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基板処理装置
【課題】電圧印加手段から電圧が印加される給電部材の弾性の劣化やヘタリを評価することができる。
【解決手段】基板処理装置は、搬入口と搬出口を有するチャンバ85と、チャンバ内にガスを供給するガス供給手段12と、ガスをプラズマにするためのプラズマ発生手段と、基板を保持する基板ホルダ20と、搬入口から搬入され、搬出口へと基板ホルダを保持しながら搬送するキャリア2と、基板ホルダ20に電圧を印加するための電圧印加手段16と、給電部材13を可動して、該給電部材を基板ホルダ20に接触又は非接触させることにより、電圧印加手段16からの電圧を供給するための駆動手段18と、給電部材13に流れる電流を測定する電流測定手段17と、を備えることを特徴とする。
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ディスク被覆システム
【課題】多数のステーションを有する磁気ディスク等の基板を処理するフートプリントの小さいシステムを提供する。
【解決手段】それぞれの上部に処理チャンバが積層され、さまざまなサイズのディスクを取るように調節可能なディスクキャリア上でディスクがシステムを通じて移動するところのディスク処理及び製造装置が記述されている。ディスクはロードゾーンを通じてシステムに進入し、その後ディスクキャリア内に装着される。ディスクはキャリア内にあって、ひとつのレベルで、処理チャンバを通じて連続的に移動し、その後、リフトまたはエレベータにより他のレベルへ移動する。他のレベルにおいて、再びディスクはシステムを通じて連続的に移動し、その後アンロードゾーンで出力される。
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インライン式成膜装置、磁気記録媒体の製造方法、及びゲートバルブ
【課題】ゲートバルブの開閉動作に伴う振動の発生を抑制しながら、このゲートバルブの開閉動作を高速で行うことを可能としたインライン式成膜装置を提供する。
【解決手段】シリンダ115内のピストン114が一の方向の端部に到達する直前に、第2の開閉バルブ117aを全閉することによって第2の流量調整バルブ117bのみで排気する一方、シリンダ115内のピストン114が他の方向の端部に到達する直前に、第1の開閉バルブ116aを全閉することによって第1の流量調整バルブ116bのみで排気する。これにより、シリンダ115の端部とピストン114との接触による衝撃を緩和し、振動の発生を抑制することが可能となる。
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インライン式成膜装置及び磁気記録媒体の製造方法
【課題】キャリアからの基板の脱落を防止すると共に、キャリアを高速で搬送することができるインライン式成膜装置を提供する。
【解決手段】第1の支持部材41の熱膨張による水平方向の伸びに応じて、この第1の支持部材41が支持台40の取付面S1に沿った方向に変位可能に支持され、第2の支持部材42の熱膨張による水平方向の伸びに応じて、この第2の支持部材42が第1の支持部材42の取付面S2に沿って、第1の支持部材41の熱膨張による水平方向の伸びを打ち消す方向に変位可能に支持され、ホルダ3の熱膨張による鉛直方向の伸びに応じて、このホルダ3が第3の支持部材43の取付面S3に沿って、第1及び第2の支持部材41,42の熱膨張による鉛直方向の伸びを打ち消す方向に変位可能に支持されている。
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薄膜形成装置および薄膜形成方法
【課題】ガス冷却を用いた成膜方法において、基板への損傷を抑制しながら、十分な基板冷却能力を確保する。
【解決手段】本発明の薄膜形成装置は、薄膜形成領域9において基板7の裏面に近接する冷却体10と、冷却体10と基板7の裏面の間にガスを導入するガス導入手段とを備え、冷却体10は、基板と近接し赤外光を透過する透過体と透過体を介して基板と対向する吸収体から構成される。このような構成によって、基板から放射された輻射光が透過体を透過し、透過体を介して基板と対向する輻射率が大きな吸収体に吸収されるため、冷却体10から基板7への輻射を抑制することが出来る。
