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Fターム[5E049DB14]の内容

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Fターム[5E049DB14]に分類される特許

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【課題】熱安定性を確保して特性バランスに優れた記憶素子を実現する。
【解決手段】記憶素子は、膜面に垂直な磁化を有し、情報に対応して磁化の向きが変化される記憶層と、上記記憶層に記憶された情報の基準となる膜面に垂直な磁化を有する磁化固定層と、上記記憶層と上記磁化固定層の間に設けられる非磁性体による中間層とを有する層構造を備える。その上で、上記層構造の積層方向に電流を流すことで記憶層の磁化の向きが変化して、記憶層に対して情報の記録が行われる。そして記憶層は、Co−Fe−B磁性層と、少なくとも1つの非磁性層を有し、酸化物層、Co−Fe−B磁性層、非磁性層が順に積層された積層構造が形成されているようにする。 (もっと読む)


【課題】向上した磁気性能および堅牢性を有する磁気読み出しセンサを提供する。
【解決手段】磁気センサは、磁化自由層構造310と磁化固定層構造とを含む。磁化固定層構造は、非磁性結合層318によって互いに分離させた第1の磁性層314および第2の磁性層316を含む。磁化固定層構造の第2の磁性層はCoFeBTaの層を含んでおり、この層が原子の拡散を防止し、さらには所望のBCC結晶粒成長を促進する。磁化自由層構造は、原子拡散をさらに防止し、所望のBCC粒成長をさらに促進するためのかかるCoFeBTa層を含むこともできる。 (もっと読む)


【課題】この発明のさまざまな実施例は、第1の強磁性自由層138と第2の強磁性自由層140との間に配置されたスペーサ層142とともに構築されてもよい、磁気応答積層132に一般的に向けられる。
【解決手段】少なくとも1つの強磁性自由層は、磁気応答積層の磁気抵抗比(MR)を向上させる結合サブ層186,196を有することができる。 (もっと読む)


【解決課題】 磁場書き込み方式MRAM、および、スピン注入磁化反転方式MRAMにおいても、書き込みに必要な電流値を小さくすることが可能な強磁性トンネル接合素子を提供する。
【解決手段】 順に、強磁性層を含む複数の層からなる強磁性自由層2と、絶縁層3と、強磁性層を含む複数の層からなる強磁性固定層4とを積層した構造を有し、前記強磁性自由層2が、該強磁性自由層2の飽和磁化を下げる働きを有する添加元素を、前記絶縁層3と接しない側において前記絶縁層3と接する側よりも多く含む強磁性トンネル接合素子1である。 (もっと読む)


【課題】 複数の磁気層および中間層を有するパターン化垂直磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】 パターン化垂直磁気記録媒体は、第1および第2の強磁性層(MAG1およびMAG2)を、MAG1とMAG2との間に第1および第2の非磁性中間層(IL1およびIL2)を備えた状態で有するディスクリートデータアイランドを有する。MAG1およびMAG2は、類似の厚さを有した類似のCoPtCr合金でもよく、IL1およびIL2の厚さは、MAG1およびMAG2が強固に交換結合されることを保証する。あるいは、MAG2は、「書き込み補助」層、例えば、交換スプリング構造における高飽和磁化の軟磁性材料でもよく、IL1は非常に薄く、それによってIL2が、MAG1と書き込み補助MAG2層間とのカップリング層として機能できる。 (もっと読む)


【課題】本発明は、磁気減衰自由層を備えたスピントルク発振器(STO)を提供する。
【解決手段】スピントルク発振器(STO)は、発振自由強磁性層の磁気減衰を増加させる。ギルバート磁気減衰パラメータ(α)は、少なくとも0.05、好ましくは0.05より大きい。自由層は、任意のタイプの従来の強磁性材料であってもよいが、ドーパントとして1つまたは複数の減衰元素を含む。減衰元素は、Pt、Pdおよび15のランタニド元素からなる群から選択される。自由層減衰は、自由層に隣接する減衰層によって増加させてもよい。減衰層の一タイプは、Mn合金のような反強磁性材料であってもよい。反強磁性減衰層に対する変更例として、二重層減衰層を、反強磁性減衰層と、自由層および反強磁性層間の非磁性金属導電分離層とで形成してもよい。別のタイプの減衰層は、Pt、Pdおよびランタニドから選択された元素の1つまたは複数で形成された層であってもよい。 (もっと読む)


