【課題】アルミナ突き刺さりを低減できる磁気ディスク基板の製造方法の提供。
【解決手段】下記（１）〜（４）の工程を有する、磁気ディスク基板の製造方法。
（１）アルミナ粒子及び水を含有する研磨液組成物Ａを用いて被研磨基板の研磨対象面を研磨する工程、
（２）平均一次粒子径（Ｄ５０）が５〜６０ｎｍであり、一次粒子径の標準偏差が４０ｎｍ未満であるシリカ粒子及び水を含有する研磨液組成物Ｂを用いて前記工程（１）で得られた基板の研磨対象面を研磨する工程、
（３）工程（２）で得られた基板を洗浄する工程、
（４）シリカ粒子及び水を含有する研磨液組成物Ｃを用いて工程（３）で得られた基板の研磨対象面を研磨する工程。 （もっと読む）

【課題】適用範囲が広く研磨した表面における端面だれを低減できる研磨剤組成物を提供する。
【解決手段】研磨材（但し中間アルミナを除く）、酸、酸化剤を含有する研磨剤組成物であって、研磨材の累積粒度分布のＤ１０およびＤ５０を用いて算出したＤ１０／Ｄ５０の値が０．５５以上である研磨剤組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明は、優れた洗浄性、および耐泡立ち性を呈し、さらにＣＯＤの少ないＨＤ用基板用の洗浄剤組成物、およびそれを用いたＨＤ用基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のＮｉ−Ｐ含有層を有するＨＤ用基板用の洗浄剤組成物は、重量平均分子量が１,０００〜１０,０００であるポリアクリル酸アルカリ金属塩（成分(a)）と、ｐ−トルエンスルホン酸アルカリ金属塩（成分(b)）と、水溶性アミン化合物（成分(c)）と、キレート剤（成分(d)）と、水（成分(e)）とを含有し、実質的に非イオン性界面活性剤は含まず、成分(a)、成分(b)、成分(c)、および成分(d)の総量中、成分(a)を５〜３５重量％、成分(b)を１５〜５０重量％、成分(c)を１５〜５０重量％、成分(d)を５〜２５重量％含有し、かつ成分(c)と成分(d)の重量比｛成分(c)/成分(d)｝が０．８〜５である。 （もっと読む）

【課題】砥粒や研磨屑の凝集を抑制し、スクラッチなどの欠点の非常に少ない研磨を行うことができる、平滑性に優れた研磨布を提供する。
【解決手段】実質的に繊維のみからなる表層を有し、前記繊維の数平均直径が１〜５００ｎｍであり、表面粗さの平均偏差（ＳＭＤ）がタテ方向、ヨコ方向の各々の値が２．０μｍ以下であることを特徴とする研磨布。 （もっと読む）

【課題】平滑なデータ面を確保しつつ、より清浄度の高い磁気記録媒体用基板を提供する。
【解決手段】磁気記録媒体用のＮｉ−Ｐめっきを施したアルミ基板の洗浄方法であって、酸性電解液中に基板を浸漬し、且つ、基板を陽極に接触させ、一方で基板端面近傍に不溶性電極（陰極）を配置し、両電極間に直流電圧を印加して基板端面のみを選択的にエッチング処理を施し、基板端面を洗浄することを特徴とする磁気記録媒体用アルミ基板の洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】スクラッチなどの欠点が少なく、シャープな線密度の高いテクスチャー痕跡を有するハードディスク基板のテクスチャー加工を可能とし更に、微細な研磨屑、及び砥粒片のふき取りが十分でクリーニング性が良く、スクラッチ欠点の発生を極小化できる研磨布を提供することである。
【解決手段】本発明の研磨布は平均単繊維径が０．０５〜２．０μｍのポリアミド極細集束繊維束を絡合してなる不織布と高分子弾性体とからなり該極細集束繊維の束中には実質的に高分子弾性体は存在せず、該極細集束繊維の絡合体の空隙には該高分子弾性体が充填されており、その一面には該極細集束繊維と連続した立毛が形成されてなるシート状物であって、極細単繊維径分布、圧縮弾性率、ねじれ指数、立毛長さが特定の条件を満足する研磨布とする。 （もっと読む）

【課題】生産性を損なうことなく、アルミナ砥粒の基板への突き刺さりを低減できるハードディスク基板用研磨液組成物の提供。
【解決手段】アルミナ粒子、シリカ粒子、及び水を含み、前記アルミナ粒子の二次粒子のレーザー光回折法により測定される体積中位粒径が０．１〜０．８μｍであり、前記シリカ粒子の一次粒子の透過型電子顕微鏡観察により測定される体積中位粒径が４０〜１５０ｎｍであり、前記シリカ粒子の一次粒子の透過型電子顕微鏡観察により測定される粒径の個数基準の標準偏差が１１〜３５ｎｍである、ハードディスク基板用研磨液組成物。 （もっと読む）

