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Fターム[5E317CC42]の内容

プリント配線間の電気接続のための印刷要素 (17,195) | 配線処理 (3,209) | メッキ (1,415) | メッキ装置 (40)

Fターム[5E317CC42]に分類される特許

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【課題】スルーホールに充填した金属における欠陥を無くすこと。
【解決手段】プリント基板Wに向けてめっき液を噴射する、または気泡を噴射しながら、めっき液から金属qを析出させてスルーホールhを充填する途中の時点において、めっき液の噴射角度を変更する、またはプリント基板Wの姿勢を変更する。 (もっと読む)


【課題】洗浄および無電解銅めっき液などの表面処理において、微細化した貫通スルーホールおよび非貫通バイアホールに処理液を供給し処理液の供給不足による銅めっき欠損などの不具合発生を抑える。
【解決手段】本発明は、洗浄および無電解銅めっきなどの表面処理において、装置コストの安い洗浄および無電解銅めっきなどの表面処理を行なうバーチカル方式を使用し、処理液を微細な貫通スルーホール、非貫通バイアホールに処理液を供給するため、カゴに銅張り積層板と、処理液の流れを制御するための、取付け、取外し可能な整流板を配置し処理する。 (もっと読む)


【課題】層間接続の導通信頼性を高めつつ高密度配線による高精細な回路パターンを簡易な方法で形成する。
【解決手段】両面銅張積層板3に貫通穴4を設け、全面をめっきした上でスルーホール部10の形成箇所に第1のエッチングレジスト7を形成し、エッチングによりスルーホール部10の形成箇所以外のめっき層6を除去する。その後、両面銅張積層板3の全面に第2のエッチングレジスト8を形成し、レジストパターンを形成したら銅箔2に配線パターン9を形成する。 (もっと読む)


【課題】絶縁層と密着層との密着性を保ちつつ、電極層と銅配線層との接続を確保する。
【解決手段】インターポーザ100において、配線パターン111は銅から形成される。また、貫通電極114も銅から形成される。また、酸化膜115は、貫通電極114に隣接して配置される。そして、酸化膜115と配線パターン111とは、密着層であるチタン膜117を介して積層される。また、貫通電極114と配線パターン111とは、チタン膜117を介することなく積層される。 (もっと読む)


【課題】貫通孔内に所望の処理を施すことができる処理方法および処理装置を提供すること。
【解決手段】処理装置1は、内部に液体Lが供給されるとともに、供給された前記液体Lに基板2を浸積させる槽11を備える。処理装置1は、第一供給口111Aから第一排出口111Bに向かって液体Lを流すとともに、第二供給口112Aから第二排出口112Bに向かって液体Lを流すと、液体Lが、鉛直方向上方側から下方側に向かって前記基板2の一方の基板面および他方の基板面に沿って流れるように構成され、基板2の一方の面における液体Lの平均流速と、他方の面における液体Lの平均流速とを異ならせる調整手段を有する。 (もっと読む)


【課題】簡易かつ迅速で安価に貫通穴内表面のみにめっき処理を施すことができる貫通穴めっき方法及びこれを用いて製造された基板を提供する。
【解決手段】絶縁層6を貫通した貫通穴7を有する基板中間体4と、前記貫通穴7に対応した位置に開口部を有する2枚の導電性マスク5とを用い、前記開口部の位置を前記貫通穴7に合わせて前記基板中間体4の表裏両面の全域を前記各導電性マスク5で覆い、前記基板中間体4の表裏両面の少なくとも一部に、それぞれの前記導電性マスク5を密着させて被めっき処理体2を形成し、該被めっき処理体2をめっき液3に浸漬し、前記貫通穴7の内面を含んだ前記被めっき処理体2の表面全体に金属を付着させてめっき処理し、前記基板中間体4から前記導電性マスク5を除去する。 (もっと読む)


【課題】優れた耐屈曲性を有することができる両面FPCを提供すること。
【解決手段】第1面1a及びその反対側の第2面1bを有し、第1面1a及び第2面1bを通るように形成されているスルーホール2を有する絶縁基材1と、第1面1a及び第2面1a上に設けられる導体層10,20と、スルーホール2の内壁面2aに設けられる導体部30と、導体層10,20の厚さが5〜12μmであり、且つ、導体層10,20の厚さをd(μm)、スルーホール2の径をφ(μm)とした場合に、d及びφがd/φ=0.4〜2.5を満足する両面FPC100。 (もっと読む)


【課題】 添加剤の種類が少ない銅めっき浴を用いて、導電処理した基板上の非貫通穴へ銅を良好に充填する方法を提供する。
【解決手段】 導電処理した基板上にある非貫通穴へ銅を充填する方法であって、水溶性銅塩、硫酸、及びブライトナーとレベラーとの両方の作用を有する重合体からなるフィリング添加剤とを含有するむ酸性銅めっき浴で前記基板をめっき処理することを特徴とする銅充填方法。 (もっと読む)


