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Fターム[5E314FF19]の内容

印刷回路の非金属質の保護被覆 (18,974) | 被覆の対象 (2,949) | 配線 (441) | 銅箔 (205)

Fターム[5E314FF19]に分類される特許

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【課題】反りを抑制しつつ高密度実装に対応できるフレキシブルプリント基板を提供する。
【解決手段】フレキシブルプリント基板13は、ベースフィルム25を有する。フレキシブルプリント基板13は、ベースフィルム25の一主面25a上に第1導電層26を有する。フレキシブルプリント基板13は、ベースフィルム25の他主面25b上に第2導電層28を有する。フレキシブルプリント基板13は、第1導電層26を覆う第1保護層27を有する。フレキシブルプリント基板13は、第2導電層28を覆う第2保護層29を有する。第1保護層27と第2保護層29とは、少なくともいずれか一方の少なくとも一部を感光性レジストにより形成し、全体として互いの熱膨張率を等しくする。 (もっと読む)


【課題】低線膨張係数、低吸湿膨張係数を有し、硬化後の剥離が生じない、PIエッチング性に優れたポリイミド前駆体組成物を提供する。
【解決手段】(A)成分と、(B)、(C)成分の少なくとも一方を含有するポリイミド前駆体組成物であり、(B)、(C)成分の割合が、(A)成分100重量部に対して30〜100重量部である。(A)3,3′,4,4′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物とp−フェニレンジアミンからのポリアミド酸の構造単位(a1)、および、3,3′,4,4′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物と2,2′−ビス(トリフルオロメチル)−4,4′−ジアミノビフェニルからのポリアミド酸の構造単位(a2)を備え、モル比で(a1)/(a2)=20/80〜70/30であるポリイミド前駆体。(B)シクロヘキサンジカルボキシイミド構造を有するアクリレート化合物。(C)ポリエチレングリコール系化合物。 (もっと読む)


【課題】曲げ半径が小さくても破断を回避可能なプリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】プリント配線板1の製造方法は、ベースフィルム10上に配線パターン20の銅層23を形成する工程と、カバーレイ30をベースフィルム10に積層して、銅層23の一部をカバーレイ30から露出させつつ銅層23をカバーレイ30で覆うことで、基板中間体2を形成する工程と、基板中間体2を治具40に取り付ける工程と、基板中間体2を治具40に取り付けたまま、少なくとも銅層23の露出部分を機械的に研磨する工程と、基板中間体2を治具40から取り外す工程と、銅層23の露出部分に対してめっき処理を行って、銅層23の上にめっき層24を形成する工程と、を備え、治具40は、カバーレイ30の折り曲げ予定部分に対応する領域に凹部を有する。 (もっと読む)


【課題】熱可塑性液晶ポリマーフィルムを用いた基板に対して好適に利用できるカバー材、および、このカバー材を備えたLCP回路基板を提供する。
【解決手段】回路基板10は、基板12とこの基板12の少なくとも一方の表面上に設けられた導体回路13とを含む基板構造体11、および前記基板構造体11の最外層のうち、少なくとも導体回路側を被覆するカバー材14で少なくとも構成され、前記基板は、光学的異方性の溶融相を形成し得る熱可塑性ポリマーからなるフィルムから形成され、前記カバー材は、(i)260℃でのハンダ耐熱性を有し、(ii)誘電率が2.0〜3.5であり、且つ(iii)誘電正接が0.01以下である。 (もっと読む)


【課題】耐熱性・耐薬品性・平滑性・光学特性を満足する膜あるいは微細パターンの形成が可能な、有機溶剤に可溶であるβ−ヒドロキシアルキルアミドを含む感光性組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】特定の構造を有するβ−ヒドロキシアルキルアミド(A)と、カルボキシル基を含有するポリマー(B)と、光重合開始剤(C)と、を含有する感光性組成物であって、当該組成物中に光重合性官能基を必須として含むことを特徴とする感光性組成物。
さらには、β−ヒドロキシアルキルアミド(A)が有機溶剤に可溶である上記感光性組成物。そして、上記感光性組成物を用いてなるタッチパネル層間絶縁膜用コーティング剤、カラーフィルタ用感光性組成物、感光性ソルダーレジストインキ。 (もっと読む)


【課題】無機フィラーを高密度に含有しながらも、無機フィラーの分散安定性に優れ、且つ、解像性が良好で現像残渣もより少なく、絶縁性、耐熱性、耐メッキ性のいずれにも優れた高性能な硬化膜を得ることが可能な感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性フイルム、感光性積層体、永久パターン形成方法およびプリント基板の提供。
【解決手段】
酸変性のエチレン性不飽和基含有樹脂、無機フィラー、イオン捕捉剤、ラジカル重合性モノマー、光重合開始剤および熱架橋剤をそれぞれ少なくとも1種含有する感光性樹脂組成物であって、該感光性樹脂組成物の不揮発成分全容量中の該無機フィラーの含有量が20容量%以上であり、かつ該イオン捕捉剤が、Zr、BiまたはSbの少なくとも1種を有する無機化合物である、感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性フイルム、感光性積層体、永久パターン形成方法およびプリント基板。 (もっと読む)