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電圧印加装置及び基板処理装置
【課題】基板ホルダへの電圧印加効率の向上を図り、長期に渡って安定的に使用できる電圧印加装置を提供する。
【解決手段】電圧印加装置は、真空処理チャンバーと、真空処理チャンバ内に設けられた基板ホルダー20と基板ホルダに電圧を印加するための給電部材13と、給電部材の先端部に設けられた、ダイヤフラム式給電部22と、真空処理チャンバーの外部に設けられ、かつ給電部材を可動して、ダイヤフラム式給電部を基板ホルダに接触又は非接触させる可動機構18と、を備えることを特徴とする。
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インライン式成膜装置及び磁気記録媒体の製造方法
【課題】キャリアとベアリングとの耐摩耗性を向上させることによって、生産性の更なる向上を可能としたインライン式成膜装置を提供する。
【解決手段】キャリア4に保持された基板Wを複数のチャンバの間で順次搬送させながら成膜処理を行うインライン式成膜装置であって、キャリア4を非接触状態で駆動する駆動機構20と、駆動機構20により駆動されるキャリア4をガイドするガイド機構21とを備え、ガイド機構21は、キャリア4に設けられたガイドレール29に係合された状態で、駆動機構20により駆動されるキャリア4を鉛直方向にガイドする主ベアリング28と、キャリア4を挟み込んだ状態で、駆動機構20により駆動されるキャリア4を水平方向にガイドする副ベアリング30とを有して、これらベアリング28,30とキャリア4との何れかの接触面に、コルモノイ系合金による耐摩耗処理が施されている。
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蒸着装置
【課題】蒸着材料の供給時に発生する飛沫を抑え、さらに液面の波紋の影響を低減し、蒸着材料のロスを少なくする蒸着装置を提供する。
【解決手段】真空室12内に、送りロール13と巻取りロール14を設けてベースフイルム15を走行させ、中途の冷却キャン16で定速回転させる。冷却キャン16の幅方向の長さはルツボ1と略同じ円筒状で、内部の冷却水でベースフイルム15の温度上昇による変形等を抑制する。ルツボ1を蒸着材料蒸発部分と、これに直角に設けた蒸着材料溶融部分で構成し、蒸着材料溶融部分で蒸着材料供給時に生じる波紋の影響を防ぎ安定な蒸着を行う。冷却キャン16を軟磁性部分16Aと非磁性部分16Bで構成し、1つの電子銃21から照射される蒸発,溶解用電子ビーム21A,21Bと、これを局部偏向することにより、蒸着材料を溶解,蒸発し、電子ビーム相互干渉による異常放電を抑え、ルツボ1を小さくし蒸着材料のロスを少なくする。
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インライン式成膜装置及び磁気記録媒体の製造方法
【課題】キャリアを高速で搬送することができるインライン式成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜処理を行う複数のチャンバ2と、複数のチャンバ2内で成膜対象となる基板を保持するキャリア4と、キャリア4を複数のチャンバ2の間で順次搬送させる搬送機構5とを備え、搬送機構5は、キャリア4の下部側に並んで配置された複数の永久磁石22と、複数の永久磁石22に対向してキャリア4の搬送方向に並んで配置された複数の電磁石23とを有して、電磁石23に電力を供給することによって、この電磁石23と永久磁石22とを磁気的に結合させながら、キャリア4を非接触状態で駆動する駆動機構20を備える。
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製膜方法
【課題】本件は、ホルダに支持された基板上への製膜と、製膜後の基板のホルダからの取外しおよび新たな基板のホルダへの取付けとを繰り返す製膜方法に関し、支持爪への製膜材料の堆積を抑える。
【解決手段】ディスク状の基板30の周面に接する支持面221を有し、基板周面の複数点それぞれに各支持面を当てて基板を共同で支持する複数の支持爪22を有するホルダに基板を支持させ、ホルダに支持した状態の基板表面に製膜し、ホルダから製膜後の基板を取り出してホルダに新たな基板を支持させる過程を複数の基板について順次に繰り返すにあたり、ホルダから製膜後の基板を取り外し、新たな基板を、ホルダから取り外した基板の支持面上の支持位置からずれた位置に支持させる。
