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Fターム[5D112FB02]の内容

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【課題】ターゲットに含まれる強磁性金属元素の含有量を減少させずに、マグネトロンスパッタリング時の漏洩磁束量を従来よりも増加させることができるマグネトロンスパッタリング用ターゲットを提供する。
【解決手段】強磁性金属元素を有するマグネトロンスパッタリング用ターゲット10であって、前記強磁性金属元素を含む磁性相12と、前記強磁性金属元素を含み、かつ、構成元素またはその含有割合の異なる複数の非磁性相14、16と、酸化物相18とを有しており、前記複数の非磁性相のうちの少なくとも1つの非磁性相14は、磁性相12よりも細かく酸化物相18と分散し合っている。 (もっと読む)


【課題】スパッタリング中にターゲットからの粒子の落下を効果的に減少させることができる、CoベースのまたはFeベースの磁気記録媒体の下層材料のためのターゲットを提供する。
【解決手段】立方結晶構造を有するマグネシウム一酸化物ベースの(MgOベースの)複合物からなるターゲットであって、MgOベースの複合物が、MgOおよび単数または複数の酸化物を備える、CoベースのまたはFeベースの磁気記録媒体の下層材料のためのターゲット。 (もっと読む)


【課題】 加熱処理によってもアモルファスまたは微結晶構造を維持できる熱アシスト磁気記録媒体用軟磁性膜およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 原子比における組成式がFe100−x−y−z−Cu−Nb−(Si+B)、0.5≦x≦3.0、1≦y≦15、20≦z≦30で表され、残部不可避的不純物でなる熱アシスト磁気記録媒体用軟磁性膜である。また、原子比における組成式がFe100−x−y−z−Cu−Nb−(Si+B)、0.5≦x≦3.0、1≦y≦15、20≦z≦30で表され、残部不可避的不純物でなる合金ターゲットを用いてスパッタリングにより形成する熱アシスト磁気記録媒体用軟磁性膜の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】 本発明により室温でのBsに対する高温でのBsの低下幅が小さい垂直磁気記録媒体用軟磁性合金、およびこの合金の薄膜を作製するためのスパッタリングターゲット材を提供する。
【解決手段】 at%で、原子番号が57〜71のランタノイドに属する元素を1種以上と、Y,Ti,Zr,Hf,V,Nb,Ta,Bの1種もしくは2種以上または/およびC,Al,Si,P,Cr,Mn,Ni,Cu,Zn,Ga,Ge,Mo,Sn,Wの1種もしくは2種以上を含み、残部Co,Feおよび不可避的不純物からなり、下記の式(1)〜(3)を全て満たすことを特徴とした垂直磁気記録媒体における軟磁性薄膜層に用いる合金。(1)0.5≦TLA≦15、(2)5≦TLA+TAM、(3)TLA+TAM+TNM≦30 (もっと読む)


【課題】 規則化温度の低い膜を成膜することができると共にパーティクルの発生が抑制可能な磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供すること。
【解決手段】 磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットが、一般式:{(FePt100−x(100−y)In(100−z)、原子比により30≦x≦80、1≦y≦20、3≦z≦65で表される組成を有した焼結体からなる。また、このスパッタリングターゲットの製造方法は、InPt合金粉と、FePt合金粉と、Pt粉と、グラファイト粉またはカーボンブラック粉と、の混合粉末を、真空または不活性ガス雰囲気中でホットプレスする工程を有している。 (もっと読む)


【課題】 磁気記録媒体等に用いられる軟磁性膜形成用のFe−Co―Ta系スパッタリングターゲット材において、スパッタリング時に発生するパーティクルを極力抑止することが可能なスパッタリングターゲット材を提供する。
【解決手段】 Fe−Ta粉末とCo−Ta粉末と純Ta粉末とを混合して混合粉末を得る工程と、前記混合粉末を焼結温度1100〜1400℃、圧力125〜200MPaで1〜10時間の加圧焼結をする工程とを有するFe−Co−Ta系スパッタリングターゲット材の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 規則化温度の低い膜を成膜することができると共にパーティクルの発生が抑制可能な磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供すること。
【解決手段】 磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットが、一般式:{(FePt100−x(100−y)(100−z)、ここでAがSbおよびSnの少なくとも一方からなる金属であり、原子比により30≦x≦80、1≦y≦20、3≦z≦65で表される組成を有した焼結体からなる。また、このスパッタリングターゲットの製造方法は、SbPt合金粉およびSnPt合金粉の少なくとも一方と、FePt合金粉と、Pt粉と、グラファイト粉またはカーボンブラック粉と、の混合粉末を、真空または不活性ガス雰囲気中でホットプレスする工程を有している。 (もっと読む)


