【課題】高い表面硬度を有し、高温で長時間熱処理しても非磁性を保つことができる磁気記録媒体用基板を提供する。
【解決手段】アルミニウム合金層と、このアルミニウム合金層の上に形成されたＮｉ−Ｐ−Ｗめっき層とを含む磁気記録媒体用基板である。前記Ｎｉ−Ｐ−Ｗめっき層が、７〜１５ｗｔ％のＰ、０．５〜５．０ｗｔ％のＷおよび残部Ｎｉからなり、前記磁気記録媒体用基板が、７００Ｈｖ以上の硬度を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】機械強度に優れた微細パターンを有するナノインプリント用スタンパ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】実施形態のナノインプリント用スタンパは，金属および筒状炭素分子を含む突起部を有し，前記金属を含む基体である。ナノインプリント用スタンパの製造方法では，基板上への金属から成る触媒層の形成工程，及び触媒層をエッチングして凹凸パターンを形成する工程を経て，ナノインプリント用スタンパが製造される。 （もっと読む）

【課題】アルミニウム合金基板の表面にＮｉＰめっき被膜を形成した磁気記録媒体用基板について、アルミナ砥粒を使用しない磁気記録媒体用基板の製造方法を提供する。
【解決手段】アルミニウム合金基板の表面にＮｉＰめっき被膜を形成した磁気記録媒体用基板の表面を研磨する際に、第１の研磨盤を用いて粉砕シリカ砥粒を含む研磨液を供給しながら研磨する粗研磨工程と、第２の研磨盤を用いてコロイダルシリカ砥粒を含む研磨液を供給しながら研磨する仕上げ研磨工程と含むことにより、アルミナ砥粒を使用することなく、この磁気記録媒体用基板の表面に対して良好な研磨処理を施すことができるため、従来のアルミナ砥粒を用いた場合に生じるアルミナ砥粒の磁気記録媒体用基板への突き刺さりを防ぐことが可能である。 （もっと読む）

【課題】無欠陥の無電解ニッケルメッキ膜の製造方法の提供。
【解決手段】スパッタ法を用いて、基材上に９９．９９％以上の純度および２．５μｍ以上の膜厚を有するアルミニウム層を形成する工程と、無電解メッキを用いて、アルミニウム層の上に無電解ニッケルメッキ膜を形成する工程とを含むことを特徴とする無電解ニッケルメッキ膜の製造方法。ここで、基材とアルミニウム層との間に９９．９９％以上の純度を有するチタン層を形成する工程をさらに含んでもよい。 （もっと読む）

【課題】本発明は、アルミニウム合金を使用した磁気記録用基板であって、優れた表面平滑性を持ち、かつ、マイクロピットの問題がない磁気記録用アルミニウム基板を提供することを課題とする。
【解決手段】磁気記録用アルミニウム合金基板であって、アルミニウム合金基体上にニッケル合金めっき処理による下地層を有し、かつ前記下地層の外側に酸化シリコン被膜層を有することを特徴とする磁気記録用アルミニウム合金基板である。 （もっと読む）

【課題】欠陥の少ない均質なめっき被膜を基板表面に均一な膜厚で形成することを可能とした無電解めっき装置を提供する。
【解決手段】基板Ｗの中心孔に挿通されて複数の基板Ｗを吊り下げた状態で支持する複数の支持ロッド３と、複数の支持ロッド３を互いに平行且つ周方向に並べた状態で支持する支持輪４と、支持輪４の中心部に取り付けられた回転軸５と、回転軸５を回転自在に支持する軸受部材６と、回転軸５を回転駆動する回転駆動機構９とを備え、回転軸５の軸受部材６と対向する外周面に設けられたマグネットと、受部材６の回転軸５と対向する内周面に設けられたマグネットとが互いに同一の極性を有して反発することにより、軸受部材６が回転軸５を非接触状態で回転自在に支持する。 （もっと読む）

【課題】５００Ｇｂ／ｉｎ²以上の高記憶密度ディスク媒体に要求される低欠陥の磁気記録媒体用ディスク基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】Ａｌ合金からなるディスク状の非磁性基体１上に、ＮｉＰ第１層２、Ａｕ或いはＰｄの少なくとも一方からなる中間層３、及びＮｉＰ第２層４がこの順に形成されている。 （もっと読む）

