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Fターム[5E343BB43]の内容

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Ni (1,275)
Co (226)

Fターム[5E343BB43]に分類される特許

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【課題】電気的信頼性を改善した配線基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の一形態にかかる配線基板3の製造方法は、一部が互いに接続した複数の第1無機絶縁粒子9aと、複数の第1無機絶縁粒子9aの間に形成された第1空隙V1とを有する多孔質体7を準備する工程と、インク粒子11およびインク溶剤17を含むインク18を所定のパターンで多孔質体7に塗布し、インク18からインク溶剤17を除去してインク粒子11を多孔質体7に残存させることによって、インク粒子11のパターンを用いて回路パターン6の少なくとも一部を形成する工程とを備える。 (もっと読む)


【課題】光感度に優れるとともに、光硬化後に得られるレジスト形状を良好に維持することが可能な感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】(A)バインダーポリマー、(B)分子内にエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物、(C)光重合開始剤、及び(D)重合禁止剤を含有し、(D)重合禁止剤の含有量が組成物中の固形分全量を基準として20〜100質量ppmである、感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】絶縁樹脂層の初期密着性、および、絶縁樹脂層の密着性の経時安定性に優れたプリント配線基板の製造方法を提供する。
【解決手段】所定の官能基を有するチオール化合物を用いて、金属配線付き絶縁基板10の絶縁基板12表面と金属配線14表面とを覆う第1の被覆工程と、溶剤を用いて、金属配線付き絶縁基板10を洗浄して、絶縁基板10表面上のチオール化合物16を除去する第1の洗浄工程と、所定の官能基を有するポリマー20を用いて、チオール化合物16で覆われた金属配線14表面と絶縁基板10表面とを覆う第2の被覆工程と、溶剤を用いて、金属配線付き絶縁基板10を洗浄して、絶縁基板12表面上のポリマー20を除去する第2の洗浄工程と、金属配線付き絶縁基板10の金属配線14側の表面上に、絶縁樹脂層24を形成する絶縁樹脂層形成工程とを有するプリント配線基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】乾燥粉末状の金属ナノ粒子を利用し、基板との密着性に優れた導電性金属膜からなる回路パターンを形成する方法を提供する。
【解決手段】基板上に所定の回路パターンの形状に対応する塗布パターンでプライマーを印刷し、基板上に乾燥粉末状の金属ナノ粒子を散布し、前記塗布パターンのプライマー塗布膜を介して乾燥粉末状の金属ナノ粒子を選択的に定着させ、定着されていない乾燥粉末状の金属ナノ粒子を除去した後、加熱処理を施すことで、前記プライマー塗布膜を介して定着されている金属ナノ粒子の焼成を行って、該プライマーに含有される、密着性付与成分に因る優れた密着性を示す、導電性金属膜からなる回路パターンを形成する。 (もっと読む)


【課題】Fe−Ni系の金属材料からなる導体層と樹脂層との密着性を向上させる。
【解決手段】基板100は、表面層がFe−Ni系の金属材料からなる導体層と、導体層の表面のうち少なくとも一部に形成された表面被覆膜12と、表面被覆膜12と接するように設けられている樹脂層20と、を備えている。表面被覆膜12は、導体層の表面のうち少なくとも一部に付着したスズ膜と、スズ膜を表面装飾する有機シラン化合物からなる。これにより、Fe−Ni系の金属材料からなる導体層と樹脂層との密着性を向上させる。 (もっと読む)


【課題】本発明は、金属ナノ粒子を高い比率で含有しながらも低粘度である金属ナノ粒子ペーストを提供することを課題とする。
【解決手段】上記課題は、金属ナノ粒子と、親水性部を有するリン酸系分散剤と、極性溶媒とを含有し、前記金属ナノ粒子の含有量が70重量%以上100重量%未満である金属ナノ粒子ペーストにより解決することができる。 (もっと読む)


【課題】 半導体素子や回路基板など電子回路部に用いられる部材をエッチング加工にて製造するためのエッチング加工処理において、非リターン液の発生をできるだけ抑え、且つ、安定的なエッチング加工を行うことができるエッチング処理装置を提供する。
【解決手段】 処理する際の前記基材の搬送方向、前記エッチング処理を処理槽内において行うエッチング処理部の後、前記洗浄処理を行なう洗浄処理部の前、前記処理槽の外において、エアを上側から基材およびコンベアに吹きつけて、エアの力により基材およびコンベアに残留しているエッチング液を、下側に落下させるエッチング液落下処理部と、落下させたエッチング液を受ける落下液受け部と、該受け部に落下させたエッチング液をリターン液として回収利用する回収経路とを有し、前記落下液受け部で受けたエッチング液をリターン液として回収利用するものである。 (もっと読む)


