【解決課題】 加工プロセスや磁気記録層の成膜プロセスを複雑なものとすることがなく、表面平坦性に優れ、しかも熱伝導率が単結晶や多結晶のバルク基板と変わらない磁気記録媒体用Ｓｉ基板を提供する。
【解決手段】 粗研磨（Ｓ６）後のシリコン多結晶基板表面にＡｌ，Ｃｏ，Ｃｒ，Ｃｕ，Ｍｏ，Ｎｂ，Ｎｉ，Ｔａ，Ｔｉ，Ｖ，ＷおよびＺｒからなる群より選択される１種または２種以上の金属を含む基底層を形成し（Ｓ７）、該基底層上に、シリコンを含む層を少なくとも１層含む上位層を形成したのち（Ｓ８−１，Ｓ８−２，Ｓ８−３）、シリサイド化もしくはシリコン合金化（Ｓ９）し、該膜を研磨等の精密研磨（Ｓ１０）して基板の平坦性を高めることとした。これにより、多結晶粒の結晶方位の違いや結晶粒界の存在には影響を受けずに平坦で平滑な表面を得ることができ、かつバルクＳｉ基板とほぼ同等な耐熱性と熱伝導率を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】より薄肉のガラスブランクを作製する場合でもプレス時の上型へのガラスの貼り付きを抑制する製造方法及びこれを実施する装置を提供する。
【解決手段】ガラスブランクの製造方法は、軟化状態のガラスを下型プレス面上に供給するガラス供給工程と、プレス面上の塊状となったガラスの上面中央部に、冷却用部材を接触させて塊状ガラスを冷却する塊状ガラス冷却工程と、この直後に、塊状ガラスを上型と下型によりプレスするプレス工程とを経て、０．０１≦ｔ／ｄ≦０．０２、を満たすガラスブランクを作製する（但しｔはガラスブランクの厚み（ｍｍ）、ｄはガラスブランクの直径（ｍｍ）を表す）。なお、プレス成型装置は上記製造方法を実施する装置であり、情報記録媒体用基板の製造方法および情報記録媒体の製造方法は、上記製造方法を利用する製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 スパッタリングによって成膜される垂直磁気記録媒体の中間層用Ｃｏ−Ｃｒ系合金膜のバラツキを抑制することが可能なＣｏ−Ｃｒ系合金スパッタリングターゲット材を提供する。
【解決手段】 Ｃｒを３３〜４０原子％含有し、残部Ｃｏおよび不可避的不純物からなるＣｏ−Ｃｒ系合金スパッタリングターゲット材の製造方法において、Ｃｏ−Ｃｒ系合金の溶解鋳造インゴットを、１１５０℃〜１３００℃の加熱後に総圧下率５０％〜９０％の熱間塑性加工を行い、次いで５００℃〜１２００℃の加熱温度範囲で熱処理を行うＣｏ−Ｃｒ系合金スパッタリングターゲット材の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】垂直磁性層の高い垂直配向性を維持し、更なる高記録密度化を可能とした磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも非磁性基板の上に、軟磁性下地層と、直上の層の配向性を制御する配向制御層１１と、磁化容易軸が非磁性基板に対して主に垂直に配向した垂直磁性層とを積層してなる磁気記録媒体の製造方法であって、垂直磁性層を２層以上の磁性層１２〜１４から構成し、各磁性層１２〜１４を構成する結晶粒子が配向制御層１１を構成する結晶粒子と共に厚み方向に連続した柱状晶Ｓ１〜Ｓ３を形成するように各層を結晶成長させる際に、基板を冷却しながら又は基板を冷却した直後に、配向制御層１１の積層を行う。 （もっと読む）

