒子を１０〜９０ｗｔ％含む研磨材と、（ｉｉ）液体キャリヤーとを含む、研磨用組成物を提供する。本発明はまた、（ｉ）上記の研磨用組成物を用意する工程、（ｉｉ）表面を有する基板を用意する工程、及び（ｉｉｉ）基板表面の少なくとも一部を研磨用組成物で削って基板を研磨する工程を含む、基板の研磨方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】高密度記録が可能な磁気ディスクを簡易かつ低コストで製造する。
【解決手段】基板１１０上面に設けられた軟磁性金属ガラス層４４は、熱式インプリントの際に加熱されかつ徐冷されても、結晶化することなくアモルファスと同様の構造を維持するので、熱的な影響を与えることなく軟磁性金属ガラス層４４に熱インプリントでパターンを形成することができる。したがって、熱インプリントで形成されたパターンに応じた記録が可能なディスクリート・トラックメディア（ＤＴＭ）やパターンドメディア（ＰＭ）が、エッチングやアッシングなどの処理を行うことなく（すなわち、これらの処理を行うための設備を用意することなく）製造できるので、高密度記録が可能な磁気ディスクを簡易かつ低コストで製造することができる。 （もっと読む）

【課題】高度に清浄化されたハードディスク用基板の製造を可能とする製造方法を提供する。
【解決手段】Ｎｉ−Ｐ含有層を両最外層として有するハードディスク用基板の製造方法であって、Ｎｉ−Ｐ含有層を両最外層として有する基板を第１液中に浸漬させる工程Ｉと、中性またはアルカリ性の洗浄剤で前記基板を洗浄する工程IIIと、前記工程Ｉの後、前記
工程IIIの前に、第２液に前記基板の全表面が接するように、前記基板を前記第２液中に浸漬させる工程IIを含み、前記基板が浸漬されている時の前記第１液が酸性であり、前記基板が浸漬されている時の前記第２液のｐＨが１〜４である。 （もっと読む）

【課題】発塵防止性に優れた基板の洗浄装置の提供を目的とする。
【手段】本発明はドーナツ円盤状の基板を洗浄する装置であり、噴出装置とチャック装置を具備し、チャック装置が基板孔部の内側に挿通される支持ロッドを複数本備えたスピンドルチャックと、該スピンドルチャックを回転駆動する水力回転機構とを具備してなり、前記スピンドルチャックが、支持ロッドを移動自在に支持する駆動機構を複数備えた支持ベースと、回転軸とを具備し、前記水力回転機構が、回転軸を取り囲むととともに駆動流体の流通路を内部に備えたシャーシ部材と、該シャーシ部材内の流通路に望んで設けられた水車部材と、駆動流体の供給路および排出路を備えてなる。 （もっと読む）

【課題】研磨後の基板における砥粒の突き刺さり及び表面汚れを低減可能なハードディスク基板用研磨液組成物、及び、これを用いたハードディスク基板の製造方法の提供
【解決手段】酸化アルミニウム粒子、有機窒素化合物、及び、水を含有するハードディスク基板用研磨液組成物。前記酸化アルミニウム粒子の二次粒子の体積中位粒子径は、０．１〜０．７μｍであり、前記酸化アルミニウム粒子中における粒子径が１μｍ以上の粒子の含有量は、０．２重量％以下であり、前記有機窒素化合物は、分子内に２以上のアミノ基及び／又はイミノ基を有する有機窒素化合物である。 （もっと読む）

【課題】ランプロード方式に適用可能であり、磁気ヘッドの飛行安定性に優れ、高品質で電磁変換特性にも優れた磁気記録媒体及びその製造方法並びに磁気記録再生装置を提供する。
【解決手段】非磁性基板１上に少なくとも磁性層が備えられてなる磁気記録媒体であって、非磁性基板１の表面１ａにテクスチャリング処理により、長手方向に円周方向成分を有しかつ相互に交差する複数の溝１１が形成され、溝１１同士のクロス角度αが２°〜８°の範囲に設定されており、浮上式磁気ヘッドとの組合せで使用され、浮上式磁気ヘッドの浮上量が１０ｎｍ以下の条件で使用されるものであることを特徴とする磁気記録媒体を採用する。 （もっと読む）