【課題】簡便な方法で、抵抗値が低く、電流の均一性に優れ、かつ長期保存での導電性の劣化がなく、安定性の高い透明導電性基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板2上に、金属を含有する細線電極3と導電性ポリマー含有層4とが形成され、該細線電極3が金属粒子及び溶剤を含有する導電性インクにより形成され、該導電性インクを基板2上に付与した後、該導電性インクの焼成温度T(℃)より低く、かつ該導電性インク成分の揮発温度S(℃)よりも高い温度T(℃)でS(分)加熱された後に、焼成温度T(℃)でS(分)加熱され、かつ該焼成温度T(℃)と該溶剤の揮発温度よりも高い温度T(℃)との差が、200℃>T−T>50℃の関係を満たす透明導電性基板1を形成する。 (もっと読む)


【課題】従来の高周波回路基板に比べて、さらに伝送遅延および伝送損失が充分に小さいフッ素樹脂基板の製造方法を提供する。
【解決手段】表面が粗面化処理およびプライマー処理されていない配線用の金属導体とフッ素樹脂を積層して積層体を作製する積層体作製工程と、積層体に100ppm以下の酸素濃度および前記フッ素樹脂の融点以上で前記フッ素樹脂の融点+30℃未満の温度の雰囲気下、電離性放射線を50〜500kGyの照射量で照射する電離性放射線照射工程と有している高周波回路基板の製造方法。金属導体およびフッ素樹脂を交互に積層して多層化した状態で電離性放射線を照射する高周波回路基板の製造方法。金属導体の表面粗さRzが、2.0μm以下である。フッ素樹脂が、PTFE、PFA、FEP、ETFEの1種または2種以上である。 (もっと読む)


【課題】金属粒子を含む導電層を有すものであって高温放置後の剥離強度の低下が小さいプリント配線板用基板、およびそのプリント配線板用基板の製造方法を提供する。
【解決手段】このプリント配線板用基板は、絶縁性基材10と、この絶縁性基材10に金属粒子22Aを積層して形成された第1導電層と、この第1導電層に積層された第2導電層とを含む。第1導電層の金属粒子22Aは、この金属粒子22Aの酸化を抑制する酸化抑制剤30により被覆されている。 (もっと読む)


【課題】簡素な作業でありながら、品質の信頼性が向上したアンテナ、および該アンテナを有する通信機器を得る。
【解決手段】アンテナ10は、被印刷体1の表面に所定のアンテナパターンに印刷された下地印刷層2と、下地印刷層2の表面に施された無電解メッキ層3とを有している。下地印刷層2は、インキ2aと金属粉体2bとから形成され、インキ2aが略均一厚さに印刷されたインキ層内に金属粉体2bのうち一部の粒子が取り込まれ、粒径の大きな粒子の一部がインキ層から突出すると共に、突出した部分を覆うインキ2aの一部が除去されている。 (もっと読む)


【課題】ITOフィルムとの密着性に優れ、低温プロセスにより形成された導電パターンにおいて、良好な導電性を得ることが可能な導電性ペーストを提供する。
【解決手段】導電性ペーストにおいて、ウレタン樹脂と、導電粉末と、有機溶剤と、を含有する。 (もっと読む)


【課題】基材上にパターン状の金属微粒子焼結膜を有する導電性基板を与えることができ、かつ分散性が高く、低粘度であるためインクジェット適性が向上すると共に、焼成温度が低い上、厚膜でもクラックの発生が抑制され、基材界面まで焼結可能な金属微粒子分散体を提供する。
【解決手段】少なくとも金属微粒子、分散剤、溶媒を含む分散体であって、前記金属微粒子の平均一次粒径が30nm超100nm以下であり、かつ前記分散剤が分子量300〜500の脂肪族アルコールポリエーテル化合物及び/又は脂肪族アミンポリエーテル化合物である金属微粒子分散体である。 (もっと読む)