【課題】高熱安定性を有する高速超低消費電力不揮発性メモリを提供する。
【解決手段】不揮発性磁気メモリに、高い熱安定性をもつ自由層を適用した高出力なトンネル磁気抵抗効果素子を装備し、スピントランスファートルクによる書込み方式を適用する。トンネル磁気抵抗効果素子1は、CoとFeとBを含有する体心立方構造の第一の強磁性膜306と第二の強磁性膜308と第一の非磁性膜307で構成される自由層を持ち、自由層に(100)配向した岩塩構造のMgO絶縁膜305を介して固定層3021を積層した構造を有する。 (もっと読む)


【課題】高速かつ消費電力が極めて小さい不揮発性メモリを提供する。
【解決手段】不揮発性磁気メモリに、高出力なトンネル磁気抵抗効果素子を装備し、スピントランスファートルクによる書込み方式を適用する。トンネル磁気抵抗効果素子1は、CoとFeとBを含有する体心立方構造の強磁性膜304と、(100)配向した岩塩構造のMgO絶縁膜305と、強磁性膜306とを積層した構造を有する。 (もっと読む)


【課題】高い強磁性共鳴周波数を有するグラニュラ磁性材料を利用しつつ、強磁性共鳴線幅の増加を抑制し、動作周波数の広い積層磁性薄膜及び磁性部品を提供する。
【解決手段】積層磁性薄膜10は、絶縁体媒質14中に磁性粒子16が分散されたグラニュラ磁性層12と絶縁層18とを交互に積層した構造であり、磁性粒子16には結晶配向を促すPdが添加されている。Pdの添加量は、グラニュラ磁性層12をCoFePdSiOとし、絶縁層18をSiOとする積層磁性薄膜10においては、Co−Feの磁性粒子16に対し、20at%以上とすることが好ましい。グラニュラ磁性層12と絶縁層18の積層構造により、磁性粒子16の粒径の分布を抑制して膜厚方向の磁性粒子16の間隔を一定に保ち、前記Pdの添加により磁性粒子16の結晶配向を促して磁化容易軸方向の分散に起因した強磁性共鳴線幅の増加を抑制する。 (もっと読む)


【課題】磁気記録素子のMR比の向上を図る。
【解決手段】実施形態に係わる磁気記録素子は、磁化が可変で磁化容易軸方向が膜面に垂直となる方向の磁気記録層11と、磁化が膜面に垂直となる方向に固定される磁気固着層12と、磁気記録層11と磁気固着層12との間の非磁性バリア層13と、磁気記録層11と非磁性バリア層13との間の挿入層14とを備える。挿入層14は、軟磁性材料、ホイスラー合金、ハーフメタル酸化物、及び、ハーフメタル窒化物のうちの1つを含む。 (もっと読む)


【課題】均一な粒界幅で分断されており、かつ、コラム成長した磁性結晶粒で構成される磁性層を有する熱アシスト記録媒体が実現し、これを用いたエラーレートの低い磁気記憶装置を提供する。
【解決手段】基板と、該基板上に形成された複数の下地層と、L1構造を有する合金を主成分とする磁性層からなる磁気記録媒体において、該磁性層が、L1構造を有するFePt合金とCからなる第1の磁性層と、L1構造を有するFePt合金とCr、YもしくはTaからなる第2の磁性層で構成された2層構成であることを特徴とする磁気記録媒体を用いる。また、第1の磁性層と、第2の磁性層の間に、交換結合を制御するための非磁性中間層を設ける。 (もっと読む)


【課題】良好な(001)配向を有し、かつ、規則度が高いL1型のFePt合金、もしくはCoPt合金からなる磁性層を有する熱アシスト記録媒体が実現し、これを用いたエラーレートの低い磁気記憶装置を提供する。
【解決手段】基板と、該基板上に形成された複数の下地層と、L1構造を有する合金を主成分とする磁性層からなる磁気記録媒体において、該複数の下地層が、NiO下地層と、該NiO下地層に(100)配向をとらせるための配向制御層を含むからなる下地層であることを特徴とする磁気記録媒体を用いる。 (もっと読む)


