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Fターム[5E343BB13]の内容

Fターム[5E343BB13]に分類される特許

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【課題】従来よりも微細なパターンを集積させた上、体積抵抗値を比較的低減させて微細金属構造体としての性能を向上させる微細金属構造体を提供する。
【解決手段】基材上に所定のパターンを有する金属膜が設けられた微細金属構造体であって、前記金属膜は、金属成分として平均一次粒子径1〜100nmの金属ナノ粒子を含むペーストから形成されるものであり、前記所定のパターンにおける金属膜の幅は10μm以下であり、前記金属膜の体積抵抗率が1.0×10−5Ω・cm以下である。 (もっと読む)


【課題】配線屈曲部のめっきレジストパターンの剥がれを抑制し高密度配線を安定して形成できる配線基板の製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁層上に第1及び第2の配線導体4が屈曲部を有する幅w1が15μm以下の間隙を挟んで形成される配線基板の製造方法であって、絶縁層上に下地金属層を被着させる工程と、下地金属層上に第1及び第2の配線導体4に対応する部位の下地金属層を露出させるとともに間隙に対応する部位の下地金属層を覆うめっきレジストパターンを有するめっきレジスト層22を被着させる工程と、めっきレジスト層22から露出する下地金属層上にめっき金属層23を被着させる工程と、めっきレジスト層22を除去後、めっき金属層から露出する下地金属層を除去する工程とを含み、めっきレジストパターンは間隙に対応する部位の下地金属層を覆う幅w2が屈曲部に向けて拡がる。 (もっと読む)


【課題】バルジやジャギーなどの発生が回避され好ましい微細パターンを形成しうる機能性液体パターン形成方法/システム、導電性パターン形成方法/システム、機能性液体パターン構造体製造方法、及び導電性パターン構造体製造方法を提供する。
【解決手段】基材が加熱され表面温度が45℃以上(好ましくは60℃以上)に維持され、めっき用触媒担持ポリマー、高沸点溶媒及び低沸点溶媒を含有するめっき用触媒担持ポリマー液を、吐出液滴の直径D、めっき用触媒担持ポリマー液のドットの間ピッチW、該液のドットの直径Dが、D<W<Dの関係を満たす吐出条件に基づき、インクジェット方式により基材上に吐出させ、めっき用触媒担持ポリマー液のパターンが形成される。また、該液を硬化させた後にめっき触媒(又はめっき触媒前駆体)が付与され、めっき処理が施されることでめっき膜からなる導電性パターンが形成される。 (もっと読む)


【課題】集電効率が維持されつつ導体層の腐食が防止された配線回路基板およびそれを用いた燃料電池ならびに配線回路基板の製造方法を提供する。
【解決手段】FPC基板1は、例えば連続孔を有する多孔質性のePTFEからなるベース絶縁層2を備える。ベース絶縁層2の一面に、接着剤パターン7を介して、例えば銅からなる導体パターン3が形成される。導体パターン3の表面を被覆するように、被覆層6が形成される。被覆層6は、ヤング率が105Gpa以下でありかつ標準電極電位がー1.5V以上である材料からなる。 (もっと読む)


【課題】銅箔に粗化表面を用いることは誘電体基板との接着を助長するには有効であるが、表面粗化の程度は、高周波用途用銅箔の電気性能要求基準によって制限され、電気性能要求基準を満足させるために表面粗度を下げると、銅箔と誘電体基板との接着力(剥離強度)が弱くなる。
【解決手段】誘電体基板に積層するための銅箔であって、銅箔の表面に付着された層を含み、付着層が、クロム及び亜鉛のイオン又は酸化物から形成され、少なくとも0.5%のシランを含有する水溶液を用いて処理される。 (もっと読む)


【課題】樹脂基材上に支持された金属微細パターンの表面をメッキ処理の対象とし、そのようなメッキ処理対象面に無電解ニッケル−パラジウム−金メッキを行う際に、下地である樹脂表面に金属の異常析出が起きるのを抑えることができるメッキ処理品の製造方法によって得られる、金メッキ金属微細パターン付き基材を提供する。
【解決手段】樹脂からなる支持表面を有する基材の当該支持表面上に、金属微細パターンと、当該金属微細パターンを設けた領域を被覆するソルダーレジスト層が設けられ、前記ソルダーレジスト層は、前記金属微細パターンの少なくとも一部の表面を露出させ、且つ、前記支持表面が露出していない開口部を有し、前記開口部において露出した部分が、ニッケル−パラジウム−金メッキ層及びニッケル−金メッキ層よりなる群から選ばれる複合金メッキ層で被覆されていることを特徴とする、金メッキ金属微細パターン付き基材。 (もっと読む)


