【課題】プラズマＣＶＤ法で形成したＤＬＣ膜よりも緻密であり、かつパーティクルを必要十分なレベルまで低減したテトラヘドラル・アモルファス・カーボン（ｔａ−Ｃ）膜を主体とする磁気記録媒体用保護膜、および該保護膜を有する磁気記録媒体の提供。
【解決手段】陰極ターゲットとしてガラス状炭素を用いたフィルタード・カソーディック・アーク法によって形成されるｔａ−Ｃ膜を主体とする磁気記録媒体用保護膜。基体と、磁気記録層と、ｔａ−Ｃ膜を主体とする保護膜とを有する磁気記録媒体。 （もっと読む）

【課題】 成膜時においてシャドウエリアの少ない基板ホルダーを備える成膜装置を提供すること。
【解決手段】 成膜装置の基板ホルダーは、開口部を有する導電性の基板ホルダー本体と、開口部の内周から開口部内に向けて突出して形成されており、絶縁性基板の一端部を支持するための挟持部材を備える第１の支持部材と、絶縁性基板の他の端部を支持するための狭持部材を備え、開口部内に向けて突出し、または開口部内から退避するように移動可能な第２の支持部材と、を有する。 （もっと読む）

【課題】安全性、操業安定性に優れ、しかも低コストの蒸着用素材を提供する。
【解決手段】棒状の蒸着素材本体２と、該蒸着素材本体２の片端部に接合されたつかみ部３とを有するとともに、つかみ部３は、蒸着素材本体２よりも径の小さいロッド部４と、該ロッド部４から拡径したフランジ部５とが一体に形成され、該フランジ部５と蒸着素材本体２との間が、その外周部を飛び石状に溶接することにより、隙間Ｇをあけて接合されている。 （もっと読む）