【課題】垂直磁気異方性を有するとともにより大きな磁気抵抗効果を発現することが可能な磁気抵抗素子およびこれを用いた磁気メモリを提供する。
【解決手段】下地層と、下地層上に設けられ、膜面に垂直方向に磁化容易軸を有し、MnGa100−x(45≦x<64atm%)である磁性体膜を含む第1の磁性層と、第1の磁性層上に設けられた第1の非磁性層と、第1の非磁性層上に設けられ、膜面に垂直方向に磁化容易軸を有し、MnGa100−y(45≦x<64atm%)である磁性体膜を含む第2の磁性層と、を備え、第1および第2の磁性層のMnの組成比が異なり、第1の非磁性層を介して第1の磁性層と第2の磁性層との間に流れる電流によって、第1の磁性層の磁化方向が可変となる。 (もっと読む)


【課題】 GMR素子では、十分大きなMR比を得ることが困難である。大きなMR比を実現することが可能なMTJ素子において、反転電流を低減させることが望まれている。
【解決手段】 下部電極の上に、磁化容易方向が厚さ方向を向く垂直磁気異方性膜が形成されている。垂直磁気異方性膜の上に、非磁性材料で形成されたスペーサ層が配置されている。スペーサ層の上に、アモルファスの導電材料からなる下地層が配置されている。下地層の上に、磁化容易方向が面内方向を向く磁化自由層が配置されている。磁化自由層の上にトンネルバリア層が配置されている。トンネルバリア層の上に、磁化方向が面内方向に固定された磁化固定層が配置されている。スペーサ層は、垂直磁気異方性膜と磁化自由層との間に交換相互作用が働かない厚さであり、かつスピン緩和長よりも薄い。 (もっと読む)


【課題】面積抵抗のばらつきを抑えつつ、大きなMR変化率を実現する。
【解決手段】磁気抵抗効果素子4は、外部磁界に対して磁化方向のなす相対角度が変化する第1及び第2の磁性層L1,L2と、第1の磁性層L1と第2の磁性層L2との間に位置するスペーサ層16と、を有している。スペーサ層16は、酸化ガリウムを主成分とし、マグネシウム、亜鉛、インジウム、及びアルミニウムからなる群から選択された少なくとも1つの金属元素を含む主スペーサ層16bを有している。 (もっと読む)


【課題】反転磁界分散が小さい熱アシスト磁気記録媒体、及びそれを用いた磁気記憶装置を提供する。
【解決手段】基板と、該基板上に形成された複数の下地層と、L1構造を有する合金を主成分とする磁性層からなる磁気記録媒体において、下地層の少なくとも一つが、TiCであることを特徴とする熱アシスト磁気記録媒体を用いる。また下地層を、Cr、もしくはCrを主成分とし、Ti、V、Mo、W、Mn、Ruのうちの少なくとも1種類を含有するBCC構造を有する下地層の上に形成する。 (もっと読む)


【課題】従来のTMR素子に比べて磁気抵抗を大きくし、出力電圧を大きくすることを目的とする。
【解決手段】磁気抵抗素子は、基板と、前記基板上に形成されたCo,Fe,Bを含む磁性合金からなる強磁性体層と、前記強磁性体層上にトンネル障壁層として(001)結晶面が優先配向した多結晶酸化マグネシウム層と、を有し、前記強磁性体層が結晶化していることに特徴がある。 (もっと読む)


【課題】 積層構造の側方に生成された付着物の影響を受けにくい磁気トンネル接合素子が求められている。
【解決手段】 基板上に形成された下部電極の一部の領域の上に、下部電極とはエッチング特性が異なる導電材料で形成されたバッファ層が配置されている。バッファ層の上に、アモルファスの強磁性材料で形成された第1磁化自由層が配置されている。第1磁化自由層の上に、結晶化した強磁性材料で形成された第2磁化自由層が配置されている。第2磁化自由層の上にトンネルバリア層が配置されている。トンネルバリア層の上に、磁化方向が固定された磁化固定層が配置されている。磁化固定層の上に上部電極層が配置されている。 (もっと読む)


【課題】従来よりも高いMR比を持った磁気抵抗素子とその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、磁気ディスク駆動装置の磁気再生ヘッド、磁気ランダムアクセスメモリの記憶素子及び磁気センサーに用いられる磁気抵抗素子、好ましくは、トンネル磁気抵抗素子(さらに好ましくは、スピンバルブ型トンネル磁気抵抗素子)に関し、基板、トンネルバリア層、Co(コバルト)Fe(鉄)合金からなる強磁性層及びB(ボロン)を含有した非磁性金属層を有する磁気抵抗素子。 (もっと読む)


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