【課題】複数のターゲットを用いることなく、炭素含有量の多いFePtC系薄膜を単独で形成できるFePt−C系スパッタリングターゲット及びその製造方法を提供する。
【解決手段】Fe、PtおよびCを含有するFePt−C系スパッタリングターゲットであって、Ptを40〜60at%含有して残部がFeおよび不可避的不純物からなるFePt系合金相と、C相とが互いに分散した構造を有するようにし、ターゲット全体に対するCの含有量を21〜70at%にする。
また、Ptを40〜60at%含有して残部がFeおよび不可避的不純物からなるFePt系合金粉末にC粉末を添加し、酸素の存在する雰囲気下で混合して混合粉末を作製した後、作製した該混合粉末を加圧下で加熱して成形する。 (もっと読む)


【課題】酸素等の不純物の量の少ないPd合金系スパッタリングターゲット及びその製造方法を提供する。
【解決手段】Pdを主要成分として含有するPd合金系スパッタリングターゲットであって、V、Nb、Taのうちの少なくとも1種以上を合計で1〜60at%含有し、残部がPdおよび不可避的不純物からなり、ターゲット全体に対する酸素含有量を2000質量ppm以下にする。
また、V、Nb、Taのうちの少なくとも1種以上を合計で1〜60at%含有し、残部がPdおよび不可避的不純物からなるPd合金粉末をアトマイズ法で作製し、作製した該Pd合金粉末を加圧下で加熱して成形してPd合金系スパッタリングターゲットを製造する。 (もっと読む)


【課題】 規則化温度の低い膜を成膜することができると共にパーティクルの発生が抑制可能な磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供すること。
【解決手段】 磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットが、一般式:{(FePt100−x(100−y)Ag(100−z)、ここで原子比により30≦x≦80、1≦y≦30、3≦z≦63で表される組成を有した焼結体からなる。また、このスパッタリングターゲットの製造方法は、AgPt合金粉と、FePt合金粉と、Pt粉と、グラファイト粉またはカーボンブラック粉と、の混合粉末を、真空または不活性ガス雰囲気中でホットプレスする工程を有している。 (もっと読む)


【課題】 規則化温度の低い膜を成膜することができると共にパーティクルの発生が抑制可能な磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供すること。
【解決手段】 磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットが、一般式:{(FePt100−x(100−y)(100−z)、ここでAがAuおよびCuの少なくとも一方からなる金属であり、原子比により30≦x≦80、1≦y≦30、3≦z≦63で表される組成を有した焼結体からなる。また、このスパッタリングターゲットの製造方法は、AuPt合金粉およびCuPt合金粉の少なくとも一方と、AgPt合金粉と、FePt合金粉と、Pt粉と、グラファイト粉またはカーボンブラック粉と、の混合粉末を、真空または不活性ガス雰囲気中でホットプレスする工程を有している。 (もっと読む)


【課題】 アモルファス性、硬さ、耐食性に優れた垂直磁気記録媒体用軟磁性合金及び、この合金の薄膜を作製するためのスパッタリングターゲット材を提供する。
【解決手段】 at.%で、Fe:Coの比を10:90〜70:30とし、かつ下記(A)群から(C)群の各種元素を、(A)群元素の1種又は2種以上を0.5%以上、(B)群元素の1種又は2種以上を0.5%以上、(C)群元素の1種又は2種以上を0〜5%含有し、かつ(A)群元素から(C)群元素との和を10〜30%、残部Co及び不可避的不純物からなることを特徴とする磁気記録用軟磁性合金。
(A)Ta,Nb,V、(B)Cr,Mo,W、(C)Ti,Zr,Hf (もっと読む)


【課題】高密度でSNRを高めた熱アシスト記録装置用の磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】熱アシスト記録装置用の磁気記録媒体である。該磁気記録媒体が、非磁性基体、磁気記録層、保護層、および液体潤滑層をこの順に含み、該磁気記録層が、磁性部および該磁性部を取り囲む非磁性部からなるグラニュラー構造を有し、該グラニュラー構造における該非磁性部の割合が15体積%以上30体積%以下であり、該非磁性部が炭素系材料を含み、該磁気記録媒体の表面が、算術平均粗さRaおよび粗さ曲線要素の平均長さRSmを有し、Ra/RSmが0.05以上0.15以下である。 (もっと読む)


