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Fターム[5D112GA26]の内容

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【課題】主表面の表面凹凸(表面粗さやうねりや平坦度)及び端部のダレを抑制した磁気ディスク用板状ガラス素材、及び磁気ディスク用ガラス基板を効率よく製造する。
【解決手段】磁気ディスク用板状ガラス素材の製造方法であって、溶融したガラスの塊を落下させる落下工程と、塊の落下経路の両側から、互いに対向する一対の型の面で塊を挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材を成形するプレス工程と、を有し、一対の型の少なくとも一方は、前記塊の落下経路に向かって凸形状であることを特徴とする磁気ディスク用板状ガラス素材の製造方法。 (もっと読む)


【課題】磁性層形成用の磁性塗料中で多大な分散負荷を掛けることなく容易に分散可能な磁性粉末を提供する。
【解決手段】六方晶フェライト磁性粉末の製造方法で、ガラス結晶化法において、酸処理後に得られた六方晶フェライト磁性粒子を水系溶媒中で湿式処理することにより、上記六方晶フェライト磁性粒子の等電点に対して、式(1):pH0−pH*≧2.5[式(1)中、pH0は上記六方晶フェライト磁性粒子の等電点であり、pH*は上記水系磁性液のpHであって2.0以上の値である。]を満たす水系磁性液を調製すること、上記水系磁性液に、該水系磁性液中でアニオン性基となる官能基およびアルキル基を有する表面改質剤を添加し六方晶フェライト磁性粒子の表面改質処理を行うこと、ならびに、上記表面改質処理後に水系溶媒を除去し六方晶フェライト磁性粒子を得ることを含む。 (もっと読む)


【課題】本発明はアルカリ土類金属酸化物を含むガラス板から情報記録媒体用ガラス基板を製造する場合に、ガラス基板表面に異物欠点を生じさせない磁気ディスク情報記録媒体用ガラス基板を製造する方法の提供。
【解決手段】CaO、SrOおよびBaOを含有するガラス板をガラス円板に加工する円板加工工程、ガラス円板の主表面をラッピングするラッピング工程、ガラス円板のラッピングされた主表面を研磨する主表面研磨工程およびこれら工程間、これら工程内もしくはこれら工程後においてガラス円板を表面処理する工程を含む情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、表面処理に用いる処理液が、硝酸、酢酸、塩酸、過塩素酸、プロピオン酸、酪酸、酒石酸、マロン酸、リンゴ酸、コハク酸、フマル酸、マレイン酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、アルキルスルフォン酸およびアルキルホスホン酸から選ばれる少なくとも1を含む情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】基板として強酸性液を用いる洗浄を行っても表面荒れが起こりにくい基板に用いられるガラスの提供。
【解決手段】下記酸化物基準のモル%表示で、SiOを62.5〜69%、Alを9〜15.5%、LiOを8〜16%、NaOを0〜8%、KOを0〜7%、ZrOを0〜3.5%含有し、SiO−Alが53.3%以上、LiO+NaO+KOが17〜24%、上記6成分の含有量の合計が97%以上である基板用ガラス。 (もっと読む)


【課題】本発明は、平行度に優れる磁気記録媒体用ガラス基板の提供を目的とする。
【解決手段】ガラス基板を研磨する前の両面研磨装置の上定盤の研磨面と下定盤の研磨面の形状を、内周端における上定盤の研磨面と下定盤の研磨面との距離をDinとし、外周端における上定盤の研磨面と下定盤の研磨面との距離をDoutとしたとき、DoutからDinを引いたΔD(=Dout−Din)を−30μm〜+23μmとしてガラス基板を研磨する工程を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法により、レーザ干渉計を用いて測定する磁気記録媒体用ガラス基板の少なくとも記録再生領域における前記両主平面の平行度が2.8μm以下である磁気記録媒体用ガラス基板を提供できる。 (もっと読む)


【課題】
ディスクなどの基板を洗浄する装置において、洗浄に要する純水の量を少なくし、且つ、装置を小型化して装置全体の床面積を小さくする。
【解決手段】
基板の両面に純水を供給しながらブラシを回転させて基板の両面をこすって洗浄するスクラブ洗浄ユニットと、スクラブ洗浄処理ユニットで洗浄処理された基板の表面を純水で洗浄するリンスユニットと、リンスユニットで洗浄処理された基板の表面を乾燥させる乾燥ユニットとを備えた洗浄装置において、スクラブ洗浄ユニットは、基板の両面に供給する純水に超音波を印加する超音波印加手段を有し、この超音波印加手段で超音波を印加した純水を基板の両面に供給しながらブラシを回転させて基板の両面をこすって洗浄するようにした。 (もっと読む)


