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Fターム[5D112GA30]の内容

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Fターム[5D112GA30]に分類される特許

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【課題】磁気記録媒体用ガラス基板の記録再生領域の全面について、微小うねりの変化量が所定の範囲内にある、磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法、磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】主平面研磨工程と、洗浄工程とを有し、主平面研磨工程は、研磨パッドとコロイダルシリカを含有する研磨液を用いて、ガラス基板の主平面を研磨する仕上げ研磨工程を有しており、主平面研磨工程は、ガラス基板の洗浄工程後に得られる磁気記録媒体用ガラス基板の少なくとも一方の主平面であって、記録再生領域となる領域の全面を含む主平面の全面に設定される格子状の各評価領域で微小うねり(nWq)を測定したとき、一の評価領域と、隣接する評価領域との間における微小うねりの変化量の絶対値の、一の評価領域の微小うねりに対する比率(変化率)が10%以下となるように主平面を研磨する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法、磁気記録媒体の製造方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】磁気ディスク用ガラス基板において、ガラス基板表面の粗さを大きくすることなく、換言すると、ガラス基板表面の粗さが大きくなることを抑えつつ、ガラス基板表面に付着した金属汚染物質を効果的に除去する。
【解決手段】ガラス基板の洗浄工程を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、洗浄工程においては、シュウ酸イオンと鉄の2価イオンとを含む洗浄液7を用いて酸性条件下で洗浄を行い、洗浄工程と並行して、または、相前後して、洗浄液に含まれる2価の鉄イオンが酸化されて生成した3価の鉄イオンを紫外線照射2により還元する操作を行う。 (もっと読む)


【課題】情報記録媒体用ガラス基板の製造過程で生じる不良を低減することが可能な、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板の洗浄を行なう工程は、ロールスクラブ洗浄装置を用いてガラス基板に対してロールスクラブ洗浄を行なう工程と、ロールスクラブ洗浄の後に、カップスクラブ洗浄装置を用いてガラス基板に対してカップスクラブ洗浄を行なう工程とを含み、カップスクラブ洗浄は、ロールスクラブ洗浄後のガラス基板の主表面が乾かないうちに実施する。 (もっと読む)


【課題】優れた耐衝撃性を有し、読み書きエラーの発生頻度が少ないHDD用ガラス基板およびHDD用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】中心孔を形成する内周端面に圧縮応力層とイオン交換層とを有し、主表面及び外周端面にイオン交換層を有さないことを特徴とするHDD用ガラス基板とする。中心孔を有する円盤状のガラス基板前駆体を用いたHDD用ガラス基板の製造方法であって、化学強化工程によって前記ガラス基板前駆体の全表面に厚みの合計が50〜200μmである圧縮応力層とイオン交換層とを形成した後、外径研磨工程によって前記ガラス基板前駆体の外周端面に形成されたイオン交換層を除去し、研削工程及び/又は研磨工程によって前記ガラス基板前駆体の主表面に形成されたイオン交換層を除去することを特徴とするHDD用ガラス基板の製造方法を用いる。 (もっと読む)


【課題】ナノ構造を有し、球状の硬磁性体を高密度で備えており、高い記録密度を有する磁気記録材料を提供する。
【解決手段】絶縁性非磁性体からなるマトリックス中に、平均粒子径が2.5nm〜25nmである球状の硬磁性体が三次元的且つ周期的に分散配置しており、繰り返し構造の一単位の長さの平均値が1nm〜100nmである三次元的周期構造を有しているナノヘテロ構造磁気記録材料。 (もっと読む)


【課題】電子材料製造工程中の研磨工程において、従来の研磨液と比較して、研磨後の基板に付着するパーティクル数を低減する電子材料用研磨液および、この研磨液を使用して電子材料中間体を研磨する工程を含む電子材料の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 炭素数8〜36の脂肪族アミンのアルキレンオキサイド付加物(B)および水を必須成分として含有する電子材料用研磨液、およびこの研磨液を使用して電子材料中間体を研磨する工程を含む電子材料の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】表面状態が良好なガラス基板を簡易に生産性高く製造できるガラス基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】ガラス基板の表面に研磨砥粒を含むpH4.0以下の研磨液を供給し、研磨パッドにて前記ガラス基板の表面を鏡面に研磨する最終研磨工程と、前記最終研磨工程に続けて、pH4.0以下の酸性洗浄液を供給し前記研磨パッドにて前記ガラス基板の表面を擦り洗いする擦洗工程と、前記擦洗したガラス基板を最終洗浄する最終洗浄工程と、を含む。 (もっと読む)