【課題】下地層を薄くしても高配向で、形状劣化のない磁性層が得られ、信号品位に優れる磁気転写用マスター担体及びその製造方法などの提供。
【解決手段】配向基材と、前記配向基材上に形成された下地薄層と、該下地薄層上に形成された磁性層とを有する磁気転写用マスター担体の製造方法であって、パターニングされたケイ素基板のパターン側表面を熱処理する導電層形成前熱処理工程と、該熱処理後のケイ素基板上に、Ｎｉ導電層を形成する導電層形成工程と、該導電層を有するケイ素基板上に、Ｎｉめっきを施し、基材を形成するめっき工程と、前記基材を、前記ケイ素基板から剥離させる剥離工程とを含む磁気転写用マスター担体の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】合金の規則化にかかる熱処理温度を低減することを課題とする。
【解決手段】磁気記憶媒体は、高い磁気異方性を有する高磁気異方性材料であるＣｏＰｔまたはＦｅＰｔに、当該高磁気異方性材料よりも低温の熱処理で拡散を開始する低温拡散材料であるＢ元素が添加された第一磁性層膜を有し、当該第一磁性層膜ＣｏＰｔＢまたはＦｅＰｔＢのキャップ層であって、低温拡散材料であるＢ元素の移動を促進させる材料であるＴｉを有する第二磁性層膜を有する。 （もっと読む）

【課題】飽和磁化と真の保磁力がさらに高い窒化鉄系磁性粉末材料及び磁気記録媒体を提供すること。
【解決手段】比表面積３０ｍ^２／ｇ以上５５ｍ^２／ｇ以下の酸化鉄粉末を３００〜５００℃の範囲内で還元処理して金属鉄粉末を生成し、得られた金属鉄粉末を窒化処理し、Ｆｅ_１６Ｎ_２相を主相とする窒化鉄系磁性粉末材料とする。上記窒化処理は、アンモニアガス気流中またはアンモニアガスを含んだ混合ガス気流中で行われると良い。 （もっと読む）

【解決手段】第１金属又はその化合物と、第２金属との混合物で構成された下地層上に、合金で構成された磁化膜を成膜し、該磁化膜の成膜中又は成膜後に、上記下地層及び磁化膜を加熱する磁気異方性垂直磁化膜の形成方法。
【効果】本発明の磁気異方性垂直磁化膜は、垂直磁気記録媒体材料、熱アシスト磁気記録媒体材料等として非常に有用であり、例えば、６００ギガビット／平方インチ以上の面記録密度を可能とする磁気ストレージ用磁性材料としての応用が可能である。 （もっと読む）

【課題】昇温時の低い実効的熱伝導率および降温時の高い実効的熱伝導率という矛盾する熱特性、および高い円環抗折強度および高い衝撃落下強度という静的および動的な機械的強度の要求を満たす情報記録媒体用基板の製造方法の提供。
【解決手段】（ａ）中心孔を有する円板形状を有し、主平面と、該中心孔に隣接する基板内周部と、該基板内周部に対して主平面の反対側に位置する基板外周部とを有するシリコン単結晶支持体を準備する工程と、（ｂ）基板内周部に酸化性ガスを供給し、主平面、基板外周部に不活性または還元性ガスを供給した状態においてシリコン単結晶支持体を加熱して、基板内周部に選択的にＳｉＯ_２膜を形成する工程とを含むことを特徴とする情報記録媒体用基板の製造方法。 （もっと読む）

