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Fターム[5D112GA20]の内容

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Fターム[5D112GA20]に分類される特許

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【課題】ヘッドスキューの補償を伴うマルチトラック記録のためのパターン化磁気記録ディスクと、同ディスクをナノインプリントするためのマスタテンプレートとを提供する。
【解決手段】本発明は、マスタテンプレートからナノインプリントすることにより作製され、ヘッドスキューを補償するためのパターンで配置されたデータアイランドを有するマルチトラック記録用パターン化メディアディスクである。アイランドは、マルチトラック記録に必要なように、ディスク半径方向線に対して鋭角だけ傾斜された線に沿って配置される。但し、この角度はすべての帯に対して同じでないが、ヘッドスキューを補償するために帯毎に変化する。傾斜された帯内の線の角度はヘッドスキューの量だけ減じられる。角度が放射状線からの一方向であるディスク内径(ID)と中径(MD)間の複数の帯と、角度が放射状線から反対方向であるディスクMDと外径(OD)間の複数の帯とが、存在する。 (もっと読む)


【課題】高密度磁気記録を行うには、磁性体を充填する細孔を微細にする必要があり、その微細な加工を短時間で行い、製造コストの低減ならびにスループットの向上を図る。
【解決手段】加工速度が早い加工装置により、基板に比較的大きな凹パターンを形成した後、その凹パターン内に薄膜を形成することにより、微細で均一なパターンを低コストかつ高スループットのプロセスによって、形成できる。この基板内に磁性体を埋め込むことで、パターンドメディアが形成される。また、この基板をインプリントモールド原版またはインプリントモールドとして用いることにより、磁気特性に優れた磁性層を有するパターンドメディアの製造方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、オフセットデータおよびサーボ領域を備えるパターン化磁気媒体を製造するための方法を提供する。
【解決手段】本発明は、パターン化磁気媒体を製造するための方法である。本方法は、別領域のパターニングに悪影響を及ぼす一領域へのパターニングを必要とせずに、データ領域およびサーボ領域の両方がパターン化されることを可能にする。本方法によって、パターン化されたデータ領域と、パターン化されたサーボ領域と、サーボ領域とデータ領域との間の中間領域と、が設けられる。前記中間領域は、互いに非対称になる可能性が高いが、それが必然ではなく、本方法が媒体をパターン化するため使用されたことを示している。 (もっと読む)


【課題】磁気特性の変化を防止するパターン化媒体の製造プロセスを提供する。
【解決手段】実施形態は、スタックのパターン化された磁気材料を保護する方法を開示する。方法は、連続薄膜が堆積されるパターン化されたスタックの磁気材料に対して不活性である不活性材料の連続薄膜を堆積するステップと、非エッチング高レリーフ磁気アイランドの上部および側壁領域ならびにパターン化スタックの磁気薄膜エッチング表面を、空気暴露損傷および埋め戻し材料との接触による損傷から保護するために、連続薄膜から薄膜中間インターフェース層を形成するステップとを含む。 (もっと読む)


【課題】平坦化の間に磁気ビットを保護する方法および装置を提供する。
【解決手段】実施形態は、炭素領域平面化の間に磁気ビットを保護するための方法を開示し、パターン化スタック上の磁気ビットおよび磁気薄膜に停止層を堆積させるステップと、停止層上に炭素充填層を堆積させるステップと、炭素領域の平面化およびエッチバックの間に停止層を用いて、炭素領域平面化の間にパターン化スタックの磁気ビットを保護するステップとを含む。 (もっと読む)


【課題】レジストパターンの形成において、残膜をエッチングする工程後のレジストパターンの凸部の幅が、残膜をエッチングする工程前におけるレジストパターンの凸部の幅以上の所望の幅となることを可能とする。
【解決手段】凹凸パターンが転写されたレジスト膜2の残膜エッチング工程が、エッチングの際に堆積物4を生成する堆積性ガスを含有する第1のエッチングガスを用いて、レジストパターンにおける凸部の側壁に堆積物4が堆積しかつ残膜がエッチングされる条件でレジスト膜2をエッチングする第1のエッチング工程を含み、堆積物4を含めた上記凸部の幅が残膜エッチング工程前における上記凸部の幅以上の所望の幅となるように第1のエッチング工程以後の工程によってレジスト膜2をエッチングする。 (もっと読む)


