説明

Fターム[5E049GC02]の内容

磁性薄膜 (4,742) | スパッタリング法 (344) | スパッタリング法 (338) | ターゲット (55)

Fターム[5E049GC02]に分類される特許

1 - 20 / 55


【課題】スパッタリング法等により形成される不規則なA1構造を有するFe−Pt系合金薄膜を、熱処理以外の方法により規則化させてL1構造を有するFe−Pt系合金磁性薄膜にすることができる手段を提供すること。
【解決手段】Fe−Pt合金に特定量のPを単独で配合するか或いは特定量のCu又は特定量のCu及びAgと共に配合すると、電子線照射により、熱処理することなく、規則化を行うことができるFe−Pt系合金薄膜を得ることができる。 (もっと読む)


【課題】ヘッドスペーシングの拡大、および磁性層の磁気異方性の低下を抑制することができる垂直磁気記録媒体の製造方法の提供。
【解決手段】(1)規則合金を構成する金属および炭素を含むターゲットを用いるスパッタ法によって、非磁性基板上に、規則合金の結晶粒子および炭素からなる粒界層を含む磁気記録層と、磁気記録層上に存在し、炭素からなる保護層前駆体とを形成する工程と、(2)保護層前駆体に、炭化水素系ガスに対するプラズマ放電により生成した炭化水素系イオンを照射して、保護層前駆体を保護層に変化させる工程とを含み、炭化水素系イオンは保護層前駆体に到達する際に300eV以上のエネルギーを有することを特徴とする方法。 (もっと読む)


【課題】高い磁石性能、すなわち高い最大エネルギー積を実現できる薄膜磁石を提案する。
【解決手段】高い最大エネルギー積の薄膜磁石を実現するため、高い磁気異方性エネルギーと高い飽和磁化を実現できる薄膜磁石の構成を提供する。このため、Fe又はFeCo膜の一方の面に、Ta、Nb、V、Cr、Ru、Cu、Agの群から選ばれた一つ以上の金属を直に形成する。また、Fe又はFeCo膜の他方の面には、希土類元素を含む強磁性体を直に形成する。 (もっと読む)


【課題】 高い温度域でも結晶膜化を抑制可能な垂直磁気記録媒体等に用いられるFe−Co系合金軟磁性膜およびそのFe−Co系合金軟磁性膜形成用粉末焼結スパッタリングターゲット材を提供する。
【解決手段】 原子比における組成式が((Fe−Co100−X100−Y−Ni100−a−b−M−B、10≦X≦70、0≦Y≦25、7≦a、1≦b≦5、13≦a+b≦25で表され、前記組成式のM元素がNbおよび/またはTaからなる粉末焼結ターゲット材をスパッタリングして、膜厚20〜300nmに成膜されてなる垂直磁気記録媒体用Fe−Co系合金軟磁性膜である。 (もっと読む)


【課題】Nd−Fe−B系永久磁石薄膜などの永久磁石薄膜の磁気特性を向上させることができる、永久磁石薄膜用スパッタリングターゲット及びその製造方法の提供。
【解決手段】原子比率による組成式が、R100−x−y(Rは希土類元素のうち少なくとも一種であってNd及び/又はPrを必ず含み、Tは遷移元素のうち少なくとも一種であってFeを必ず含み、MはB又はBとCであって50原子%≦B/Mを満足する)で表され、x、yが、17≦x≦20、7≦y≦10を満足する組成からなり、酸素含有量が1500ppm以下の焼結体である。 (もっと読む)


【課題】 飽和磁束密度、非晶質性、結晶化温度および耐食性に優れた熱アシスト磁気記録媒体用軟磁性合金およびそのスパッタリングターゲット材並びに磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】 at.%で、Fe:0〜70%を含み、かつ下記(A)群の各種元素の1種または2種以上を5〜20%、残部Coおよび不可避的不純物からなる磁気記録用軟磁性合金。また、上記に加えて、at.%で、Fe:0〜70%を含み、かつ下記(B)群元素の1種または2種以上を5〜30%含有し、かつ(A)群元素と(B)群元素との和を10〜35%とし、残部Coおよび不可避的不純物からなる磁気記録用軟磁性合金およびスパッタリングターゲット材並びに磁気記録媒体。
(A)Ti,Zr,Hf、(B)Cr,Mo,W (もっと読む)


【課題】対向ターゲット式スパッタ装置において、磁性体膜の成膜速度を高速化するとともに、長時間の成膜安定性を実現する。
【解決手段】スパッタ装置のターゲットモジュールは、スパッタされる表面を対向して設けられる一対のターゲット部材を交換可能に保持する一対のターゲット保持部と、一方のターゲット部材の表面から他方のターゲット部材の表面に向かう磁束を発生する磁場発生手段と、ターゲット部材の表面上で周辺部分よりも中央部分の磁束密度が低下するように磁束密度を分布させる磁束密度分布調整手段と、を有する。 (もっと読む)