【解決課題】 充分な耐衝撃性を有し、加工プロセスや磁気記録層の成膜プロセスを複雑なものとすることがなく、表面平坦性に優れ、しかもコストダウンを可能とする磁気記録媒体用Ｓｉ基板を提供すること。
【解決手段】 粗研磨（Ｓ６）後の多結晶シリコン基板表面に熱酸化により酸化膜を形成（Ｓ７）した後、ＣＶＤやスパッタなどの気相系成膜処理もしくはシリコーン系材料やオルガノシリカを含有する液剤を塗布して段差や結晶粒界部分を遮蔽する平滑な薄膜とした後、この薄膜を適度な温度で熱処理して有機成分を気散させることでＳｉやＳｉＯ_２膜を形成し（Ｓ８）、このＳｉ膜、ＳｉＯ_２膜に対してＣＭＰ研磨等の精密研磨（Ｓ９）を施して基板の平坦性を高めることとした。これにより、多結晶粒の結晶方位の違いや結晶粒界の存在には影響を受けずに平坦で平滑な表面（ウェビネスとマイクロウェビネスの２乗平均値が何れも０．３ｎｍ以下）を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】 フライスティクション障害や腐食障害などを防止することができ、故障が抑制され、安全性に優れる磁気ディスク、特にＬＵＬ方式ＨＤＤに好適な磁気ディスクを効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】基板上に磁性層、窒素を含む炭素系保護層、潤滑層がこの順で成膜された磁気ディスクの製造方法であって、
ハイドロフルオロカーボンまたはパーフルオロカーボンの溶媒に、末端に水酸基を有するパーフルオロポリエーテル系潤滑剤を分散溶解させた溶液を調整し、該溶液中に前記炭素系保護層まで成膜された磁気ディスクを浸漬することによって前記潤滑層が成膜されており、
前記潤滑層の成膜後に、磁気ディスク表面をハイドロフルオロエーテルを含む組成物で接触処理することを特徴とする磁気ディスクの製造方法。 （もっと読む）

【課題】独立し、配列された複数の凸部の頂面上に磁性層を形成することにより、記録密度を向上させることができる磁気記録媒体の製造方法、及び磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】基板上に、独立し、配列された複数の凸部を有する凸構造を形成する凸構造形成工程と、凸部の頂面に、熱処理によって強磁性体になる複数の磁性微粒子を付着させる付着工程と、凸部の頂面に付着させた磁性微粒子を熱処理する熱処理工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】基板上でのパターン倒れを防止することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理装置は、洗浄処理部５ａ〜５ｄを有する。洗浄処理部５ａ〜５ｄは、スピンベース２２、チャック回転駆動機構２４、チャンバ３１、真空ポンプ３３、蒸気供給管３４および液体供給ノズル４６を備える。チャンバ３１がスピンベース２２から離間した位置に設定されかつスピンベース２２が回転されている状態で、スピンベース２２上の基板Ｗに液体供給ノズル４６から薬液およびリンス液が供給される。スピンベース２２が停止されかつチャンバ３１がスピンベース２２に密着した位置に設定されている状態で、真空ポンプ３３によりチャンバ３１内が排気されるとともに蒸気供給管３４からチャンバ３１内にＩＰＡの蒸気が供給される。 （もっと読む）

【課題】さらなる信号雑音比向上を達成するために、ＲｕまたはＲｕを主成分とする合金下地層の効果を向上させる手段を提供する。
【解決手段】Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ−Ｂ合金からなる記録層を有し、前記記録層直下にＲｕまたはＲｕを主成分とするＲｕ合金からなるＲｕ下地層を有する長手磁気記録媒体の製造方法において、Ｒｕ下地層成膜後、前記下地層表面に窒素を暴露し、その後基板加熱処理を施した後、前記記録層を成膜することを特徴とする長手磁気記録媒体の製造方法。 （もっと読む）

【解決課題】 加工プロセスや磁気記録層の成膜プロセスを複雑なものとすることがなく、表面平坦性に優れ、しかも熱伝導率が単結晶や多結晶のバルク基板と変わらない磁気記録媒体用Ｓｉ基板を提供する。
【解決手段】 粗研磨（Ｓ６）後の多結晶シリコン基板表面に金属膜を成膜し（Ｓ７）、シリサイド化もしくはシリコン合金化した後（Ｓ８）、該膜をＣＭＰ研磨等の精密研磨（Ｓ９）して基板の平坦性を高めることとした。これにより、多結晶粒の結晶方位の違いや結晶粒界の存在には影響を受けずに平坦で平滑な表面を得ることができ、かつバルクＳｉ基板とほぼ同等な耐熱性と熱伝導率を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】少ないエネルギ消費で効率良く磁気記録媒体を加熱し、記録層に用いる規則合金の規則度が変化しても長期間にわたり書き込み性能を向上することができる磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】剛体基板１０上に軟磁性層１４１を形成し、その上に非磁性中間層１４２を介して軟磁性層１４３を形成後、酸化物からなる中間層１６、結晶配向性制御兼低熱伝導中間層１８、規則化が進んだ段階でＬ１₀構造をとることが期待される組成で構成されるＦｅ−Ｐｔ合金を主成分とするグラニュラ記録層２０、Ｆｅ−Ｐｔ合金或いはＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ−Ｂ合金からなるキャップ層２２、保護層２４及び潤滑層２６を形成した構造とする。 （もっと読む）