【課題】無機フィラーを安定かつ高密度に分散でき、特にソルダーレジスト用などに好適で、耐熱衝撃性(TCT)に優れ、微細な丸穴パターンが形成でき、該丸穴パターンが、膜太りやアンダーカットが大幅に低減されさらには現像性や転写性に優れた高性能な硬化膜を得ることができる感光性樹脂組成物、感光性フイルム、感光性積層体、永久パターン形成方法およびプリント基板の提供。
【解決手段】 酸変性のエチレン性不飽和基含有樹脂、無機フィラー、ラジカル重合性モノマー、光重合開始剤、熱架橋剤および、重合禁止剤として、不対電子を有する有機化合物または/およびTCNQと電荷移動錯体を形成しうる化合物をそれぞれ少なくとも1種含有する感光性樹脂組成物であって、該無機フィラーの含有量が該感光性樹脂組成物の不揮発成分全容量中の20容量%以上である感光性樹脂組成物、並びに、これを用いた感光性フイルム、感光性積層体、永久パターン形成方法およびプリント基板。 (もっと読む)


【課題】ハロゲンフリーで難燃性を達成でき、且つ、解像性、低反り性に優れた高反射白色塗膜層を形成可能な現像型硬化性樹脂組成物、そのドライフィルム及び硬化物、並びにこれらによりソルダーレジスト等の難燃性皮膜が形成されてなるプリント配線板を提供する。
【解決手段】現像型硬化性樹脂組成物は、カルボキシル基含有樹脂、酸化チタン、及びホスフィン酸金属塩を含有する。好適には、現像型硬化性樹脂組成物はさらに熱硬化性樹脂を含む。また、上記カルボキシル基含有樹脂はウレタン骨格を有するカルボン酸樹脂であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】コストを増大させることなく、簡便に基材の端面からの発塵による品質低下を抑制する。
【解決手段】基材10と、基材10の両面または片面に形成された金属配線20pと、金属配線20pが形成された基材10の両面または片面の上の少なくとも一部を覆って保護するフィルム型ソルダレジスト50と、を備え、フィルム型ソルダレジスト50は、基材10の少なくとも一部の端面Eを覆う。 (もっと読む)


【課題】支持フィルムの剥離性、支持フィルム剥離後の水溶性樹脂層安定性に優れ、レジストパターンのサイドウォールにガタツキがなく、レジストパターン表面の平坦性が良く、現像性に問題ない感光性エレメントの提供。
【解決手段】支持フィルムと、中間層と、感光性樹脂層とが順次積層された積層構造を有し、支持フィルムが、中間層が積層される面とは反対面側に、微粒子を含有する樹脂層を含む二軸配向ポリエステルフィルムであり、中間層が、水溶性樹脂層であることを特徴とする感光性エレメント。 (もっと読む)


【課題】プラズマ粗化処理硬化物のプラズマ粗化処理された粗面の濡れ性を高めることができるエポキシ樹脂材料を提供する。
【解決手段】本発明に係るエポキシ樹脂材料は、樹脂組成物又は該樹脂組成物がフィルム状に成形されたBステージフィルムであるエポキシ樹脂材料である。上記樹脂組成物は、エポキシ樹脂と硬化剤と無機フィラーとを含む。エポキシ樹脂材料を硬化させた硬化物の表面をプラズマ粗化処理して、算術平均粗さRaが30nmである第1の粗面を有する第1のプラズマ粗化処理硬化物を得たときに、該第1の粗面の表面自由エネルギーは50mJ/m以上である。上記硬化物の表面をプラズマ粗化処理して、算術平均粗さRaが300nmである第2の粗面を有する第2のプラズマ粗化処理硬化物を得たときに、該第2の粗面の表面自由エネルギーは75mJ/m以下である。 (もっと読む)


【課題】プリント配線板の接着剤として硬化成形後の接着性、プリント配線板の電気特性に優れている難燃性樹脂組成物、並びに該樹脂組成物を用いたフレキシブルプリント配線板用金属張積層板、カバーレイ、フレキシブルプリント配線板用接着シート及びフレキシブルプリント配線板を提供する。
【解決手段】難燃性樹脂組成物は、熱硬化性樹脂と、硬化剤と、リン含有ポリマーとを含むものである。 (もっと読む)


【課題】円筒形状のフィルム回路基板実装体の外周面に均一に絶縁性樹脂を塗布する立体的回路基板の製造装置及び製造方法を提供する。
【解決手段】円筒形状又は円柱形状の部材の曲面上にフィルム回路基板を実装したフィルム回路基板実装体50の表面に、絶縁性樹脂60を塗布して絶縁樹脂層を形成する立体的回路基板70の製造装置であって、前記フィルム回路基板と同径の円筒形状を有し、前記フィルム回路基板実装体の両端を上下から挟むように固定し、前記フィルム回路基板実装体を上下に立てた状態で保持する実装体保持部と、該実装体保持部及び前記フィルム回路基板実装体を内嵌可能なリング状スキージ100と、該リング状スキージを、前記フィルム回路基板実装体の軸方向に移動可能に外側から覆うように保持するスキージ保持部と、該スキージ保持部の直上に設けられた絶縁性樹脂溜め102と、を有する。 (もっと読む)