【課題】平坦化の間に磁気ビットを保護する方法および装置を提供する。
【解決手段】実施形態は、炭素領域平面化の間に磁気ビットを保護するための方法を開示し、パターン化スタック上の磁気ビットおよび磁気薄膜に停止層を堆積させるステップと、停止層上に炭素充填層を堆積させるステップと、炭素領域の平面化およびエッチバックの間に停止層を用いて、炭素領域平面化の間にパターン化スタックの磁気ビットを保護するステップとを含む。 (もっと読む)


【課題】強度に優れ、高い耐衝撃性を備えたHDD用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ダイレクトプレス法により作製した円盤状のガラス基板前駆体を用いたHDD用ガラス基板の製造方法であって、前記ガラス基板前駆体を精密にラッピングする精密ラッピング工程と、前記ガラス基板前駆体の表面のアルカリ金属イオンを、前記アルカリ金属イオンより大きなイオン径のアルカリ金属イオンと置換して圧縮応力層を付与する化学強化工程と、前記ガラス基板前駆体の主表面を研磨する主表面研磨工程と、をこの順で含み、前記精密ラッピング工程と前記化学強化工程との間に、前記ガラス基板前駆体の外周端面を研磨し鏡面化する外周研磨工程と、前記ガラス基板前駆体の表面を処理する化学処理工程と、を順不同で含むことを特徴とするHDD用ガラス基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】強度に優れたHDD用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ダイレクトプレス法により作製した円盤状のガラス基板前駆体を用いたHDD用ガラス基板の製造方法であって、前記ガラス基板前駆体の表面を4〜10μmの固定砥粒を用いて研削する粗ラッピング工程と、前記ガラス基板前駆体の表面を4μmより小さい固定砥粒を用いて研削する精密ラッピング工程と、前記ガラス基板前駆体の表面を処理する化学処理工程と、を含み、前記粗ラッピング工程と前記精密ラッピング工程との間に前記化学処理工程を行うことを特徴とするHDD用ガラス基板の製造方法。前記化学処理工程において除去されるガラス基板前駆体の深さが、1〜3μmであることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】強度に優れたHDD用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ダイレクトプレス法により作製した円盤状のガラス基板前駆体を用いたHDD用ガラス基板の製造方法であって、前記ガラス基板前駆体の表面を4〜10μmの固定砥粒を用いて研削する粗ラッピング工程と、前記ガラス基板前駆体の表面を4μmより小さい固定砥粒を用いて研削する精密ラッピング工程と、前記ガラス基板前駆体の表面を処理する化学処理工程と、を含み、前記粗ラッピング工程と前記精密ラッピング工程との間に前記化学処理工程を行うことを特徴とするHDD用ガラス基板の製造方法。前記化学処理工程において除去されるガラス基板前駆体の深さが1〜3μmであることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】磁性部とその凹部内に埋め込まれた非磁性部とを露出させて平坦な研磨面を形成させることができる研磨液を提供すること。
【解決手段】磁性材料を含む磁性部11と、該磁性部11に形成された複数の凹部120を覆うように埋め込まれた非磁性材料125とからなる複合体15を、磁性部11と凹部120内に埋め込まれた非磁性材料からなる非磁性部12とが露出して平坦な研磨面16を形成するまで研磨するために用いられる研磨液である。研磨液は、水と極圧剤とエッチング剤とを含有する。極圧剤は、ポリオキシアルキレンアルキルエーテルリン酸エステル又はその塩、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル硫酸エステル又はその塩、アルキルベンゼンスルホン酸又はその塩、α−オレフィンスルホン酸又はその塩、及びアルキルアミン又はそのアルキレンオキシド付加物から選ばれる少なくとも1種である。エッチング剤は、酸からなる。 (もっと読む)


【課題】 砥粒、研磨屑などのパーティクルの強固な付着を防止することが可能となる電子材料製造工程用パーティクル固着防止液、およびパーティクル固着防止液を用いた電子材料の製造方法を提供する。
【解決手段】 有機還元剤および水を必須成分として含有するパーティクル固着防止液を用いる。有機還元剤としては、レダクトン類、フェノール類、糖類、チオール類などが挙げられ、好ましくはレダクトン類、フェノール類である。これらは2種以上を組み合わせて用いることもできる。 (もっと読む)


【課題】研磨後の表面粗さの悪化を抑制し、かつ、洗浄性に優れる酸性洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】平均付加モル数が10〜90である炭素数2〜4のオキシアルキレン基と、アニオン性基(カルボン酸基を除く)又はその塩とを有する水溶性化合物、酸、及び水を含み、25℃におけるpHが0.5を超え5.0未満である、シリカ研磨材及び/又はシリカ研磨屑が付着した電子材料基板を洗浄するための電子材料基板用酸性洗浄剤組成物。 (もっと読む)


