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Fターム[5D112GB03]の内容

磁気記録媒体の製造 (17,949) | 熱処理、加圧処理 (350) | 熱処理(加熱、冷却) (207) | 温度制御 (25)

Fターム[5D112GB03]に分類される特許

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【課題】主表面の表面凹凸(表面粗さやうねりや平坦度)及び端部のダレを抑制した磁気ディスク用板状ガラス素材、及び磁気ディスク用ガラス基板を効率よく製造する。
【解決手段】磁気ディスク用板状ガラス素材の製造方法であって、溶融したガラスの塊を落下させる落下工程と、塊の落下経路の両側から、互いに対向する一対の型の面で塊を挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材を成形するプレス工程と、を有し、一対の型の少なくとも一方は、前記塊の落下経路に向かって凸形状であることを特徴とする磁気ディスク用板状ガラス素材の製造方法。 (もっと読む)


【課題】真円度に優れた磁気ディスク用板状ガラス素材、及び磁気ディスク用ガラス基板を効率よく製造方法を提供する。
【解決手段】磁気ディスク用板状ガラス素材Gであって、溶融したガラスLGの塊を落下させる落下工程と、ゴブGGの落下経路の両側から、互いに対向する一対の型121,122の面でゴブGGを挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材Gを成形するプレス工程と、を有し、一対の型121,122の少なくとも一方は、ゴブGGの落下経路側が凹形状であることを特徴とする磁気ディスク用板状ガラス素材Gの製造方法。 (もっと読む)


【課題】優れた耐衝撃性及び平坦性を備え、かつ光学歪みのない磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】溶融ガラスから略円環状を有するガラス基板を得る円盤加工工程と、前記円盤加工工程によって得られたガラス基板に熱を加えて形状を矯正する第1アニール工程と、前記第1アニール工程によって得られたガラス基板の表面を研削する第1ラッピング工程と、前記第1ラッピング工程によって得られたガラス基板に再度熱を加えて形状を矯正する第2アニール工程と、前記第2アニール工程によって得られたガラス基板の表面を研削する第2ラッピング工程と、を備える磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を用いる。また、前記第2アニール工程において加えられる熱の温度は、ガラス転移温度(Tg)より20〜50℃低いことが好適である。 (もっと読む)


【課題】安定した品質を有し生産性の高い磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】フロートバス内で溶融金属の上に溶融ガラスを浮かせて板状ガラスに成形する成形工程と、板状ガラスを冷却する冷却工程と、を備えた磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、フロートバスの出口からガラスの温度が歪点となる場所までの板状ガラスの温度降下速度を50℃/min以上とする。 (もっと読む)


【課題】板厚のばらつきが小さい板状ガラス素材を製造する方法を提供する。
【解決手段】一対の主表面を有する磁気ディスク用ガラスブランクの製造方法であって、溶融したガラスの塊を落下させる落下工程と、前記塊の落下経路の両側から、互いに対向する一対の型の面で前記塊を同じタイミングで挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材を成形するプレス工程と、前記プレス工程時における前記塊の全体における位置による粘度差を低減すべく、前記プレス工程前に、前記塊の温度を調整する温度調整工程と、を有することを特徴とする磁気ディスク用ガラスブランクの製造方法。 (もっと読む)


【課題】ガラス基板の板厚の仕上がり寸法バラツキをバッチ間で抑えることができる、研磨装置の提供。
【解決手段】毎回同じ目標板厚値Aに従ってガラス基板の研磨処理を行う研磨手段として上定盤40を備える、研磨装置であって、上定盤40によって今回の研磨処理で研磨されているガラス基板の研磨中板厚値Tcを測定するために上定盤40のモーター駆動軸61に対する相対位置を計測する接触式変位センサ65と、上定盤40によって前回以前の研磨処理で研磨されたガラス基板の仕上がり板厚値Tと目標板厚値Aとの仕上がり誤差に基づいて、接触式変位センサ65の計測結果に基づいて得られた研磨中板厚値Tcの板厚補正値Tpを算出する制御部90とを備え、上定盤40は、板厚補正値Tpが目標板厚値Aに到達するまでガラス基板を研磨する、ことを特徴とする、研磨装置。 (もっと読む)


【課題】磁性層の厚さムラが抑制された磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】非磁性支持体に磁性粉末を含む磁性塗料を塗布して磁性層を形成する磁性層形成工程を含む磁気テープの製造方法において、前記磁性層形成工程の直前に、前記非磁性支持体を該非磁性支持体のガラス転移温度をTgとすると、(Tg−10)〜(Tg+30)(℃)の温度の加熱ロール3に当接させ、その後速やかに(Tg−40)(℃)以下の温度の冷却ロール4に当接させ、非磁性支持体を加熱ロール3に当接させる時間が0.03〜0.6秒であり、冷却ロール4に当接させる時間が0.03〜0.3秒であり、非磁性支持体が加熱ロール3を離れてから冷却ロール4に入るまでの時間が1秒以内である加熱冷却工程を設ける。 (もっと読む)