【課題】加工時に高精度かつ高効率性が得られるディスク加工用基布とその製造方法を提供すること。
【解決手段】繊維を含むシート状物であって、加工使用面における液滴の吸液時間が１０〜６０秒／１５μｌであって、非使用面である裏面における液滴の吸液時間が０．００１〜５秒／１５μｌであることを特徴とする。さらには、加工使用面における液滴の吸液水時間が、裏面における液滴吸液時間の５倍以上であること、該繊維が、０．１ｄｔｅｘ以下の極細繊維であること、加工使用面が極細繊維立毛を有すること、該シート状物が繊維と高分子弾性体からなるものであることが好ましい。また製造方法は、繊維を含み、かつ全層が親水性を示すシート状物の一方の表面に撥水剤を含有する溶液を１０〜１５０ｇ／ｍ^２塗布することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】被加工物より良好な切断面品質を有する磁気転写用マスター担体を切り出すことが可能なレーザ切断加工方法を提供する。
【解決手段】レーザ光源より被加工物の表面にレーザ光を照射して該被加工物の切断加工を行う際に、前記レーザ光のピーク出力を曲線１００ａ〜１００ｃよりも大きく且つ前記レーザ光の総照射時間を直線１０２ａ〜１０２ｃよりも短い領域１０４に適合するように切断加工条件を設定する。すなわち、前記領域１０４は、ｌｏｇＹ≧ｂＸ^cｌｏｇａ及びＸ≦ｄ（ａ＝２、ｃ＝−０．１３）の条件を満足し、例えば、前記レーザ光の波長λが１０６４［ｎｍ］で且つ前記被加工物の厚みｔが０［ｍｍ］＜ｔ≦０．６［ｍｍ］の場合、ｂ＝３．４〜３．８且つｄ＝０．０９〜０．２である。 （もっと読む）

【課題】 転写パターンのさらなる高精細化が進んでも高精度転写を実施可能な転写用原盤の製造技術を提供する。
【解決手段】 平坦基板２０へのレジスト３１の塗布、露光及び現像を実施して、径方向の異なる位置に周方向に延びる複数の凹凸パターンを有するレジストパターンＲを形成する工程（Ａ）と、レジストパターンＲをマスクとして、外周側から内周側に向けてエッチングレートが大きくなる条件で平坦基板２０をエッチングし、エッチング部分を凹部２１とする表面凹凸パターンＰ１と補完的な反転パターンＰ２を形成する工程（Ｂ）とを順次実施して、転写用原盤基板の型４０を製造する。 （もっと読む）

【課題】欠陥がなく、良好な精度のマスターディスクが得られるマスターディスクの製造方法、このマスターディスクの磁気情報パターンを転写した磁気記録媒体、及び該磁気記録媒体を備える磁気記録装置を提供する。
【解決手段】表面に反転凹凸パターンを有するマスター型１７の表面に酸化層の厚さが１ｎｍ以上、１０ｎｍ以下の初期電導層を形成する工程と、初期電導層の表面に金属１８を鍍金して、初期電導層と鍍金層よりなるマスター基板１１を形成する工程と、マスター基板をマスター型より剥離する工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】 転写パターンのさらなる高精細化が進んでも高精度転写を実施可能な転写用原盤の製造技術を提供する。
【解決手段】 平坦基板２０へのレジスト３１の塗布、露光及び現像を実施して、レジストパターンＲ１を形成する工程（Ａ）と、レジストパターンＲ１のライン幅均一性を向上する工程（Ｂ）と、工程（Ｂ）後のレジストパターンＲ２をマスクとして平坦基板２０をエッチングし、エッチング部分を凹部２１とする表面凹凸パターンＰ１と補完的な反転パターンＰ２を形成する工程（Ｃ）とを順次実施して、転写用原盤基板の型４０を製造する。 （もっと読む）

【課題】磁気転写によって転写する情報を担持したマスターディスクであって、電鋳を行う際に原版上の凹凸パターンの形状転写が良好になされ、また、電鋳層に内部応力を生じにくく、高平坦であり、被転写用のスレーブディスクに対して密着性の高いマスターディスクを提供する。
【解決手段】反転凹凸パターンを有する反転型より電鋳工程によって表面に転写情報に対応する凹凸パターンが転写された金属盤であるマスター基板を得、マスター基板の凹凸パターン上に磁性層を成膜した磁気転写用マスターディスクの製造方法である。反転型１７の表面に電導層を形成する工程と、反転型の電導層の表面にダミー液Ｄを塗布し反転凹凸パターンの略全面をダミー液Ｄで覆う工程と、ダミー液Ｄが塗布された反転型を電鋳装置６０の液槽６４に浸漬させる工程と、電鋳装置の液槽に浸漬された反転型の反転凹凸パターンと鍍金電源の陰極との導通をとり電鋳を行う工程とを含ませる。 （もっと読む）