【課題】 良好な記録再生が可能な磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】 磁気記録媒体は、基板と、基板上に設けられ、磁性材料を含有する磁気記録層と、保護層とを含む。磁気記録層は、面内方向に規則的に配列されたパターンを有する記録部と、記録部の飽和磁化よりも低い飽和磁化を有する非記録部を含む。非記録部は、磁性材料と、飽和磁化の値を該記録部の飽和磁化の値よりも低下せしめる失活種と、保護層の成分とを含有する。 (もっと読む)


【課題】磁気記録層が所定のパターンに加工された磁気記録媒体において、良好な記録再生特性を得る。
【解決手段】磁気記録媒体10は、垂直磁気記録層5、クロム、チタン、及びシリコンから選択される磁性失活元素を含むRu非磁性下地層2、及び非磁性基板1を含む積層に、磁性失活ガスを用いてガスイオン照射を行なうことにより形成される。ガスイオン照射を行なう前の垂直磁気記録層は、鉄及びコバルトのうち少なくとも1つ、及びプラチナを含有する。ガスイオン照射には、ヘリウム、水素、及びBからなる群から選択される少なくとも1種のガスと窒素ガスの混合ガス、あるいは単独の窒素ガスのいずれかを使用する。 (もっと読む)


【課題】アライメントマークが形成された基板を作製するにあたって、光によるアライメントマークの検出を可能としつつ、アライメントマークを形成する時間を短縮させる。
【解決手段】基板に対してアライメントマークを形成する際の基板作製方法において、前記基板を覆うようにレジスト層を形成する工程と、前記レジスト層にエネルギービームを照射することにより、所定のパターンの描画又は露光を行う露光工程と、前記描画又は露光されたレジスト層を現像し、凹凸からなるレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、前記レジストパターン形成工程後、前記レジストパターンを有する部分における基板の少なくとも一部に対してウェットエッチングを行い、前記一部におけるレジストパターンの凹部よりも大きく、且つ、光を用いて検出可能な大きさを有するアライメントマークを前記基板上に形成するアライメントマーク形成工程と、を有する。 (もっと読む)


【課題】ビットパターンを高密度に集積した場合にも,熱安定性と記録性に優れ,ビットパターンのトラック周期よりも広い記録素子及び再生素子の磁気ヘッドを用いることができるようにする。
【解決手段】円錐台状の記録ビットの下層に垂直磁気異方性の大きい熱安定層を,上層に飽和磁束密度の大きい高出力層を備える。外周部は高出力層を除去して熱安定性を向上した熱安定性領域22とし,中心部は再生領域21とする。また,外周部と中心部の間に垂直磁気異方性と飽和磁束密度を小さくした反転制御領域23を設ける。 (もっと読む)


【課題】インプリントレジスト特徴寸法の拡大を可能にするパターン化磁気記録ディスクの製作方法を提供すること。
【解決手段】本発明は、インプリントレジストがNILによりパターン化された後インプリントレジスト特徴部の寸法を拡大する。インプリントレジスト材料の層は、ブランクディスク上に堆積される。インプリントレジスト層はNILによりパターン化され、上部から基部まで傾斜した側壁を有する複数の離間されたレジスト柱を生じる。被覆層が、傾斜したレジスト柱側壁の上を含むパターン化されたレジスト層の上に堆積される。被覆層は次に、レジスト柱間の空間部内にブランクディスクを露出する一方で傾斜したレジスト柱側壁上に被覆層を残すためにエッチングされる。レジスト柱は次に、ブランクディスクをエッチングするためのマスクとして使用され、ブランクディスク上に複数の個別のアイランドを残す。 (もっと読む)


【課題】 基板ホルダー周りに被エッチング膜の付着することによるエッチングレートの低下を防止する。
【解決手段】 基板ホルダーに搭載された基板に対し各処理を行って磁気記録媒体を製造する装置において、基板を搭載しない状態の前記基板ホルダーに第1の膜を成膜するホルダー成膜室と、前記第1の膜が成膜された前記基板ホルダーに基板を搭載する基板搭載室と、磁性膜層を含む多層膜上に所定パターンのレジスト層が形成された基板に対し、ドライエッチング処理を行い、前記磁性膜層を前記所定パターンに基づく形状に加工する加工室と、を有し、前記第1の膜は、前記ドライエッチング処理により除去される前記多層膜中の膜よりもエッチングされにくい膜であり、前記加工室、ホルダー成膜室及び基板搭載室は、大気より減圧条件下で基板ホルダーを搬送可能に接続されている。 (もっと読む)