【課題】磁気記録媒体用結合剤として好適なスルホン酸(塩)基含有ビニル系ポリマーを容易に得るための手段を提供すること。
【解決手段】タウリン、N−メチルタウリン、およびメタアミノベンゼンスルホン酸からなる群から選択されるスルホン酸基含有化合物とアルカリ金属水酸化物とをメタノール中で反応させて得られた第一液と、分子内にエポキシ基を有するビニル系ポリマーをケトン系溶媒中に含む第二液とを混合することにより、前記ビニル系ポリマーの側鎖にスルホン酸アルカリ金属塩基を導入する付加反応を行うことを特徴とするビニル系ポリマーの製造方法。 (もっと読む)


【課題】セリウム系研磨剤を用いてガラスを研磨する工程の後に、ガラスに付着した該セリウム系研磨剤を、熱濃硫酸を用いることなく、且つ洗浄に対する高度の要求を満たすように洗浄する工程を含むガラスの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ランタンを含むセリウム系研磨剤でガラスを研磨する研磨工程とその後に洗浄液で該ガラスを洗浄する洗浄工程とを含むガラス製品の製造方法であって、該ランタンを含むセリウム系研磨剤がLaOF結晶を含まないセリウム系研磨剤であり、かつ該洗浄液がアスコルビン酸およびエリソルビン酸の少なくとも一方を含む洗浄液であるガラス製品の製造方法。 (もっと読む)


【課題】コロイダルシリカや酸化セリウム等の研磨材に由来する微粒子汚れを良好に除去できるハードディスク基板用洗浄剤を提供する。
【解決手段】(A)成分:ホスホン酸系キレート剤と、(B)成分:アニオン界面活性剤と、(C)成分:ノニオン界面活性剤とを含有し、(B)成分/(C)成分で表される質量比が0.05〜15、(A)成分/[(A)成分+(B)成分+(C)成分]で表される質量比が0.35〜0.95であり、純水で2質量%に希釈した希釈液の25℃におけるpHが5.0以下であることよりなる。 (もっと読む)


【課題】真円度に優れた磁気ディスク用板状ガラス素材、及び磁気ディスク用ガラス基板を効率よく製造方法を提供する。
【解決手段】磁気ディスク用板状ガラス素材Gであって、溶融したガラスLGの塊を落下させる落下工程と、ゴブGGの落下経路の両側から、互いに対向する一対の型121,122の面でゴブGGを挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材Gを成形するプレス工程と、を有し、一対の型121,122の少なくとも一方は、ゴブGGの落下経路側が凹形状であることを特徴とする磁気ディスク用板状ガラス素材Gの製造方法。 (もっと読む)


【課題】ガラス基板の主平面を、酸化セリウム砥粒を使用することなくかつ高い研磨速度で研磨して、加工の際に生じたキズやクラック等を除去し、平滑な主平面を有する磁気記録媒体用ガラス基板を得るための製造方法を提供する。
【解決手段】この磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法は、形状付与工程と、主平面研削工程と、主平面研磨工程とを備える。そして、主平面研削工程は、平均粒径0.01μm〜15μmのダイヤモンド砥粒を有する固定砥粒工具を用いて研削する固定砥粒研削工程を有し、主平面研磨工程は、シリカ粒子、ジルコニア粒子等の酸化セリウム粒子以外の平均粒径5nm〜3000nmの砥粒を含む研磨液と、研磨パッドを用いて研磨する第1の研磨工程と、その後平均粒径が5〜50nmのシリカ砥粒を含む研磨液と研磨パッドを用いて研磨する第2の研磨工程とを有する。 (もっと読む)


【課題】磁性層形成用の磁性塗料中で多大な分散負荷を掛けることなく容易に分散可能な磁性粉末を提供する。
【解決手段】六方晶フェライト磁性粉末の製造方法で、ガラス結晶化法において、酸処理後に得られた六方晶フェライト磁性粒子を水系溶媒中で湿式処理することにより、上記六方晶フェライト磁性粒子の等電点に対して、式(1):pH0−pH*≧2.5[式(1)中、pH0は上記六方晶フェライト磁性粒子の等電点であり、pH*は上記水系磁性液のpHであって2.0以上の値である。]を満たす水系磁性液を調製すること、上記水系磁性液に、該水系磁性液中でアニオン性基となる官能基およびアルキル基を有する表面改質剤を添加し六方晶フェライト磁性粒子の表面改質処理を行うこと、ならびに、上記表面改質処理後に水系溶媒を除去し六方晶フェライト磁性粒子を得ることを含む。 (もっと読む)


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