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インライン式成膜装置及び磁気記録媒体の製造方法
【課題】キャリアを高速で搬送することができ、なお且つ成膜室内の排気能力が高く、高真空度を短時間で容易に実現できるインライン式成膜装置を提供する。
【解決手段】キャリア25に接触可能に設けられて、駆動機構により駆動されるキャリア25を水平方向にガイドする水平ガイド機構と、キャリア25に接触可能に設けられて、駆動機構により駆動されるキャリア25を鉛直方向にガイドする鉛直ガイド機構とを備え、水平又は鉛直ガイド機構は、キャリア25の搬送方向に並ぶ複数の支軸209に制振部材を介して回転自在に取り付けられた複数のベアリング210を有し、且つ、これら複数のベアリング210の外周部には、キャリア25と接触可能な当接部材213が制振部材214を介して取り付けられている。
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インライン式成膜装置及び磁気記録媒体の製造方法
【課題】キャリアに保持された基板に対して反応性プラズマ処理又はイオン照射処理を行う際に処理ムラが生じることを防止したインライン式成膜装置を提供する。
【解決手段】キャリアは、基板を内側に配置する孔部29が設けられたホルダ27と、ホルダ27の孔部29の周囲に弾性変形可能に取り付けられた複数の支持部材30とを備え、複数の支持部材30に基板の外周部を当接させながら、これら支持部材30の内側に嵌め込まれた基板を着脱自在に保持することが可能であり、キャリアに保持された基板に対して反応性プラズマ処理又はイオン照射処理を行うチャンバ内において、ホルダ27が接地されると共に、複数の支持部材30の内側には、外径が100mm以下である円盤状の基板が嵌め込まれ、なお且つ、この基板とホルダ27の孔部29との間に形成される隙間Sが、半径方向に少なくとも11mm以上ある。
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成膜装置及び磁気記録媒体の製造方法
【課題】成膜装置及び磁気記録媒体の製造方法において、基板保持部材から脱落する堆積膜の悪影響を抑制することを目的とする。
【解決手段】チャンバ内で、基板を保持するための基板保持部材に付着した堆積膜を消磁位置で消磁すると共に、前記消磁により脱落し易くなった堆積膜を吸着位置で磁気的に吸着する塵埃除去装置を備えるようにする。
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位置測定装置、成膜方法並びに成膜プログラム及び成膜装置
【課題】一方向からの測定によって対象物の位置情報を精度よく取得することを課題とする。
【解決手段】成膜装置1000が有する位置測定装置1100は、基板400が有する測定対象平面400a上の3つの測定点400a1、400a2、400a3に対し、測定点までの水平方向の距離をそれぞれ測定する測距部を備える。測距部は、3つの変位センサ1110、1120、1130を有する。これらの変位センサ1110、1120、1130は、垂直仮想平面600に正対するように配置される。位置測定装置1100は、水平方向から基板400の測定対象平面400aの投影画像を撮像する撮像部を備えている。撮像部は、画像センサ1150と、この画像センサ1150が接続された画像取得部1160を備えている。
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基板搬送装置、及び磁気記録媒体の製造方法
【課題】磁気ディスク等の基板を搬送し、基板処理を施して大量に生産する基板処理システムのスループット及び生産性の向上のため、各処理チャンバにおける処理時間(タクトタイム)を短縮する。
【解決手段】基板搬送装置は、ゲートバルブを介して連結されたチャンバと、前記ゲートバルブを開状態にして前記チャンバ間でキャリアを搬送路に沿って搬送する搬送機構と、前記キャリアが前記チャンバの停止位置に到達する前に前記キャリアを検知するセンサと、前記センサからの検知信号に基づき前記ゲートバルブの閉動作を開始するよう制御する制御器とを有する。