【課題】記録再生ヘッドの浮上性を確保しつつ、ヘッド位置決め制度がよく、SN比が良好で、高温多湿環境下でも高い信頼性を示す磁気記録媒体を製造できる方法を提供する。
【解決手段】基板上に磁気記録層を製膜し、前記磁気記録層の記録部に対応する領域にマスクを形成し、前記マスクに覆われていない領域の磁気記録層の一部をC含有ガスを含むイオンビーム照射で失活して非記録部を形成し、全面に保護膜を形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】化学増幅レジストの性能を引き出すことにより、高い解像性能と良好なパターン品質を有するレジストパターンが得られるレジスト付き基体の製造方法、レジストパターン付き基体の製造方法、パターン付き基体の製造方法及びレジスト処理方法を提供する。
【解決手段】基体上に化学増幅レジストを塗布するレジスト塗布工程と、前記レジスト塗布工程後、レジスト塗布基体に対してベークを行うパターン露光前ベーク工程と、を有し、前記パターン露光前ベーク工程後に形成されることになるパターン未露光のレジスト層に対して現像剤による減膜処理を行うとすると前記レジスト層の残膜率が95%以上となる時間及び温度条件にて、前記パターン露光前ベーク工程を行う。 (もっと読む)


【課題】パターンの形状ラフネスを増加させることなく、パターンを転写することを可能にする。
【解決手段】基板上にハードマスクを形成する工程と、ハードマスク上にマスク補助材を形成する工程と、マスク補助材上に海島構造を有するジブロックコポリマー層を形成する工程と、ジブロックコポリマー層に前記海島構造の島部が凸部となる凹凸状構造のパターンを形成する工程と、ジブロックコポリマー層に形成されたパターンをマスクとしてマスク補助材およびハードマスクをエッチングし、ハードマスクにパターンを転写する工程と、を備え、マスク補助材はエッチング速度が、ハードマスクのエッチング速度より大きく、ジブロックコポリマーの海島構造の海の部分のエッチング速度より小さい材料である。 (もっと読む)


【課題】自己組織化材料を用いて製造されるパターンの高精度化を図ったパターンの形成方法,およびインプリント用モールドの製造方法を提供する。
【解決手段】実施形態のパターンの形成方法では,基板上に,第1の層,感光層を順に形成し,前記感光層の第1,第2の領域それぞれを第1,第2の露光量で露光し,第1の溶媒によって,第1の領域を溶解し,露出した第1の層をエッチングし,第2の溶媒によって,感光層の未露光の第3の領域を溶解し,自己組織化材料を第3の開口内に形成する。 (もっと読む)


【課題】DTメディアやパターンドメディアの製造に適した磁気記録媒体用基板であって、複雑な工程が不要で簡易にDTメディアやパターンドメディアを製造することが可能な磁気記録媒体用基板を提供する。
【解決手段】磁気記録媒体用基板は、円板状の形状を有する非磁性の母材を基板とし、基板表面の磁性膜を成膜しようとする所定領域の濡れ性が、他の領域の濡れ性と異なっている。 (もっと読む)


【課題】工程のスループットに優れ、ナノメーターオーダーのパターンを簡便に形成できる方法を提供する。
【解決手段】ポリスチレン誘導体とシルセスキオキサンを含むポリメタクリレート誘導体とを有するコポリマーを含有するパターン形成材料からなる膜を形成する工程と、前記膜中にミクロ相分離構造を形成する工程と、前記シルセスキオキサンを含むポリマー鎖の相をマスクとして前記基板をエッチングして前記基板にミクロ相分離構造のパターンを転写する工程とを具備したことを特徴とするパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】媒体を製造するシステムおよび方法を提供する。
【解決手段】媒体を製造する方法は、基板上に記録媒体を形成するステップを含む。記録媒体上の、基板と反対側に保護膜が成膜される。保護膜は第一の表面仕上げ層を有する。保護膜はエッチングされ、材料が取り除かれ、保護膜に、第一の表面仕上げより平滑な第二の表面仕上げ層が設けられる。成膜とエッチングは、in−situドライ真空工程で逐次的に行われてもよい。第二の表面仕上げ層には、エッチング後に、保護膜をさらに平坦化するための機械加工を行わなくてもよい。 (もっと読む)


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