【課題】垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、とりわけ、高い破壊靭性を有する情報記録媒体用基板、およびその為の加工性に優れた材料を提供することにある。また、人体及び環境に対して悪影響をおよぼすおそれのある砒素成分やアンチモン成分を実質的に使用せずともガラス素地の泡やダイレクトプレス時のリボイルの発生がなく、ダイレクトプレス法に適した生産性の高い情報記録媒体用基板を提供すること。
【解決手段】主結晶相としてRAl、RTiO、(ただしRはZn、Mg、Feから選択される1種類以上)から選ばれる一種以上を含有し、主結晶相の結晶粒径が0.5nm〜20nmの範囲であり、結晶化度が15%以下であり、比重が3.00以下であることを特徴とする結晶化ガラスからなる情報記録媒体用結晶化ガラス基板。 (もっと読む)


【課題】磁気記録媒体をホットロール面に所定の距離にわたって均一に接触させて熱処理する場合において、ホットロールにおける熱処理が終了した後、磁気記録媒体は、常温にさらされるため、急激な温度変化によって、さらにしわが発生し、カッピングが生じる。
【解決手段】互いに温度差のある少なくとも2つのホットロールと、少なくとも1つのニップロールとの間に磁気記録媒体を移送してホットロールによる熱処理を行う工程を有し、
前記少なくとも2つのホットロールを熱伝導性の良い金属ベルトで繋いだ状態で、前記熱処理を行う。 (もっと読む)


【課題】 磁性層の厚さムラが抑制された磁気記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 非磁性支持体に磁性粉末を含む磁性塗料を塗布して磁性層を形成する磁性層形成工程を含む磁気テープの製造方法において、前記磁性層形成工程の直前に、前記非磁性支持体を該非磁性支持体のガラス転移温度をTgとすると、(Tg−10)〜(Tg+30)(℃)の温度の加熱ロールに当接させ、その後に(Tg−50)(℃)以下の温度の冷却ロールに当接させ、非磁性支持体を加熱ロールに当接させる時間が0.03〜0.6秒であり、冷却ロールに当接させる時間が0.03〜0.3秒であり、非磁性支持体が加熱ロールを離れてから冷却ロールに入るまでの時間が1秒以内である加熱冷却工程を設けることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】保磁力Hcと逆磁区核形成磁界Hn、およびSNRを総合的に向上させることにより、更なる高記録密度化を達成することが可能な垂直磁気記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明にかかる垂直磁気記録媒体の製造方法の構成は、基板110上に、軟磁性層130を成膜する軟磁性層成膜工程と、軟磁性層成膜後の基板に加熱処理を施す加熱工程と、加熱処理によって温度が上昇した状態で、軟磁性層上に、Niを主成分とし、少なくともBを1〜5at%含有する前下地層140を成膜する前下地層成膜工程と、前下地層の上方に、Ruを主成分とする下地層150を成膜する下地層成膜工程と、下地層の上方に、CoCrPt合金を主成分とする磁性粒子と酸化物を主成分とする非磁性の粒界部とからなる主記録層160を成膜する主記録層成膜工程と、を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】現行の磁気ディスク用アルミニウム合金基板と同等以上の強度を持ち、素材コストを低減させると共に、NiPめっき膜表面の平滑性に優れ、さらに圧着性に優れた磁気ディスク用アルミニウム合金基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】芯材の両面に皮材を備えた磁気ディスク用アルミニウム合金基板であって、芯材は、Si:0.1〜1.5質量%、Mg:1.0〜3.0質量%、Mn:0.5〜2.0質量%、Cu:2.0質量%以下を含有し、残部がAlおよび不可避的不純物からなり、皮材は、Si:0.03質量%以下、Fe:0.03質量%以下、Mg:3.0〜5.0質量%、Cr:0.01〜0.35質量%を含有し、さらに、Cu:0.01〜0.20質量%、および、Zn:0.01〜0.50質量%のうち少なくとも一種を含有し、残部がAlおよび不可避的不純物からなり、耐力が100MPa以上であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】潤滑層の表面の凹凸が緩和された磁気ディスクの提供。
【解決手段】(A)少なくとも非磁性基板および磁性層を含む磁気ディスク基板を提供する工程と、(B)磁気ディスク基板の磁性層側の面上にパーフルオロポリエーテル系化合物を含む潤滑剤溶液を塗布することにより潤滑層を配設する工程と、(C)潤滑層が配設された磁気ディスク基板を、温度50℃以上かつ相対湿度60%以上の条件で高温高湿処理することにより、潤滑層の表面を平坦化する工程とを含むことを特徴とする磁気ディスクの製造方法。 (もっと読む)