ハードドライブ用のパターン化媒体ディスクをエッチングするためのシステムが提供される。モジュール式システムは、ディスクを真空環境から取り出すことなくパターン化媒体ディスクを製造するよう特定の処理手順を実行するべく設計されてもよい。ある手順では磁気積層体をエッチングするが、別の手順では磁気積層体を形成する前にエッチングを実行する。さらなる手順では、エッチング工程を設けず、イオン打ち込みを用いる。エッチングには、可動非接触電極を用いてスパッタエッチングを実行する。陰極は、ＲＦエネルギーをディスクに結合するべく、基板に接触しそうであるが接触しない距離まで移動する。基板は搬送装置内で垂直に保持され、両面が順次的にエッチングされる。つまり、一面側が１つのチャンバ内でエッチングされ、その後、第２面側が次のチャンバでエッチングされる。 （もっと読む）

【課題】磁気記録層を形成する際の表面となる結晶配向制御層にダメージを与えることなしに、優れた磁気特性を有する磁気記録層を得ることができるディスクリートトラック媒体およびパターンド媒体の製造方法の提供。
【解決手段】基板上に軟磁性層を形成する工程と；軟磁性層上に第１結晶配向制御層を形成する工程と：第１結晶配向制御層の少なくとも一部に凹部を設ける工程と；第１結晶配向制御層を熱処理する工程と；第２結晶配向制御層の上に、磁気記録層を形成する工程とを具えたことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】リング状基板上に形成される軟磁性膜および硬磁性膜に印加される磁場の向きが、基板の径方向に対してより完全に平行となる磁場の発生源としての磁気回路を提供する。
【解決手段】リング状の第一と第二の永久磁石ユニットに挟まれた空間に被処理物であるリング状基板を配置でき、該基板が配置された際に該基板を含む配置面において基板の径方向に磁場を発生するための径方向磁場発生用磁気回路であって、第一と第二の永久磁石ユニットが、配置面に関して対称な磁化方向および形状を有し、対称な位置に設けられ、永久磁石ユニットの内径が、被処理物である基板の外径よりも小さく設定され、その外径が、被処理物である基板の内径よりも大きく設定され、永久磁石ユニットが、基板の径方向と平行な方向に磁化成分を有する、熱処理工程に用いる径方向磁場発生用磁気回路を提供する。 （もっと読む）

【課題】オフトラックが少ない高品質な磁気テープを提供する。また、作業工数を削減し、製造コストを削減することができる磁気テープの製造方法を提供する。
【解決手段】支持体にコーティング材料、下層塗料、および磁性塗料を塗布して原反を生成する塗布工程Ｓ１１と、塗布工程後の原反を加熱加圧処理するカレンダ工程Ｓ１２と、カレンダ工程後の原反をキュアさせるエージング工程Ｓ１３と、エージング工程後の原反にサーボパターンを形成するサーボ工程Ｓ１４と、サーボ工程後の原反を所定幅に切断してパンケーキを生成するスリット工程Ｓ１５と、パンケーキを所定の長さに切断して磁気テープを生成しリールに巻き付けるローディング工程Ｓ１６とを備えたものである。 （もっと読む）