【課題】セミアディティブ工法で形成する導体幅の微細化が限界に近づいており、微細なパターンを要するドライフィルムレジストのアスペクト比が2.5以上でかつ、導体配線ピッチ20μm以下になると、現像工程にてドライフィルムレジストが倒れたり、銅との密着不良による剥がれが発生し、製造できないという問題がある。
【解決手段】ドライフィルムレジストの現像工程にて、水洗水で濡れたままの状態で、該レジストパターンの未架橋部を、紫外線や電子線、クロムにて架橋させることにより、アスペクト比が2.5以上でかつ、導体配線ピッチ20μm以下の配線層を有するビルドアッププリント基板を製造する。 (もっと読む)


【課題】半導体素子等の実装持における半導体素子等との接続信頼性の高い配線基板を提供すること。
【解決手段】本発明の配線基板は、金属粒子と前記金属粒子が分散する分散媒とを含む導体パターン形成用インクを液滴吐出法により吐出して形成される導体パターンを備えた配線基板であって、セラミックス基板と、前記セラミックス基板に埋設され、露出面が湾曲凹面となっている導体パターンとを有することを特徴とする。湾曲凹面の曲率半径は、0.025cm以上3cm以下であることが好ましい。また、湾曲凹面の平均深さは、1μm以上30μm以下であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】高解像度の印刷パターンが得られ、かつ良好な導電性を付与できる導電ペーストを提供することを目的とする。
【解決手段】表面に金属膜12を設けた球状のガラスフリット11からなる第1の導電性フィラー10と、球状の金属からなる第2の導電性フィラー23と、有機系ビヒクルとを主成分とする混合物から構成され、第1の導電性フィラー10と第2の導電性フィラー23の総含有量は、導電ペースト100重量%に対して85重量%以上とし、第2の導電性フィラー23である球状の金属は、一次粒子の平均粒径が0.003mm以下の球状金属粉体とした構成である。 (もっと読む)


【課題】簡素な工程で、大電流配線及び信号配線を含むプリント配線基板を製造する。
【解決手段】プリント配線基板の製造方法は、絶縁基材11の少なくとも一方の面を被覆する導体層の一部をエッチングして導体層除去パターンを形成する工程と、絶縁基材11の導体層除去パターン内の部分を除去して溝パターン33を形成する工程と、溝パターン33に適合した形状の導体パターンを溝パターン33内に挿入して大電流配線21を形成する工程と、大電流配線21と溝パターン33との間を接着剤22で固定する工程と、導体層の残余の部分をパターニングして、信号配線13に形成する工程とを有する。 (もっと読む)


【課題】細線回路の製造に適した回路構造の製造方法を提供する。
【解決手段】回路構造の製造方法は、複合誘電層と、回路板130と、複合誘電層と回路板の間に位置する絶縁層120を含み、複合誘電層は、非めっき性誘電層112と非めっき性誘電層112と絶縁層120の間に位置するめっき性誘電層114とを含み、非めっき性誘電層112の材質は、非化学めっき性の材料を含み、めっき性誘電層114の材質は、化学めっき性材料を含む。続いて、複合誘電層と、絶縁層120と回路板130をプレスフィットする。その後、複合誘電層と絶縁層120を貫通する通孔を形成するとともに、通孔中に回路板130の回路層に連接する導電ビア140を形成する。続いて、複合誘電層上に非めっき性誘電層112を貫通する溝パターン116を形成する。その後、化学めっき工程を行い、溝パターン116内に導電パターン150を形成する。 (もっと読む)


本発明は、ロールプリンティング工程に適切に適用され、良好な導電性パターンの形成を可能にする導電性金属インク組成物およびこれを利用した導電性パターンの形成方法に関する。前記導電性金属インク組成物は、導電性金属粉末;25℃で蒸気圧が3torr以下の第1非水溶媒および25℃で蒸気圧が3torrを超過する第2非水溶媒を含む非水溶媒;および高分子コーティング性向上剤を含み、ロールプリンティング工程によって基板に印刷されて導電性パターンを形成するために用いられる。 (もっと読む)


【解決手段】感光性樹脂層を配置して選択的に導電性金属層を析出させて形成されたプリント配線基板であり、下記条件のいずれか一つの条件を満足する。すべての配線においてピッチ幅が(1)50μm以下;(2)50μm超100μm以下;(3)50μm以下と50μm超100μm以下の配線が混在し、ピッチ幅50μm超100μm以下の配線の幅a、ダミー配線の幅a'、ダミー配線無視時の隣接配線との距離b、配線と隣接するダミー配線との距離b'、ダミー配線無視時のピッチ幅Pとしたとき(A)aμm≧Pμm×0.5、bμm≦Pμm×0.5、25μm<aμm≦95μm;(B)ダミー配線を有し、a+a'μm≧Pμm×0.5、b'μm≦P×0.25、5μm≦aμm≦85μm、5μm≦a'μm≦85μmのいずれかを満足する。
【効果】セミアディティブ法を採用しているにも拘わらず、導電性金属析出厚の均質な配線パターンが得られる。 (もっと読む)