【課題】開口部を形成するための工程時間を短縮することができるとともに、工程を簡単化し、コストを減少することができるコアレス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】(A)キャリア110の一面に開口部形成用ドライフィルム122をパターニングする段階と、(B)開口部形成用ドライフィルム122がパターニングされたキャリア110に、第1の保護層130を形成する段階と、(C)第1の保護層130にパッド142を含む回路層140を形成する段階と、(D)回路層140が形成された前記第1の保護層130にビルドアップ層150を形成する段階と、(E)ビルドアップ層150を形成した後、キャリア110を第1の保護層130から分離する段階と、(F)開口部形成用ドライフィルム122を第1の保護層130から除去してパッド142を露出させる段階と、を含む。 (もっと読む)


【課題】黒色のソルダレジストや膜厚が厚いソルダレジストの仕様に対しても、アンダーカットが生じることのないソルダレジストを形成し、高い解像性を有するプリント配線板を提供することを目的とする。
【解決手段】導体パターン3が形成された絶縁基板2上にソルダレジスト4aを塗布、仮硬化し、露光用マスクフィルム5を介しソルダレジスト4aを紫外線で露光する工程において、紫外光を選択的に拡散させてソルダレジスト4を形成する。 (もっと読む)


【課題】ギ酸による導体層の腐食を抑制することが可能なペースト組成物およびそれを用いた配線回路基板を提供する。
【解決手段】ベース絶縁層2の一面に、導体層3が形成される。導体層3は、一対の矩形の集電部3a,3b、および集電部3a,3bから長尺状に延びる引き出し導体部4a,4bからなる。導体層3の所定部分を覆うように、ベース絶縁層2上に被覆層6a,6bが形成される。被覆層6a,6bの材料として、式(1)で表される化合物を含むペースト組成物が用いられる。
【化1】
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【課題】導体層の腐食が防止されるとともに導体層の抵抗が低減された配線回路基板およびその製造方法ならびに配線回路基板を備えた燃料電池を提供する。
【解決手段】主面E2がベース絶縁層2に対向するように、所定のパターンを有する導体層31がベース絶縁層2上に形成される。導体層31の主面E1および側面E3上に酸に対して導体層31よりも高い耐食性を有するバリア層32が形成されるとともに、導体層31の主面E1および側面E3ならびにバリア層32が導電性の被覆層6a〜6nにより被覆される。 (もっと読む)


【課題】コーティング剤の腐食性ガス耐性評価方法の提供。
【解決手段】絶縁基板の表面に配線を形成する配線形成工程と、少なくとも配線の表面に、評価対象であるコーティング剤からなるコーティング膜を形成する膜形成工程と、配線の電気抵抗をモニタリングしながら、配線とコーティング膜とが形成された絶縁性基板を腐食性ガスを含む雰囲気中に曝露する曝露工程と、モニタリングの結果に基づいて、曝露の開始から電気抵抗が増加し始めるまでの時間を求め、膜透過時間算出工程と、膜透過時間とコーティング膜の厚さから、単位厚さ当たりの膜透過時間である標準時間を求める標準時間算出工程と、標準時間を、所定の基準時間、または、他のコーティング剤について求めた標準時間と比較することにより、コーティング剤の腐食性ガス耐性を評価する評価工程とを有する。 (もっと読む)


【課題】表面に露出する半田付け用のランドが剥離しないように改良したプリント配線基板を提供する。
【解決手段】表面に露出する半田付け用のランド2、例えばIC部品の多数の端子を半田付けするためのランド2を設けたプリント配線基板であって、配線パターン3に連続するランド端部と反対側のランド端部2aをシルク印刷された印刷塗料7で押えた構成のプリント配線基板とする。ランド端部2aを印刷塗料7で押えて捲れないようにして、ランド2の剥離を防止する。 (もっと読む)


【課題】導体層と樹脂絶縁層とがそれぞれ少なくとも1層積層されるとともに、最表面にソルダーレジスト層が形成されてなる配線基板を最終製品として提供する際に、その表面に接触痕を形成することなく配線基板の反りを低減し、平坦化することが可能な新規な製造方法を提供する。
【解決手段】導体層と樹脂絶縁層とがそれぞれ少なくとも1層積層されるとともに、最表面にソルダーレジスト層が形成されてなる配線基板を、支持台上に配置する。次いで、凹部が形成されてなる平板状の治具により、前記凹部が前記配線基板のICチップ搭載部上に位置し、前記ICチップ搭載部が前記治具と離間した状態で、前記配線基板を、加熱下、前記支持台に対して押圧する。この際、前記治具の、前記凹部の外方に位置する押圧面の表面粗さを前記ソルダーレジスト層の表面粗さに対応して粗化する。 (もっと読む)


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