【課題】基板両面におけるめっき液流速差を十分確保し、小径かつアスペクト比の高いスルーホール内においてもめっき液を十分に安定供給できる湿式処理法の提供。
【解決手段】治具を用いてスルーホールを有する基板を湿式処理する方法であって、治具3は、上下面が開放され側面が平板6で包囲された筒状平板であり、前記筒状平板内に複数の基板4を所定の間隔で配置、保持する基板保持部7,基板間の下端に配置された液流動発生部,所定の基板間の基板上部および筒状平板の外周側面に配置された隔壁5a、5bを有し、処理液2を貯液した処理槽1内に、基板4を保持した冶具3を設置し、偶数列または奇数列に配置された液流動発生部を駆動させてスルーホールに対して垂直方向に処理液を流通させ、基板4上部より噴出する処理液2を隔壁5a、5bにより隣接する基板間を避けて治具外周に流出させて湿式処理する湿式処理方法。 (もっと読む)


【課題】複雑な工程を用いることなく、歩留まりの低下を防止して、基板に形成されたスルーホールをメッキ金属で充填するスルーホールフィリング方法を提供する。
【解決手段】スルーホールフィリング方法が、第1の主面1aを陰極とし、対向する第1の対向電極を陽極として、低電流密度の電流を通電し、第2の主面1bを陰極とし、対向する第2の対向電極を陽極として、高電流密度の電流を通電し、給電用金属膜3上にメッキ金属を析出させ、スルーホール2の第2の主面1b側の開口を塞ぐ工程と、第2の主面1bを陽極とし、対向する第2の対向電極を陰極として、電流を通電し、第2の主面1b上のメッキ金属を溶出させ、第1の主面1aを陰極とし、対向する第1の対向電極を陽極として、電流を通電し、スルーホール2の開口内の第1の主面1aの側に形成された凹部をメッキ金属4で充填する工程とを有する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、被めっき物が湾曲し易い薄板の場合でも、垂直連続搬送めっき装置を使用してめっきする際に、噴流やエアレーションによるプリント配線基板の揺れを抑制し、ガイド痕の発生を低減することが可能な基板めっき用固定治具を提供するものである。
【解決手段】本発明は、プリント配線基板の周辺に取り付けられる額縁状のプリント配線基板めっき用固定治具であって、板状である上下の額辺と、丸棒状である左右各1対の額辺とを有し、この左右各1対の額辺は、前記上下の額辺の左右端部に固着され、一部が額縁の内側に折り曲げられた額縁状のプリント配線基板めっき用固定治具である。 (もっと読む)


【課題】 電解めっき法により被めっきパターンに厚みが均一なめっき膜を被着させることが可能な多数個取り配線基板を提供すること。
【解決手段】 配線基板領域102に形成された被めっきパターン103と、配線基板領域102の周囲の捨代領域104に形成され、被めっきパターン103に電気的に接続されるとともに、少なくとも一部が表面に露出する電解めっき用パターン105と、電解めっき用パターン105の露出部105aに離間して並設された検査用パターン109とを備える。 (もっと読む)


【課題】非貫通スル−ホ−ルを有するプリント配線板の無電解めっき方法において、従来、振動させたり、揺動させたりしてめっきをしていたが、貫通スルーホールや非貫通スル−ホ−ル中に発生した水素気泡を完全に取り除くことは困難で、そのためにスルーホール内にめっき液の供給が十分行われるとはいえず、その部分のスルーホール内に目的のめっきが形成されなかった。
【解決手段】 本発明は、めっき液に浸漬した前記プリント配線板に振動を与えながら無電解めっきする際に、合わせて流量に強弱をもたせたバブリングを前記プリント配線板の下方から加えることを特徴とするプリント配線板のめっき方法を提供することである。 (もっと読む)


【課題】ビア導通めっき作業時にバイポーラ現象の発生を防ぐことができ、信頼性の高い健全なビア導通めっきを施すことができるTABテープの製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁フィルムの両面に配線層を形成し、一方の配線層から他方の配線層に向けてビア穴を形成したフィルムテープ2の他方の配線層の表面にマスキングテープ6を施し、この状態でめっき槽3を通し、一方の配線層とビア穴内部とにビア導通めっきを施すTABテープの製造方法において、一方の配線層にめっき側給電ロール9を接触させて通電するとともに、マスキングテープ6を施す前の他方の配線層に非めっき側給電ロール10を接触させて通電しつつ、フィルムテープ2をめっき槽3に通してビア導通めっきを施す方法である。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、異種材質による接着層によって外層を積層しても、確実なビア接続を実現し、信頼性に優れた積層配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】 接着層と外層絶縁層とは異なる成分のものを用いて、
内層回路基板の導体配線回路パターンを有する面に、内層回路基板の導体配線回路パターンの一部又は全部を覆うように、接着層、外層絶縁層及び外層導体層を積層する工程、
内層回路基板のアライメントマークを基準として、少なくとも外層導体層、外層絶縁層及び接着層を穴あけ加工して複数のビアを形成する工程、
穴あけ加工で生じたバリの除去とビア内のクリーニング処理を物理的洗浄で同時に行う工程、
ビア内に導通化処理を行い、ビア内に導体層を形成して、内層回路基板の導体配線と外層導体層とをビアの導体層を介して電気的に接続させる工程、
外層導体層から導体配線回路パターンを形成する工程、
とを有することを特徴とするビルドアップ多層配線基板の製造法に関する。 (もっと読む)