【課題】 Ni系合金とその上層のRu層との格子整合を向上させた磁気記録媒体のシード層用合金およびそれを使用したスパッタリングターゲット材並びに磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】 Ni系合金であって、Sn,In,Ga,Ge,Siの1種又は2種以上をat.%で0.5〜20%含有し、残部がNiからなる垂直磁気記録媒体におけることを特徴とする磁気記録媒体のシード層用合金。上記のNi系合金にW,Ta,Mo,Cr,Nb,Vの1種又は2種以上を0.5〜20%含有させたことを特徴とする磁気記録媒体のシード層用合金。 (もっと読む)


【課題】磁気記録媒体の信号雑音比が向上され及び面記録密度が増強された記録層を得る為のスパッタリングターゲット、及び該スパッタリングターゲットから形成された磁気記録媒体の記録材料を提供する。
【解決手段】CoPt又はCoCrPt又はCoCrPtBに基づく合金及び酸化物組合せを含み、前記酸化物組合せが、酸化銅(CuO)と、二酸化チタン(TiO2)、酸化クロム(Cr2O3)、酸化タンタル(Ta2O5)、酸化ニオブ(Nb2O5)、酸化イットリウム(Y2O3)、酸化ジルコニウム(ZrO2)、及び酸化ハフニウム(HfO2)からなる群から選択される少なくとも1つの酸化物とを含むスパッタリングターゲット。 (もっと読む)


【課題】 スパッタリング時にパーティクルの発生を抑制して異常放電を防止可能であり、安定してFePt−C膜を得ることができる磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供すること。
【解決手段】 磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットが、FePt合金相中にC相が分散している組織を有した焼結体からなる。また、このスパッタリングターゲットの製造方法は、FePt合金粉と、Pt粉と、アセチレンガスの熱分解により生成されたカーボンブラック粉と、の混合粉末を、真空または不活性ガス雰囲気中でホットプレスする工程を有している。 (もっと読む)


【課題】高品位および高記録密度の記録層を形成する多重酸化物を含有するスパッタターゲット、およびハードディスクの記録材を提供する。
【解決手段】コバルト−白金(CoPt)、コバルト−クロム−白金(CoCrPt)または、コバルト−クロム−白金−ホウ素(CoCrPtB)の合金を基本とし、スパッタリングプロセスの間に酸素欠損に対して酸素を提供する酸素供給剤として、シリカ酸化物(SiO)およびCrを付加したスパッタターゲットで、シリカ酸化物(SiO)の量は4からの8原子%の範囲であり、酸化クロム(Cr)の量は0.8原子%から5原子%の範囲である。 (もっと読む)


【課題】基体の全幅に均一な膜を成膜できる成膜装置を提供することを目的とする。
【解決手段】基体(101)の幅よりも狭い幅の基体搬送体(202)を基体(101)の裏面側に当接して搬送するとともに、基体搬送体(202)を通過する基体(101)の表面に、基体(101)よりも幅広の窓(106a)を有するシャッター(106)を介して基体(101)の表面に成膜することで、基体(101)の全幅に均一な膜を成膜できる成膜装置(200)を提供する。 (もっと読む)


【課題】DCスパッタ法を用いて、MgO膜を有する磁気記録媒体を高い生産性で製造することができ、同時にMgO膜の酸素欠損を抑制して高い結晶性を有するMgO下地層を与える方法の提供。
【解決手段】酸素含有ガス中でMgおよびMgOを含むターゲットを用いる反応性DCスパッタ法によって、非磁性基体にMgOからなる中間層を形成する工程と、中間層の上に、L10系規則合金を含む磁気記録層を形成する工程とを少なくとも含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 低い保磁力を有する垂直磁気記録媒体用軟磁性合金およびこの合金の薄膜を作製するためのスパッタリングターゲット並びに磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】 at.%で、Zr,Hfの1種または2種を合計で6〜20%、Bを1〜20%含み、残部Coおよび不可避的不純物よりなり、かつ式(1)を満たすことを特徴とする磁気記録媒体用軟磁性合金。また、上記の磁気記録媒体用軟磁性合金を用いたスパッタリングターゲット材並びに磁気記録媒体。
6≦2×(Zr%+Hf%)−B%≦16 … (1) (もっと読む)


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