【課題】グラニュラ構造の垂直磁性層をスパッタリング法で形成するに際し、形成する磁性粒子を微細化し、また磁性粒子の粒界幅を広げ、今まで以上に高記録密度化に対応可能な電磁変換特性に優れた磁性層を形成可能とするターゲットを提供する。
【解決手段】磁気記録媒体のCo系磁性層をスパッタリング法で形成するために用いるターゲットを、CrまたはCr合金を5モル%以上含み、CoOを5モル%以上含み、融点が800℃以下の酸化物を合計で3モル%〜20モル%の範囲内で含み、気孔率が7%以下とする。またターゲットに、SiO、TiO、TiO、ZrO、Cr、Ta、Nb、Al、CeO2からなる群から選ばれる何れか1種を含有させる。 (もっと読む)


【課題】 垂直磁気記録媒体の軟磁性層として用いられる、アモルファス薄膜を作製するための、高PTF値を示すスパッタリングターゲット材とこれに使用する低飽和磁束密度原料粉末を提供する。
【解決手段】 Fe,Ni,Zrを含む軟磁性薄膜を製造するための、粉末を固化成形したスパッタリングターゲット材おいて、原料粉末としてat%で、Co:≦6%、Zr:1〜20%に、Hf:≦20%、Nb:≦20%、Ta:≦20%を含有し、残部がFe,Niおよび不可避的不純物からなり、かつ、下記式を満たす原料粉末およびこれを形成したことを特徴とするスパッタリングターゲット材。(ただし、Co、Hf,Nb,Taは0%を含む)
0.25≦[Ni%/(Fe%+Ni%)]−0.011×(Zr%+Hf%+Nb%+Ta%)≦0.35 … (1)
Zr+Hf+Nb+Ta≦20% … (2) (もっと読む)


【課題】 垂直磁気記録媒体における軟磁性膜層用CoFeNi系合金およびスパッタリングターゲット材を提供する。
【解決手段】 at%で、(Co+Fe+Ni):70〜92%(ただし、Niは0を含む)、Ta:1〜8%、B:7%超〜20%を含有し、かつ、Co/(Co+Fe+Ni):0.1〜0.9、Fe/(Co+Fe+Ni):0.1〜0.65、Ni/(Co+Fe+Ni):0〜0.35、およびB/Ta:1〜8を満たすことを特徴とする垂直磁気記録媒体における軟磁性膜層用CoFeNi系合金。 (もっと読む)


【課題】ハードディスクの高密度磁気記録媒体等に適用される磁気記録膜、特に垂直磁気記録媒体に適用される磁気記録膜の形成に好適な、漏れ磁束密度の高い磁気記録膜形成用スパッタリングターゲットとその製造方法を提供する。
【解決手段】Co粉末、Pt粉末及び非磁性酸化物粉末からなる予備混合粉末に、Co−Cr合金粉末及びPt粉末を更に添加して混合・粉砕したCoCrPt−非磁性酸化物混合粉末を加圧焼結することによって得られた、CoCrPt−非磁性酸化物スパッタリングターゲットであって、その組織中には、12〜25面積%のPtリッチ領域が分散形成されている。 (もっと読む)


【課題】成膜装置及び磁気記録媒体の製造方法において、チャンバ内のターゲットから飛散した材料の塵埃による汚染を防止すると共に、防着板の頻繁な清掃又は交換を不要とすることを目的とする。
【解決手段】チャンバと、第1の材料で形成された第1のターゲットをチャンバ内で第1のカソード上に保持する主ホルダと、第2の材料で形成された第2のターゲットをチャンバ内で第2のカソード上に保持する副ホルダと、成膜処理時に第1のカソードに電流を印加してチャンバ内の基板の表面に第1の材料を形成する第1のDC電源と、コーティング処理時に第2のカソードに電流を印加してチャンバ内の基板の表面以外の部分の第1の材料を覆うように第2の材料を形成する第2のDC電源を備える。 (もっと読む)