【課題】フレキシブル多層配線基板の上下の導体配線層を接続するビアホールを穴埋めするビアフィリングを、リールトゥリールで連続処理を行う電解めっき装置によって行い、且つ、めっき層内に酸化物の層を混入させない。
【解決手段】長尺の被めっき基板を得る第1の工程を有し、前記被めっき基板を電解めっき液浴内に設置し、前記電解めっき液浴内で前記被めっき基板に対向させてめっき陽極を設置し陰極給電部分を前記めっき電流供給用導体に接して電気接続することで前記ビアホールを電解めっきする第2の工程と、次に、前記陰極給電部分の前記めっき電流供給用導体への電気接続を切り離し前記陰極給電部分に析出しためっきを除去する第3の工程を有し、前記第2の工程と前記第3の工程を繰り返すことで前記被めっき基板の前記ビアホールを電解めっき途中で空気中に露出させずに電解めっきにより充填する。 (もっと読む)


【課題】絶縁樹脂層と配線導体とが強固に密着し、ビアホールにおける配線導体同士の接続信頼性に優れる高密度配線で薄型の反りや変形の少ない配線基板およびその製造方法を提供することである。
【解決手段】下位絶縁樹脂層および下位配線導体と、下位絶縁樹脂層および下位配線導体上に積層され、下位配線導体に達するビアホール9を有する上位絶縁樹脂層と、ビアホール9内の下位配線導体上から上位絶縁樹脂層表面にかけて被着形成された金属めっき層から成る上位配線導体とを備え、前記金属めっき層が、ビアホール9内の下部を充填するように被着形成された第一の金属めっき層5Aと、該第一の金属めっき層5Aから上位絶縁樹脂層表面にかけて被着形成された第二の金属めっき層5Bとから成るように構成した配線基板およびその製造方法である。 (もっと読む)


【課題】本発明は、ブラインドビアホールに銅を充填するとともに、パターン密度の疎密にかかわらずめっき膜厚を均一に電解めっきを行うことを目的とする。
【解決手段】第1の配線パターン1が形成されたコア基板2の表層に絶縁樹脂層4を形成する工程と、絶縁樹脂層4表面にシード層3を形成する工程と、シード層3上に下層絶縁層5としてアルカリ剥離タイプの耐めっき性絶縁層を形成する工程と、上層絶縁層6として加熱剥離タイプである耐めっき性絶縁層を形成する工程と、第1の配線パターン1にまで至るブラインドビアホール7を形成する工程と、無電解銅めっき層8を形成する工程と、2種の耐めっき性絶縁層のうち上層絶縁層を剥離する工程と、電解銅めっきによりブラインドビアホール部の内部に穴埋めめっき層9を充填する第1の電解めっき工程と、電解銅めっきにより第2の配線パターンを形成する第2の電解めっき工程とを少なくとも備える。 (もっと読む)


【課題】ランドの小径化が可能になると共に、ランドと下層の配線層との接続抵抗を大きくすることなく、ランドに電子部品を実装した際の電子部品の位置ずれの発生を防止して、ランドと電子部品との所望の接合強度が得られるプリント配線板及び電子部品実装基板を提供する。
【解決手段】第1の配線層10と、第1の配線層上に設けられた絶縁層2と、絶縁層上に設けられた第2の配線層12と、絶縁層を貫通して第1の配線層と第2の配線層とを電気的に接続する導通部4と、を有し、導通部は、第2の配線層側の穴径R4bが、第1の配線層側の穴径R4aよりも小さい略円錐台形状を有する構成とする。 (もっと読む)


【課題】隣接する配線層間の絶縁を維持しつつ被配線体と配線層とを確実に接続することができ、狭ピッチ化による高密度実装を実現できる配線構造等を提供する。
【解決手段】半導体内蔵基板1は、コア基板11の両面に導電パターン13が形成され、また、コア基板11上に積層された樹脂層16内に半導体装置14が配置されたものである。樹脂層16には、導電パターン13及び半導体装置14のバンプ14pが樹脂層16から突出するように、ビアホール19a,19bが設けられている。また、ビアホール19a,19bの内部で、バンプ14p及び導電パターン13が、ビアホール19a,19bの底部に向かって断面積が大きくされたビアホール電極部23a,23bと接続されている。そして、ビアホール電極部23a,23bとビアホール19a,19bの内壁上部との間には空隙が画成されている。 (もっと読む)


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