【課題】インクジェット方式を用いて、低コストで、任意の位置に、任意の膜厚で、機能膜の端部の境界位置を正確に、機能性膜形成インクを導電性パターン上に付与することが可能な導電性パターン部材形成方法を提供すること。
【解決手段】基材上に導電性パターンが形成されている導電性パターン部材上の少なくとも一部に、表面処理を行った後、機能性インクをインクジェット法を用いて導電性パターン上の少なくとも一部に付与することで機能性膜を形成することを特徴とする導電性パターン部材形成方法。 (もっと読む)


【課題】表面硬度が高く耐擦傷性に優れ、パターニング性が良好であり、高い透明性及び導電性を有し、ヘイズ率及び表面抵抗率が低い導電性パターニング材料、及び該導電性パターニング材料を有するタッチパネルの提供。
【解決手段】平均短軸長さ50nm以下の金属ナノワイヤー及びシリカ微粒子を含有する導電層を有する導電性パターニング材料であって、前記シリカ微粒子の平均粒径Bnmと、前記金属ナノワイヤーの平均短軸長さAnmとの比(B/A)が、0.9以上5以下であり、前記導電層における前記金属ナノワイヤーの含有量が0.01g/m〜0.07g/mであり、表面抵抗率が300Ω/□以下であり、ヘイズ率が2%以下である導電性パターニング材料である。 (もっと読む)


【課題】平坦性によるインピーダンス整合及び設計自由度が高く、高密度実装が可能な多層配線基板及びその製造方法並びに半導体装置を提供する。
【解決手段】多層配線基板10は、基板11の上部に絶縁層12を備え、これと対称に基板11の下部に絶縁層13を備える。これらの絶縁層は、ポリイミド樹脂により形成されており、基板11に対してキャスティングによりビルドアップして形成される。ビルドアップされた絶縁層12,13のいずれか又は両方が、基板の流れ方向であるMD方向と、基板の垂直方向であるTD方向とにおいて強度を同じに設定している。 (もっと読む)


【課題】基板等の回路にかかる力を緩和する能力を有する導電性微粒子、及び、基板間の距離を一定に維持する方法を提供する。
【解決手段】樹脂からなる基材微粒子の表面が1層以上の金属層に覆われてなる導電性微粒子であって、前記金属層の全ての層の熱膨張率がそれぞれ1×10−5〜3×10−5(1/K)であり、かつ、各金属層と前記基材微粒子との熱膨張率の比(基材微粒子の熱膨張率/金属層の熱膨張率)がそれぞれ0.1〜10である導電性微粒子。 (もっと読む)


【課題】非パターン形成部の絶縁性に優れ、微細かつ均一な幅又は厚みの導体パターンを形成できる方法を提供する。
【解決手段】基板上に導体パターンが形成されたパターン基板の製造プロセスを、(1)基板表面のうち、導体パターンの位置に対応するパターン部の上に導電性ペースト(A)を印刷する第1の印刷工程と、(2)形成された導電性ペースト(A)の凸部間に、導電性ペースト(A)よりも基板に対する密着性の低い焼結体を形成可能な導電性ペースト(B)を印刷する第2の印刷工程と、(3)第2の印刷工程を経た基板を焼結処理する焼結工程と、(4)導電性ペースト(A)及び導電性ペースト(B)の焼結体表面を平面化する平面化工程と、(5)基板表面のうち、パターン部を除く部分に対応する非パターン部の上に形成された導電性ペースト(B)の焼結体をエッチングするエッチング工程とで構成する。 (もっと読む)


【課題】導電性インクを基材上にパターニングして、導電性の良好な導電パターン形成方法を提供する。
【解決手段】基板上への導電パターン形成方法であって、平均粒子径が1〜150nmの金属微粒子がアミド基を有する有機溶媒10〜80体積%、多価アルコールからなる有機溶媒5〜60体積%、アミン系有機溶媒0.1〜30体積%、及び常圧における沸点が60〜120℃である有機溶媒1〜60体積%を含む混合有機溶媒に分散されている導電性インクからなる液滴を、加熱された基板の表面に吐出してパターンを形成する工程(工程1)と、前記工程1で液滴によるパターンが形成された基板を、非酸化性ガス雰囲気中で加熱して金属微粒子(P)を焼結する工程(工程2)を含む、導電パターン形成方法。 (もっと読む)


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