【課題】高度に清浄化されたハードディスク用基板の製造を可能とする製造方法を提供する。
【解決手段】Ｎｉ−Ｐ含有層を両最外層として有するハードディスク用基板の製造方法であって、Ｎｉ−Ｐ含有層を両最外層として有する基板を第１液中に浸漬させる工程Ｉと、中性またはアルカリ性の洗浄剤で前記基板を洗浄する工程IIIと、前記工程Ｉの後、前記
工程IIIの前に、第２液に前記基板の全表面が接するように、前記基板を前記第２液中に浸漬させる工程IIを含み、前記基板が浸漬されている時の前記第１液が酸性であり、前記基板が浸漬されている時の前記第２液のｐＨが１〜４である。 （もっと読む）

【課題】 磁気ディスク基板表面の平坦性を損ねることなく適度なエッチング性を付与し、また界面活性剤を用いて基板表面から脱離したパーティクルの分散性を高めることで、優れたパーティクルの除去性を実現し、これにより、製造時における歩留まり率の向上や短時間で洗浄が可能となる極めて効率的な高度洗浄を可能にする磁気ディスク用基板洗浄剤を提供する。
【解決手段】 界面活性剤（Ａ）を含有してなる磁気ディスク基板用洗浄剤であって、洗浄液として使用される場合の有効成分濃度における２５℃でのｐＨが５〜１３であり、ｐＨ及び同濃度における２５℃での酸化還元電位（Ｖ）［単位はｍＶ、ｖｓＳＨＥ］が下記数式（１）を満たすことを特徴とする磁気ディスク基板用洗浄剤。
Ｖ ≦ −３８．７×ｐＨ＋５５０ （１） （もっと読む）

【課題】基板表面の残渣を除去しつつ、基板表面の酸化を抑制する洗浄方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ナノバブル水を用いて磁気記録媒体用基板表面を洗浄することを特徴とする磁気記録媒体用基板の洗浄方法および該洗浄方法で洗浄された基板上に、少なくとも磁性層、保護層、及び、液体潤滑層を順次形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】基板表面に加工斑や不要の残渣が生じることなく、平均表面粗さ０．１０nm以上、０．３０nm以下、ライン密度４０本／μｍ以上のテクスチャ条痕を均一に且つ鮮明に形成することができる加工スラリー及び方法を提供する。
【解決手段】Ｎｉ−Ｐメッキしたアルミニウム基板をテクスチャ加工する。基板１５を回転させ、基板の表面に加工スラリーを供給し、基板の表面に加工テープ１４を押し付け、走行させる。加工スラリーが、研磨材、及び分散媒を含み、研磨材として一次粒子径２０ｎｍ以下のダイヤモンド粒子からなる二次粒子が含まれ、二次粒子の粒度分布Ｄ５０が０．１０〜０．２８μｍの範囲にある。分散媒が、添加剤として、グリコール化合物、炭素数８〜２２の範囲にある脂肪酸、アルカノールアミン、脂肪酸アマイド、及びリン酸エステル化合物を含む。 （もっと読む）

【課題】低ノイズで良好な信号再生特性を有する垂直磁気記録媒体の製造に適する基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】非磁性基板１上に、好ましくは核付け層２を設け、この上に反強磁性膜を含む多層軟磁性裏打ち層３を成膜する。この軟磁性裏打ち層３は、軟磁性膜と反強磁性膜の間で交換結合しており、かつ周方向もしくは径方向に異方性を有している。反強磁性膜は、好ましくは、Ｃｒ又はＭｎを含有する合金の膜又は自然酸化以外の金属酸化膜であり、めっき等により成膜することより得られる。また、該異方性化は磁場中熱処理により行われ、磁場印加方向により周と径異方性を作り分けられる。そして、この軟磁性裏打ち層３上に垂直磁気記録用の磁気記録層５を形成し、さらに、好ましくは保護層６及び潤滑層７を順次積層する。 （もっと読む）

【課題】研磨液中から、研磨対象の表面に付着しそうな砥粒を予め除去する。
【解決手段】遊離砥粒を含む液体を、所定圧力で互いに対して押し付けられていて相対移動されている２つの処理部材１２、１４間に供給し、その２つの処理部材１２、１４に研磨対象の表面に付着しそうな一部の砥粒αを付着残留させる。処理部材１２、１４間を通過して遊離砥粒の一部である砥粒αが除かれた液体を、研磨液とするべく回収する。 （もっと読む）

【課題】洗浄工程における磁気記録媒体用基板の浮き上がりを防止し、良好に洗浄することが可能な磁気記録媒体用基板を提供する。
【解決手段】この実施形態に係る磁気記録媒体用基板は円板状の形状を有し、樹脂を母材としている。この基板の比重は、洗浄工程で用いられる洗浄剤の比重よりも大きい。例えば、基板に無機材料のフィラー材を含有させて、比重を１．２以上にしたり、基板表面に金属層を形成することで、比重を１．２以上にしたりする。これにより、磁気記録媒体用基板は洗浄剤に沈むため、磁気記録媒体用基板を良好に洗浄することができる。その結果、表面が洗浄な状態の磁気記録媒体用基板が得られる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、テクスチャー加工用研磨布に関し、基盤表面粗さを０．３ｎｍ以下を達成し、スクラッチ欠点、リッジ欠点に優れ、かつ、線密度の高いテクスチャー痕を形成することができる研磨布を提供することにある。
【解決手段】平均単繊維繊度が０．００００１〜０．１ｄｔｅｘの極細繊維束からなる不織布と弾性重合体とで構成されるシート状物からなる研磨布であって、ＪＩＳ Ｌ−１９０７バイレック法（２００４年度版）で測定される吸水速度が１〜５０ｍｍの範囲であることを特徴とする研磨布。 （もっと読む）