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成膜方法、基板保持具及び成膜装置
【課題】成膜方法、基板保持具及び成膜装置において、成膜装置内で発生した塵埃に起因するピンホール欠陥を抑制することを目的とする。
【解決手段】チャンバ内で、基板保持具に保持された基板に対して成膜処理を施す成膜方法において、チャンバ内で前記基板保持具により保持されている前記基板の被保持箇所の近傍で磁石により磁界を発生させてチャンバ内の塵埃を磁石により吸着するように構成する。
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基板ホルダー保持装置及び基板ホルダー収納チャンバ
【課題】小型で構造が簡易な基板ホルダー保持装置を提供する。
【解決手段】基板ホルダー保持装置は、チャンバ内に収容され、複数の基板ホルダー8を列に沿って保持可能に夫々構成された第1及び第2の保持機構と、第1の保持機構を第2の保持機構に対して相対的に列方向に移動させる列方向駆動手段と、第1及び第2の保持機構間で基板ホルダーを移し替える移し替え機構30と、移し替え機構30と前記列方向駆動手段との連動により、第1又は第2の保持機構における基板ホルダー8の列方向位置を変更する連動機構とを備える。
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基板ホルダ及び磁気記録媒体製造方法
【課題】基板ホルダ及び磁気記録媒体製造方法において、搬送中の振動等に対しても基板の落下を抑制可能とすることを目的とする。
【解決手段】ディスク状基板を保持する基板ホルダにおいて、開口部を有する本体部と、前記開口部内の前記基板の端部を押し付けて保持する複数の爪を備え、前記複数の爪の各々は、平坦形状を有し前記基板の端部を押し付ける先端部を有し、前記爪の前記先端部の基板把持力は200gf〜400gfであり、前記爪の先端部の表面粗さRzは17μm〜25μmであるように構成する。
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磁気記録ディスク製造装置
【課題】テクスチャを設けることなしに磁気記録層に磁気異方性を付与することができる新規な構成を提供する。
【解決手段】 基板9上に形成された磁気記録層91より成る磁気記録ディスクは、基板9と磁気記録層91の間に磁気記録層91に磁気異方性を付与する異方性付与層92を有する。異方性付与層92は、タンタル、ニオブ合金又はタンタル合金であって窒化されたもの又は窒素を含む薄膜であり、表面が大気ガス、窒素ガス又は酸素ガスに晒されて変性されている。異方性付与層92は、例えばクロムニオブ合金製ターゲットを窒素を含むプロセスガスによってスパッタして作成した薄膜であり、成膜後に0.5〜10Pa程度の圧力の酸素ガスに晒す。ターゲットからのスパッタ粒子のうち、付与すべき異方性の方向に方向成分を持って飛行するスパッタ粒子を相対的多く基板9に入射させる方向制御が行われる。
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磁気記録媒体の製造方法および磁気記録媒体
【課題】 真空成膜装置に含まれる基体を保持するキャリアを工夫することで、磁気記録媒体の成膜工程において基体の温度をそれぞれの成膜工程に適した温度に近づけることが可能となるため、磁気記録媒体の品質の向上を図ることができる。
【解決手段】 本発明による磁気記録媒体としての垂直磁気記録媒体100の製造方法は、真空成膜装置としてのDCマグネトロンスパッタリング装置200を用いて、ディスク基体110上に少なくとも磁気記録層122を成膜する成膜工程を含む垂直磁気記録媒体の製造方法であって、成膜工程では、キャリア208に取り付けられたグリッパ216をディスク基体に接触させてディスク基体を保持し、グリッパは複数の金属からなる積層構造であって、グリッパの表層216aを構成する金属はグリッパの下層216bを構成する金属より熱伝導率が高いことを特徴としている。
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