【課題】安価で素早く高度な洗浄性能を発揮することができる超音波洗浄装置を提供すること。
【解決手段】超音波洗浄装置1は、洗浄液700を用いて被洗浄物800を超音波洗浄処理する洗浄処理部100と、洗浄液700に対して超音波振動を照射する振動子200と、振動子200を圧電効果によって超音波振動させるために、所望の周波数で、且つ所望の振幅の電気信号を振動子200に付与する発振器300と、洗浄液700に所望の濃度を有する気体410を溶解する気体溶解部400と、振動子200より発振される超音波振動(圧力変動)から音圧Pを測定する音圧測定部560と、音圧測定部560によって測定された音圧Pを基に、気体溶解部400によって洗浄液700に溶解する気体410の濃度を制御する制御部600とを有している。 (もっと読む)


【課題】良好な表面凹凸の精度と耐衝撃性を備えた磁気ディスク用ガラス基板を、効率よく製造する方法を提供すること。
【解決手段】主表面の粗さが0.01μm以下であり、かつ、磁気ディスク用ガラス基板としての目標平坦度の平坦度を有する板状ガラス素材を作製するプレス成形工程と、少なくとも前記板状ガラス素材の主表面に圧縮応力層を形成させたガラス基板を作製する化学強化工程と、前記ガラス基板の主表面に研磨パッドを押圧させ、前記ガラス基板と研磨パッドとの間に研磨材を含む研磨液を供給しながら、前記ガラス基板と前記研磨パッドとを相対的に移動させて、前記ガラス基板の主表面を研磨する主表面研磨工程と、を有する。さらに、プレス成形工程で作製される板状ガラス素材の板厚を、磁気ディスク用ガラス基板としての目標板厚に対して、前記主表面研磨工程による研磨量の分だけ厚くする。 (もっと読む)


【課題】 基板へのダメージを抑制しつつ、基板の表面に対して超音波による洗浄処理を施すことができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】 基板処理装置1は、基板Wを水平に保持して回転させるスピンチャック10と、スピンチャック10に保持された基板Wの上面に第1処理液(HFE)、第2処理液(気体溶存水)をそれぞれ供給する第1処理液供給ノズル20、第2処理液供給ノズル17を備えている。スピンチャック10に保持された基板Wの上面にHFEおよび気体溶存水が供給され、基板Wの上面にHFEの液膜が形成され、さらにその上層に気体溶存水の液膜が形成される。この状態で気体溶存水とHFEの液膜に超音波振動が付与される。これにより、気体溶存水の液膜でのみ発生したキャビテーションによる衝撃エネルギーがHFEの液膜で緩和されつつ、基板Wの洗浄処理が施される。 (もっと読む)


【課題】基板を均一に処理することができる基板処理装置および基板処理方法を提供すること。
【解決手段】基板処理装置は、基板Wを非回転状態で保持する基板保持手段と、ノズル4と、処理液供給手段と、制御手段とを含む。ノズル4は、基板保持手段に保持された基板Wの主面の中央部に向けて流体を吐出する中央吐出口11、主面の中央部を取り囲む環状の中間領域T1に向けて外向きに流体を吐出する中間吐出口12、および中間領域T1を取り囲む環状の周縁領域T2に向けて外向きに流体を吐出する周縁吐出口13を有する。処理液供給手段は、中央吐出口11、中間吐出口12、および周縁吐出口13に個別に処理液を供給する。制御手段は、処理液供給手段を制御して、中央吐出口11、中間吐出口12、周縁吐出口13の順番で処理液を吐出させる。 (もっと読む)


【課題】安定して基板上に処理液の液膜を保持させることができる基板処理方法および基板処理装置を提供すること。
【解決手段】基板処理装置は、基板を水平に保持する基板保持手段と、前記基板保持手段に保持された基板の上面周縁部を選択的に疎水化させる疎水化手段と、前記基板保持手段に保持された基板の上面に処理液を供給する処理液供給手段と含む。この基板処理装置による基板の処理では、基板の主面の周縁部を選択的に疎水化させる疎水化工程(S101)と、前記疎水化工程が実行された後に、水平に保持された基板に処理液を供給して、当該基板の主面を覆う処理液の液膜を形成する液膜形成工程(S102)とが実行される。 (もっと読む)


【課題】磁気記録特性と耐食性に優れたディスクリートトラック媒体およびパターンド媒体を実現する。
【解決手段】基板上の凹凸パターンの凸部に形成された磁性体領域と、前記凹凸パターンの凹部に埋め込まれた充填体領域とを有する磁気記録層を備え、前記磁性体領域と前記充填体領域との間に、コバルトまたはコバルト合金に対して腐食抑制作用を示す有機物で構成される層が存在している。 (もっと読む)


【課題】メンテナンスを行う場合であっても、処理効率の低下を抑制することができる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】薬液供給源14には、第1循環配管CP1、第2循環配管CP2、第3循環配管CP3および第4循環配管CP4の両端が接続されている。第1循環配管CP1における第1処理部P1の流通方向の上流側の部分には、第1薬液バルブ21が介装されている。第1循環配管CP1における第1薬液バルブ21と第1処理部P1と間の部分には、第1純水配管22の先端が分岐接続されている。第1循環配管CP1における第1処理部P1の流通方向の下流側の部分には、第1廃液配管24が分岐接続されている。第1循環配管CP1における第1廃液配管24の廃液分岐部分DW1には、第1の3方弁25が介装されている。 (もっと読む)