【課題】低ノイズで良好な信号再生特性を有する垂直磁気記録媒体の製造に適する基板およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】非磁性基板１１上に無電解メッキ法で軟磁性裏打ち層１２を形成する。メッキ成膜された軟磁性裏打ち層には、熱処理温度が１５０℃以上３５０℃以下、基板への印加磁場強度が５０エルステッド（Ｏｅ）以上、処理時間が５分乃至１０時間の範囲で条件選択されて磁場中熱処理が施される。この磁場中熱処理により、軟磁性膜の面内径方向の磁化飽和磁場強度（Ｈ_d）と面内周方向の磁化飽和磁場強度（Ｈ_c）との差（δＨ＝Ｈ_d−Ｈ_c）が絶対値で５エルステッド（Ｏｅ）以上の磁気的異方性であって、基板中心軸に対する対称性を有する磁気的異方性が付与される。このような磁気的異方性をもつ軟磁性裏打ち層はノイズ低減に効果的であり、しかも、磁気的異方性の程度の制御性や再現性が高い。 （もっと読む）

【解決課題】Ni-Pめっきを施した磁気基板の研磨、特に仕上げ研磨用として、スクラッチや突起等の表面欠陥を低減することが可能である研磨用組成物を提供する。
【解決手段】金属イオンに配位可能な共重合樹脂（A）、研磨促進剤、及び水を含有することを特徴とするNi含有基板の研磨用組成物。 （もっと読む）

【課題】破壊強度を高めつつ、基板表面上に形成される金属層との密着強度を高めることが可能な磁気記録媒体用ガラス基板を提供する。
【解決手段】円盤状の磁気記録媒体用ガラス基板１は、内部に非化学強化層（引張り応力層）２が形成され、内周端面１ｃに化学強化層３ｃ（圧縮応力層）が形成され、外周端面１ｄに化学強化層３ｄが形成されている。主表面（上面１ａ及び下面１ｂ）には化学強化層は形成されていない。このように基板の端面に化学強化層が形成されていることで、基板内部における引張り応力と圧縮応力とのバランスがとれるため、ガラス基板の破壊強度を高めることができる。また、上面１ａ及び下面１ｂには化学強化層が形成されていないため、上面１ａ又は下面１ｂの上に形成されるニッケル合金層とガラス基板との密着強度を高めることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】低ノイズで良好な信号再生特性を有する垂直磁気記録媒体の製造に適する基板およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】メッキ成膜された軟磁性膜に熱処理を施すことで、メッキ工程に膜中に取り込まれた液性成分やガス成分を脱離させる。熱処理温度は、３５０℃以下１００℃以上とすることが好ましい。この熱処理は、研磨工程前に実行される第１の熱処理と、この研磨工程後に実行される第２の熱処理との、少なくとも２回に分けると効果的である。第１の熱処理においては、膜中には多くの液性・ガス成分が含有されているため、これらの成分脱離により膜中に構造的欠陥が生じないように比較的緩やかな条件で実行する。したがって、第１の熱処理温度は、第２の熱処理の温度よりも低く設定することが好ましい。なお、第１および第２の熱処理を磁場印加環境下で実行することは、軟磁性膜に磁気的異方性を付与するのに有効である。 （もっと読む）

【課題】低ノイズで良好な信号再生特性を有する垂直磁気記録媒体の製造に適する基板およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】Ｓｉ基板１１上に、ＮｉまたはＮｉＰの下地メッキ層１６を設け、この上に軟磁性裏打ち層１２を電解メッキにより成膜する。この軟磁性裏打ち層１２は、ＣｏとＮｉとＦｅからなる群から選択される少なくとも２種の元素と、ＢとＣとＰとＳからなる群から選択される少なくとも１種の元素とを含有する組成とされる。また、軟磁性裏打ち層１２は外部磁場印加させた状態で成膜されるため、面内径方向が磁化容易方向となり、面内径方向の磁化飽和磁場強度（Ｈｄ）と面内周方向の磁化飽和磁場強度（Ｈｃ）との差（δＨ＝Ｈｄ−Ｈｃ）が５エルステッド（Ｏｅ）以上の異方性を有する。そして、この軟磁性裏打ち層１２上に垂直磁気記録用の磁気記録層１３を形成し、さらに、保護層１４および潤滑層１５を順次積層する。 （もっと読む）