【課題】微細な磁性ドットを形成し、さらにその位置をビットサイズのレベルで制御してスキュー角に応じた規則的な格子を組んで配列し、かつ記録材料の配列の乱れおよび欠陥の発生のないパターン磁気記録媒体、およびその製造方法を提供することにある。
【解決手段】磁性ドットからなるパターン磁気記録媒体において、データ記録領域の各トラックごとまたは隣接する複数のトラック群ごとに磁性ドットは所定の配列がなされ、その配列は、各記録ビットごとに磁性ドットが１個配置され、トラック方向で隣接する３または４磁性ドットが多角形を形成しており、１辺は前記トラック方向に平行で、１辺は磁気記録ヘッドのスキュー角に対応する方向に平行であることを特徴とする。
前記多角形は、平行四辺形であり、１対の平行な２辺が前記トラック方向に平行であり、他の１対の２辺が前記スキュー角に対応する方向に平行であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】低ノイズで良好な信号再生特性を有する垂直磁気記録媒体の製造に適する基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】非磁性基板１上に、好ましくは核付け層２を設け、この上に反強磁性膜を含む多層軟磁性裏打ち層３を成膜する。この軟磁性裏打ち層３は、軟磁性膜と反強磁性膜の間で交換結合しており、かつ周方向もしくは径方向に異方性を有している。反強磁性膜は、好ましくは、Ｃｒ又はＭｎを含有する合金の膜又は自然酸化以外の金属酸化膜であり、めっき等により成膜することより得られる。また、該異方性化は磁場中熱処理により行われ、磁場印加方向により周と径異方性を作り分けられる。そして、この軟磁性裏打ち層３上に垂直磁気記録用の磁気記録層５を形成し、さらに、好ましくは保護層６及び潤滑層７を順次積層する。 （もっと読む）

【課題】 チャッキング治具に対する接触角度にばらつきが生じてもキズの発生を抑制しうる磁気ディスク用アルミニウム基板を製造する。
【解決手段】ドーナツ状のアルミニウム基板を用いた磁気ディスク用アルミニウム基板の製造方法であって、基板の外周端面、内周端面のうちの少なくとも一方について、基板の板厚方向の両縁に面取部を形成する工程、該面取部の周端面側の角部を曲率半径（ｒ）が０．０５〜０．２ｍｍとなるように曲面に加工する工程、該曲面加工部をＶ字形の断面を有する治具によりチャッキングして次の加工工程に基板を受け渡す工程、基板の記憶面を平面研削する工程、基板にニッケル−リンめっきをする工程をこの順で有する。 （もっと読む）

【課題】垂直二層式磁気記録媒体用の軟磁性層をメッキ法により成膜した場合、スパイクノイズと呼ばれる孤立パルスノイズが発生し信号再生特性が大きく損なわれるという問題がある。
【解決手段】直径９０ｍｍ以下の基板と、該基板の上に設けられＣｏとＮｉとＦｅとからなる一群から選ばれる少なくとも２つ以上の金属の合金である軟磁性膜メッキ層とを含んでなる磁気記録媒体用基板において、基板面と平行な方向における該軟磁性層の磁力飽和磁化と残留磁化の比率が４：１から４：３である磁気記録媒体用基板、この磁気記録媒体用基板を用いた磁気記録媒体等を提供する。 （もっと読む）

【課題】洗浄工程における磁気記録媒体用基板の浮き上がりを防止し、良好に洗浄することが可能な磁気記録媒体用基板を提供する。
【解決手段】この実施形態に係る磁気記録媒体用基板は円板状の形状を有し、樹脂を母材としている。この基板の比重は、洗浄工程で用いられる洗浄剤の比重よりも大きい。例えば、基板に無機材料のフィラー材を含有させて、比重を１．２以上にしたり、基板表面に金属層を形成することで、比重を１．２以上にしたりする。これにより、磁気記録媒体用基板は洗浄剤に沈むため、磁気記録媒体用基板を良好に洗浄することができる。その結果、表面が洗浄な状態の磁気記録媒体用基板が得られる。 （もっと読む）

【課題】低ノイズで良好な信号生成特性を有する垂直磁気記録媒体の製造に適する基板を提供すること。
【解決手段】Ｓｉ基板１１に表面処理を施して表面を化学的に活性化するとともに、適度な凹凸（Ｒ_a：１ｎｍ〜１μｍ）を形成して下地メッキ層１６を形成する。この下地メッキ層１６は、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｇの群の中から選択される１種以上の金属元素からなる金属または合金とされ、厚みは１ｎｍ以上５００ｎｍ以下とされる。この下地メッキ層１６の上に、電解メッキもしくは無電解メッキにより軟磁性裏打ち層１２が形成される。この軟磁性裏打ち層１２は、主成分として、Ｃｏを４０〜６０原子％、Ｎｉを２０〜４０原子％、Ｆｅを１０〜４０原子％含有する組成の５０〜１０００ｎｍの膜である。このような膜構成により、反強磁性膜の成膜や磁場中熱処理といった工程によることなくスパイクノイズを抑制可能な軟磁性裏打ち膜がメッキ法により成膜可能となる。 （もっと読む）

【課題】低ノイズで良好な信号再生特性を有する垂直磁気記録媒体の製造に適する基板およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】非磁性基板１１上に無電解メッキ法で軟磁性裏打ち層１２を形成する。メッキ成膜された軟磁性裏打ち層には、熱処理温度が２５０℃以上３５０℃以下、基板への印加磁場強度が１０キロエルステッド（ｋＯｅ）以上の範囲で条件選択されて磁場中熱処理が施される。この磁場中熱処理により、軟磁性膜の面内径方向の磁化飽和磁場強度（Ｈ_d）と面内周方向の磁化飽和磁場強度（Ｈ_c）との差（δＨ＝Ｈ_d−Ｈ_c）の絶対値が５エルステッド（Ｏｅ）以上の磁気的異方性であって、基板中心軸に対する対称性を有する磁気的異方性が付与されるとともに、軟磁性膜中のリップル構造に起因する低周波域のノイズが、２０ＭＨzでみて熱処理前の２分の１以下とされる。このような磁気的異方性をもつ軟磁性裏打ち層はノイズ低減に効果的である。 （もっと読む）