【課題】ディスク基板に要求される優れた平坦性を有する情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板の表面を研磨する工程の前にガラス基板を200℃以上400℃以下の温度で加熱する工程を設け、ガラス内部の応力歪みをアニールにより開放し、その跡に研磨工程としてのポリッシングを行ってもクラックの発生がなく不良品の発生率を少なくする。 (もっと読む)


【課題】 AFCを熱に強い構造とすることで、垂直磁気記録ディスクの耐熱温度を上げ、AFCの機能を損なうことなくコロージョンの発生を抑制することを目的とする。
【解決手段】 本発明によるディスク基体10上に軟磁性層14、磁気記録層22、媒体保護層26をこの順に備える垂直磁気記録媒体100では、軟磁性層14は、Feを30〜70at%含有する反強磁性交換結合(AFC)構造で形成され、磁気記録層22は、少なくともCoを含有する結晶粒子の間に粒界部を形成する非磁性物質を含むグラニュラー構造の強磁性層であり、媒体保護層は、ラマンスペクトルのピーク比Dh/Ghが、0.60〜1.05であることを特徴としている。 (もっと読む)


【課題】 耐摩耗性や耐衝撃性等の耐久性を向上し、媒体保護層の膜厚が3nm以下に制限されたとしてもハイフライライト等の諸問題を回避可能な垂直磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】 基体10、磁気記録層22、媒体保護層26を備える、本発明の垂直磁気記録ディスク100において、媒体保護層26は、含有する窒素(N)と炭素(C)の原子量比(N/C)が0.050〜0.150であり、かつ、波長514.5nmのアルゴンイオンレーザ光により媒体保護層26を励起して得られる波数900cm−1〜波数1800cm−1におけるラマンスペクトルから蛍光を除いたスペクトルの1350cm−1付近に現れるDピークDhと1520cm−1付近に現れるGピークGhとをガウス関数により波形分離したときのピーク比Dh/Ghが0.70〜0.95であることを特徴としている。 (もっと読む)


【課題】磁気記録媒体を製造する場合に、量産性を損なうことなく、温度分布の偏りに起因する磁気特性のばらつきを抑える。
【解決手段】基板12と、磁気記録を行うために基板上に成膜された磁性層とを少なくとも備える磁気記録媒体の製造方法において、磁性層を成膜する前、途中あるいは成膜後に基板12の両主表面を加熱する加熱工程を備え、加熱工程は、基板12の一方の主表面と対向する面内に所定の配列で配置されたヒータ304Aを有する第1加熱部302Aと、基板12の他方の主表面と対向する面内に第1加熱部302Aと異なる配列で配置されたヒータ304Bを有する第2加熱部302Bとを備える加熱装置202を用いて基板を加熱する。 (もっと読む)


【課題】 磁気ヘッドのみでも十分に記録可能となり、且つ、熱安定性と垂直磁気特性とに優れたFePt規則合金膜を記録層として備える磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】 Tiを主成分とする保磁力制御層と、上記保磁力制御層の上に形成されたFe及びOを主成分とする結晶配向制御層と、上記結晶配向制御層上に形成されたFePt規則合金を主体とする記録層とを備え、上記記録層の結晶のc軸が膜面に対して垂直配向していることを特徴とする磁気記録媒体を提供する。 (もっと読む)


【課題】ベースフィルムに発生する皺などの変形を防止して、製品の品質を向上させることができる磁気テープの製造方法及び磁気テープを提供する。
【解決手段】塗布、カレンダ処理後、ベースフィルムを巻芯に巻き取ってロール状に形成し、ロール状態のまま熱処理した後、巻戻して複数本の磁気テープに裁断する場合において、熱処理の工程が完了してから裁断の工程までの経過時間を80時間以内とする。これにより、ベースフィルムに生じる皺等の変形を抑制でき、裁断後の磁気テープの幅精度及び直線性を向上でき、トラッキングエラーの発生を低減できる。 (もっと読む)


【課題】原盤に形成された凹凸状パターンに応じた凹凸状パターンを、より正確に金属板に形成することができる反転盤製造方法を提供する。
【解決手段】表面に多数の凹凸状パターンが形成されている原盤26の表面上に導電層を形成する工程と、原盤を電解液に浸して導電層上に金属を電着することにより所定厚さの金属板よりなる反転盤28を形成する工程と、反転盤の形成後に原盤から反転盤を剥離する工程とを備える反転盤製造方法である。導電層形成工程及び/又は導電層形成工程以前における原盤周辺の雰囲気温度及び/又は原盤の温度を電解液の液温度に対して±15°C以内に管理する。 (もっと読む)


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