【課題】 半導体素子の電極端子と半田を介して接続するための素子接続パッドの幅を十分に確保し、半導体素子の電極端子と素子接続パッドとを半田を介して強固に接続することが可能な配線基板を提供することにある。
【解決手段】 絶縁基体1上に半導体素子接続用の帯状配線導体2が複数並んで形成されているとともに、帯状配線導体2の一部に半導体素子Sの電極端子がフリップチップ接続される素子接続パッド3が形成されており、かつ絶縁基体1上および帯状配線導体2上に、素子接続パッド3を露出させる開口部4を有するソルダーレジスト層5が被着されている配線基板10であって、帯状配線導体2は、ソルダーレジスト層7が被着する表面が粗化処理されているとともに素子接続パッド3の露出面が前記粗化処理された表面よりも外側に膨出した平滑面である。 (もっと読む)


【課題】高精細および高密度な配線基板を、品質を安定させ生産する。
【解決手段】描画データMに基づいて、液状体吐出手段14からパターン形成材料を含む液状体を基板Bに吐出して、前記基板Bに配線パターンCを描画する配線基板の製造方法であって、前記描画データMを、第1描画データMAと第2描画データMBとに分類する描画データ処理工程S2と、前記第1描画データMAに基づいて、前記基板Bに前記液状体で第1配線パターンCAを描画する第1描画工程S3と、描画された前記第1配線パターンCAの描画欠陥を検出する検出工程S4と、検出された前記第1配線パターンCAの描画欠陥に前記液状体を再吐出して補修するとともに、前記第2描画データMBに基づいて、前記基板Bに前記液状体で第2配線パターンCBを描画する第2描画工程S5と、を有する。 (もっと読む)


【課題】高精細および高密度な配線基板を、品質を安定させ生産する。
【解決手段】パターン形成材料を含んだ液状体を、描画データMに基づいて、液状体吐出手段14から基板Bに吐出して、前記基板Bに第1配線パターン群と第2配線パターン群とからなる配線パターンCを描画する描画工程S2と、撮像手段24により、描画された前記第1配線パターン群を撮像する撮像工程S3と、撮像された前記第1配線パターン群の画像Gと前記描画データMとを比較して、前記第1配線パターン群に前記液状体の吐出抜けがあるか否かを判定する吐出状態検査工程S4と、を備え、前記吐出状態検査工程S4において、前記第1配線パターン群に前記液状体の吐出抜けがあると判定された場合は、当該吐出抜け箇所に前記液状体を再吐出することを特徴とする配線基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】肉眼では認識できないほどの線幅が狭い配線回路を密着性よく形成してなる、カールの発生が少なく、かつ意匠性の高い配線回路部材を提供する。
【解決手段】耐熱性支持基材の少なくとも一方の面に、平均粒子径1〜100nmの導電性金属系粒子を含む分散液をインクジェット記録方式で印刷し、焼成することにより形成された幅200μm以下の配線からなる配線回路を有する配線回路部材である。 (もっと読む)


【課題】微細な配線を有する銅配線基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の銅配線基板は、絶縁基板と、該絶縁基板に形成された複数の配線溝と、該配線溝に充填された配線と、を備えた配線基板であって、前記配線のうち任意の2つを選択し、前記配線の電流方向に対して直角に断面を取る場合、一方の配線断面の配線幅は他方の配線断面の配線幅よりも狭く、かつ、前記一方の配線断面の配線厚さは前記他方の配線断面の配線厚さよりも厚い配線を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】自動車用アンテナシートなどに用いられる、意匠性が高く、環境への影響を低減し得る上、支持基材の選択自由度の高い配線回路部材を提供する。
【解決手段】離型性耐熱基板上に、平均粒子径1〜100nmの導電性金属系粒子を含む分散液をインクジェット記録方式で印刷し、焼成することにより形成された幅200μm以下の配線からなる配線回路を有する転写用配線回路板を用い、支持基材の少なくとも一方の面に、該転写用配線回路板における配線回路を、粘着剤層を介して転写してなる配線回路部材である。 (もっと読む)


【課題】タクトタイム(工程数)を低減し、かつ描画精度が高いパターン形成装置を必要とせずに、所望する形状の描画パターン、特に厚膜細線パターンが精度よく形成する。
【解決手段】第1描画ステップでは、基板1に着弾された液滴の直径よりも大きい第1描画ピッチで液滴を吐出し、基板1表面に複数の液滴をドット状に配置する。乾燥ステップでは、第1描画ステップにて配置された液滴を乾燥し、基板上にドット状半固形物6を形成する。第2描画ステップでは、第1描画ステップで基板1に着弾した液滴の直径よりも小さい第2描画ピッチで液滴13を吐出し、液滴13を、ドット状半固形物6間の基板1表面に接触し、かつドット状半固形物6を覆うように塗布液滴14を配置し、直線パターン5を描画する。 (もっと読む)


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