【課題】低ノイズで良好な信号再生特性を有する垂直磁気記録媒体の製造に適する基板およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】非磁性基板１１上に無電解メッキ法で軟磁性裏打ち層１２を形成する。メッキ成膜された軟磁性裏打ち層には、熱処理温度が１５０℃以上３５０℃以下、基板への印加磁場強度が５０エルステッド（Ｏｅ）以上、処理時間が５分乃至１０時間の範囲で条件選択されて磁場中熱処理が施される。この磁場中熱処理により、軟磁性膜の面内径方向の磁化飽和磁場強度（Ｈ_d）と面内周方向の磁化飽和磁場強度（Ｈ_c）との差（δＨ＝Ｈ_d−Ｈ_c）が絶対値で５エルステッド（Ｏｅ）以上の磁気的異方性であって、基板中心軸に対する対称性を有する磁気的異方性が付与される。このような磁気的異方性をもつ軟磁性裏打ち層はノイズ低減に効果的であり、しかも、磁気的異方性の程度の制御性や再現性が高い。 （もっと読む）

【課題】ノイズが小さく、「熱揺らぎ」による記録劣化が少ない磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】非磁性領域２１中に磁性領域２２が分散している磁気記録膜５を有する磁気記録媒体であって、該磁性領域２２は保磁力を有する硬磁性材料からなる第１の磁性部である硬磁性層２４と、該第１の磁性部の保磁力よりも弱い保磁力を有する軟磁性材料からなる第２の磁性部である軟磁性層２３を有し、該硬磁性層２４と軟磁性層２３は膜の膜面に対して平行方向に積層して設けられている磁気記録媒体。 （もっと読む）

【課題】低ノイズで良好な信号再生特性を有する垂直磁気記録媒体の製造に適する基板およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】メッキ成膜された軟磁性膜に熱処理を施すことで、メッキ工程に膜中に取り込まれた液性成分やガス成分を脱離させる。熱処理温度は、３５０℃以下１００℃以上とすることが好ましい。この熱処理は、研磨工程前に実行される第１の熱処理と、この研磨工程後に実行される第２の熱処理との、少なくとも２回に分けると効果的である。第１の熱処理においては、膜中には多くの液性・ガス成分が含有されているため、これらの成分脱離により膜中に構造的欠陥が生じないように比較的緩やかな条件で実行する。したがって、第１の熱処理温度は、第２の熱処理の温度よりも低く設定することが好ましい。なお、第１および第２の熱処理を磁場印加環境下で実行することは、軟磁性膜に磁気的異方性を付与するのに有効である。 （もっと読む）

【課題】低ノイズで良好な信号再生特性を有する垂直磁気記録媒体の製造に適する基板およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】Ｓｉ基板１１上に、ＮｉまたはＮｉＰの下地メッキ層１６を設け、この上に軟磁性裏打ち層１２を電解メッキにより成膜する。この軟磁性裏打ち層１２は、ＣｏとＮｉとＦｅからなる群から選択される少なくとも２種の元素と、ＢとＣとＰとＳからなる群から選択される少なくとも１種の元素とを含有する組成とされる。また、軟磁性裏打ち層１２は外部磁場印加させた状態で成膜されるため、面内径方向が磁化容易方向となり、面内径方向の磁化飽和磁場強度（Ｈｄ）と面内周方向の磁化飽和磁場強度（Ｈｃ）との差（δＨ＝Ｈｄ−Ｈｃ）が５エルステッド（Ｏｅ）以上の異方性を有する。そして、この軟磁性裏打ち層１２上に垂直磁気記録用の磁気記録層１３を形成し、さらに、保護層１４および潤滑層１５を順次積層する。 （もっと読む）

【課題】 規則化した合金材料が、細孔中に充填されている構造体、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 以下の３つの工程を有する。
多孔質層の孔内に合金を構成する第１の材料を充填する第１の工程。該多孔質層上に第２の材料を含み構成される膜を成膜する第２の工程。該膜を有する該多孔質層を熱処理する第３の工程。 （もっと読む）

【課題】サーボ情報に相当するような微細で複雑な凹凸パターンの転写面を有する原盤を高精度で製造できる原盤の製造方法、これを用いたスタンパの製造方法及び磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】基板（樹脂層支持材）４２の上に形成された樹脂層４４を、所定の基本的凹凸パターンに対し、該基本的凹凸パターンの凹部の一部に分割用凸部４４Ａが形成されて該基本的凹凸パターンの凹部の少なくとも一部が分割された変則的凹凸パターンに加工し、該樹脂層４４に基いて基板４２をエッチングして変則的凹凸パターンを基本的凹凸パターンに近づけた形態の凹凸パターンに基板４２を加工する。 （もっと読む）