【課題】ミクロンオーダーだけでなくナノオーダーでの微細加工を容易に施すことができるガラス表面の微細加工方法を提供する。
【解決手段】アルカリ酸化物を含有するガラスの表面に凸部を形成するガラス表面の微細加工方法であって、凸部となるべき第2領域の表面に隣接する第1領域の表面を保護層で被覆する工程と、第2領域の表面側からアルカリイオンを除去する工程と、第1領域の表面から保護層を除去する工程と、アルカリイオンが除去された第2領域の表面と保護層が除去された第1領域の表面とを研磨する工程と、を備える。 (もっと読む)


【課題】効率的な生産が可能な基板処理装置を提供すること。
【解決手段】基板処理装置は、処理液で基板Wを処理するための処理ユニット6と、この処理ユニット6に処理液を供給する処理液供給部25とを含む。処理液供給部25は、所定の大きさに統一され、処理液が流通する配管28をそれぞれ有する複数の処理液供給モジュール22と、複数の処理液供給モジュール22をそれぞれ配置するための複数の配置空間が内部に設けられた流体ボックス7とを含む。 (もっと読む)


【課題】基板に対する処理液の再付着を抑制または防止することができる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】基板処理装置1は、基板Wを水平に保持するための支持リング9を有するスピンチャック3と、スピンチャック3に保持された基板Wに処理液を供給する洗浄液ノズル4およびリンス液ノズル5と、基板Wの外方に向かって飛散する処理液の液滴を受け止めるためのスプラッシュガード6とを備えている。支持リング9は、基板Wの上面から外方へと処理液が流れていくように、基板Wの全周を取り囲んで基板Wの外周縁を外方に拡張するように設けられた環状の拡張面61を有している。また、スプラッシュガード6は、スピンチャック3に保持された基板Wの外方において、拡張面61の全周縁部を上方から覆う環状の上壁部45を有している。 (もっと読む)


【課題】基板からの処理液の排出性を向上させることができ、基板の周囲に飛散する処理液の液滴の粒径を小さくすることができる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】基板処理装置は、基板Wを水平に保持するための支持リング8を有するスピンチャック3と、スピンチャック3に保持された基板Wに処理液を供給する洗浄液ノズルおよびリンス液ノズルとを備えている。支持リング8は、支持リング8に保持された基板Wの上面から外方へと処理液が流れていくように、当該基板Wの全周を取り囲んで当該基板Wの外周縁を外方に拡張するように設けられた環状の拡張面36を有している。拡張面36は、処理液に対する親液性が基板Wよりも高い親液面とされている。 (もっと読む)


【課題】極めて低い濃度に精度良く調整された薬液を、基板に供給することができる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】混合部材13には、集合導入管(低濃度薬液流通管)15と、アンモニア導入管16、過水導入管17、塩酸導入管18および高濃度ふっ酸導入管(高濃度薬液流通管)19が接続されている。集合導入管15は大流量の処理液が流通するラインである。集合導入管15は、低濃度ふっ酸配管33を介して、タンク38と循環路36を構成する循環配管39の途中部に接続されている。循環配管39とタンク38とによって循環路36が構成されている。循環配管39の途中部には、温度調節ユニット41が介装されている。 (もっと読む)


【課題】溶液処理による配向下地層表面の汚染が無く、エッチングに起因する基板の凹部底面の面状低下の影響が無く、高記録密度の磁気記録層を高品質に維持できる磁気記録媒体、及び簡便にパターン形成した磁気記録層を基板上に形成することができる磁気記録媒体の製造方法の提供。
【解決手段】樹脂層形成工程と、凹凸部を表面に有するモールド構造体を樹脂層表面に押し当てて凹凸部を樹脂層へ転写するインプリント工程と、樹脂層に形成された凹凸部における凹部底面に残存する樹脂膜をドライエッチングにより除去し、該凹部に対応する基板表面を露出させ凸部樹脂層のみを基板上に残す残膜除去工程と、凹部に対応する基板表面に凸部樹脂層の凸部高さの半分以下の厚みとなるように磁気記録層を形成する磁気記録層形成工程と、磁気記録層が付着した凸部樹脂層を除去する凸部樹脂層除去工程と含む磁気記録媒体の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】処理液案内部材の内方に処理液雰囲気を保持することができ、処理液案内部材外への処理液雰囲気の流出を抑制または防止することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】内構成部材19は、スピンチャック1の周囲を取り囲むように設けられ、第1案内部25、廃棄溝26、内側回収溝27および外側回収溝52を一体的に有している。中構成部材20は、内構成部材19の外側においてスピンチャック1の周囲を取り囲むように設けられ、第2案内部48を有している。外構成部材21は、中構成部材20の第2案内部48の外側においてスピンチャック1の周囲を取り囲むように設けられている。外構成部材21には、スカート部80が備えられている。スカート部80の垂下部81の下端部は、液体貯留部70に貯留された液体中に浸漬されていて、液封構造を形成している。 (もっと読む)


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