【課題】250Gビット/平方インチ以上の記憶容量であってもノイズの少ない、グラニュラ磁気記録層を含む磁気ディスク及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の磁気ディスクは、ディスク基体10上に直接又は中間層を介して形成され、グラニュラ柱状粒子間に非磁性領域を有してなるグラニュラ磁気記録層20と、前記グラニュラ磁気記録層20上に形成され、前記グラニュラ柱状粒子間で交換相互作用させる補助記録層22と、を具備し、前記補助記録層22は、0.1モル〜3モルの酸素を含有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 軟磁気特性を高く維持した上で、耐候性に優れた垂直磁気記録媒体等に用いられる軟磁性膜形成用Co−Fe系合金を提供する。
【解決手段】 原子比における組成式が((Co100−X−Fe100−Y−Ni100−(a+b+c)−M1−M2−W、5≦X≦80、0≦Y≦25、2≦a≦6、2≦b≦10、0.5≦c≦5で表され、残部不可避的不純物からなるCo−Fe系合金であって、前記組成式のM1元素が(Zr、Hf、Y)から選ばれる1種もしくは2種以上の元素、前記組成式のM2元素が(Ta、Nb)から選ばれる1種もしくは2種の元素である軟磁性膜用Co−Fe系合金である。 (もっと読む)


【課題】 熱安定性にすぐれ、MR比の高い磁気抵抗素子を提供すること。
【解決手段】 磁気抵抗素子は、マンガンを有する層で形成した反強磁性層と、反強磁性層側に位置し、強磁性体及び白金族系金属を有する層で形成した第一磁化固定層、強磁性体を有する層で形成した第二磁化固定層及び該第一磁化固定層と該第二磁化固定層との間に位置する第一非磁性中間層を有する積層磁化固定層と、強磁性体を有する層で形成した磁化自由層と、積層磁化固定層と前記磁化自由層との間に位置する第二非磁性中間層と、を有する。 (もっと読む)


【課題】従来よりも高いMR比を持った磁気抵抗素子の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の一実施形態では、基板の上に、スパッタリング法を用いて、磁化固定層、磁化自由層及びトンネルバリア層を成膜する工程において、磁化自由層成膜工程は、Co原子、Fe原子及びB原子を含有する第1ターゲットと、Co原子及びFe原子を含有し、該第1ターゲット中のB原子含有量と相違する含有量の第2ターゲットと、を用いたコ−スパッタリング法により、Co原子、Fe原子及びB原子を含有する強磁性体層を成膜する。 (もっと読む)


【課題】従来よりも高いMR比を持った磁気抵抗素子の製造方法を提供する。
【解決手段】基板の上に、スパッタリング法を用いて、磁化固定層、磁化自由層及びトンネルバリア層を成膜する工程において、磁化固定層成膜工程は、Co原子、Fe原子及びB原子を含有する第1ターゲットと、Co原子及びFe原子を含有し、該第1ターゲット中のB原子含有量と相違する含有量の第2ターゲットと、を用いたコ−スパッタリング法により、Co原子、Fe原子及びB原子を含有する強磁性体層を成膜する
ことを特徴とする磁気抵抗素子の製造法。 (もっと読む)


【課題】高い磁気抵抗効果(MR効果)を維持しつつ、より低抵抗であるグラニュラ膜を提供すること。
【解決手段】MgOターゲット3及び強磁性体ターゲット4を備え、基板8に対してMgO及び強磁性体をスパッタリングするスパッタリング装置において、プラズマ干渉状態を最適化した状態で、前記基板8上に(111)配向を有するMgOバリア層と、前記MgOバリア層中に分散された強磁性体微粒子と、を含む低抵抗グラニュラ膜を形成する。 (もっと読む)


【課題】磁気記録媒体の製造方法において、媒体ノイズを低減可能な磁気記録媒体を製造することを目的とする。
【解決手段】非磁性基板の上方に設けられた中間層上に記録層であるグラニュラ磁性層を形成する磁気記録媒体の製造方法において、Co合金からなる複数の磁性粒子及び前記複数の磁性粒子を磁気的に分離する酸化物からなる前記グラニュラ磁性層をターゲットを用いたスパッタリングにより形成し、前記ターゲットは、Co合金と、第1の酸化物を形成するTi酸化物及びSi酸化物と、第2の酸化物を形成するCo酸化物を含み、前記ターゲットの前記第1の酸化物の総量はモル分率で約12mol.%以下であるように構成する。 (もっと読む)


【課題】製造における薄膜構造制御が容易であり、かつ、磁化が2500G以上、好ましくは3000G以上の磁化を有する強磁性Fe酸化物薄膜を提供する。
【解決手段】一般式L100−x−yFe(但し、90≦x+y<100,27≦x≦67,37≦y≦67,L:Mo、W、Ge、CrおよびMgの一種または二種以上の元素、各数字は原子比率を示す)で表される強磁性薄膜材料を、薄膜製造装置、例えば、高周波スパッタリング装置を用いて成膜を行う。 (もっと読む)


1 - 20 / 55