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Fターム[5E343GG16]の内容

プリント配線の製造 (50,760) | 目的、効果 (6,348) | 耐熱性の改良 (85)

Fターム[5E343GG16]に分類される特許

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【課題】転写法により被転写物に金属配線を形成するための転写用基板であって、被転写物側の加熱温度を低くすることのできるもの、及び、金属配線の形成方法を提供する
【解決手段】本発明は、基板と、前記基板上に形成された少なくとも一つの金属配線素材と、前記金属配線素材の表面上に形成された少なくとも1層の被覆層と、前記基板と前記金属配線素材との間に形成された下地金属膜と、からなり、前記金属配線素材を被転写物に転写させるための転写用基板であって、前記金属配線素材は、純度99.9重量%以上、平均粒径0.01μm〜1.0μmである金粉等の金属粉末を焼結してなる成形体であり、前記被覆層は、金等の所定の金属又は合金であって、前記金属配線素材と相違する組成の金属又は合金からなり、かつ、その合計厚さは1μm以下であり、前記下地金属膜は、金等の所定の金属又合金からなる転写用基板である。 (もっと読む)


【課題】低粘度で吐出性に優れ、かつ耐熱性、エッチング耐性、めっき耐性など各種耐性に優れる剥離レジスト形成用硬化性組成物、及びその硬化物並びにそれを用いた電子回路基板を提供する。
【解決手段】式(I):


(Rは、水素原子又は1価の有機基。有機基は、エーテル基、ハロゲン原子を有していてもよい。)で表わされる化合物を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【解決手段】直径0.8mm、高さ0.4mmのドット形状の印刷パターンを形成後、80〜200℃で熱硬化させ、印刷された形状と硬化後の形状を比較した場合、ドット形状の高さの変化量が5%以内であり、溶剤を実質的に含有せず、付加型シリコーン樹脂形成用前駆体と硬化触媒の組み合わせと、導電性粒子とを含み、更に、カーボンブラック、亜鉛華、錫酸化物、錫−アンチモン系酸化物、SiCから選ばれるチクソ化剤を含有する導電性回路描画用インク組成物を用い、印刷法によって回路を形成する導電性回路形成方法。
【効果】本発明によれば、チクソ性を持ったインク組成物によってスクリーン印刷をはじめとする印刷方法によって回路を描画することができ、描画された回路は、描画後に硬化工程を行った際にも形状がよく保持され、回路形状の高度な制御が可能である。 (もっと読む)


【課題】十分な機械強度を有するとともに高い耐熱性を有する、セラミック体と金属体との接合体を提供する。
【解決手段】窒化珪素質セラミック体2と、Niを主成分とする金属体4と、前記窒化珪素質セラミック体と前記金属体との間に配置されて前記窒化珪素質セラミック体と前記金属体とを接合している接合部6とを備えるセラミック体と金属体との接合体であって、前記接合部は、前記窒化珪素質セラミック体に接している、主成分としてCrを含むとともにNを含む第1接合層12と、該第1接合層と前記金属体との間に配置されて前記第1接合層と接している、Cr、N、およびTiを含む第2接合層14とを有し、該第2接合層に比べて前記第1接合層の方が、Crの含有割合が高いことを特徴とするセラミック体と金属体との接合体。 (もっと読む)


【課題】放熱性を向上しつつコストを低減することのできる電子装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】電子装置10は、合成樹脂からなる絶縁基材20に配線21が形成され、該配線21として絶縁基材20の一面20aに形成されたランド21aを有する基板11と、ランド21aと電気的に接続された電子部品12と、基板11及び電子部品12を収容する筐体13と、を備える。そして、筐体13として、金属材料を用いて形成されたケース30を少なくとも有し、基板11を構成する絶縁基材20は、ケース30をインサート部品として成形されている。 (もっと読む)


【課題】可撓性と難燃性に優れるエポキシ樹脂組成物、及びこれを用いたエポキシ樹脂ワニス、ボンディングシート、カバーレイフィルムを提供する。
【解決手段】(a)エポキシ樹脂、(b)硬化剤、及び(c)フェノール性水酸基含有芳香族ポリアミド−ポリブタジエン−アクリロニトリル共重合体を含有するエポキシ樹脂組成物において、該(a)成分がトリスヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂であり、該(b)成分が、10(2,5−ジヒドロキシフェニル)−10H−9オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキシドのみからなり、前記(a)成分中のエポキシ基1.0モルに対して前記(b)成分中のフェノール性水酸基が0.5モル以上であり、前記(c)成分の配合割合は前記(a)成分と前記(b)成分との合計量100質量部に対して5〜300質量部であることを特徴とするエポキシ樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】導電粉、レゾール型フェノール樹脂およびイソシアネート化合物を含み、安定した物性の硬化物を得ることができる導電性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】(A)レゾール型フェノール樹脂、(B)ピラゾール化合物、(C)イソシアネート化合物、(D)導電粉、および、(E)水酸基を含有するシロキサン化合物を含むことを特徴とする導電性樹脂組成物である。また、(A)レゾール型フェノール樹脂、(F)ピラゾールでブロックされたイソシアネート化合物、(D)導電粉、および、(E)水酸基を含有するシロキサン化合物を含むことを特徴とする導電性樹脂組成物である。(E)水酸基を含有するシロキサン化合物が、水酸基を含有するシリコン変性樹脂、および、水酸基を含有するポリエーテル変性ポリシロキサンのうち1種以上であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】銅粒子の酸化、燃焼を防止し、銅配線の導電性を向上させるとともに経時劣化を抑えることができる銅配線の形成方法、配線基板の製造方法および配線基盤を提供することを目的とする。
【解決手段】粒子径が100nm以下の炭素被膜銅粒子14を、基板10上に配線パターンを形成するパターン形成工程と、配線パターンを酸素プラズマ処理する酸素プラズマ処理工程と、配線パターンを還元プラズマ処理する還元プラズマ処理工程と、を有することを特徴とする銅配線の形成方法、配線基板の製造方法および配線基板である。 (もっと読む)


【課題】セラミックス基板とアルミニウム又はアルミニウム合金からなるアルミニウム層との界面強度が高く信頼性に優れたパワーモジュール用基板を効率よく生産することができるパワーモジュール用基板の製造方法、及び、パワーモジュール用基板を提供する。
【解決手段】セラミックス基板11の一方の面のうち少なくともアルミニウム層12が形成される領域に、Mg,Ca及びNiから選択される1種又は2種以上の添加元素を固着し、前記添加元素を含有する固着層24を形成する固着工程と、固着層24が形成されたセラミックス基板11を鋳型50内に配置し、この鋳型50内に溶融アルミニウムMを充填し、セラミックス基板11と溶融アルミニウムMとを接触させる溶融アルミニウム充填工程と、セラミックス基板11と接触した状態で溶融アルミニウムMを凝固させる凝固工程と、を備えていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ガラス転移温度が高く、優れた屈曲性、電気絶縁性(耐マイグレーション性)、接着性、半田耐熱性、及び難燃性を有し、特にフレキシブル印刷回路基板に好適に使用可能な硬化物を与えることができるハロゲンを含有しない接着剤組成物、並びにそれを用いた接着シート及びカバーレイフィルムを提供する。
【解決手段】(A)ハロゲンを含まない三官能エポキシ樹脂、(B)重量平均分子量が10,000〜100,000であり、ガラス転移温度が70℃以上のフェノキシ樹脂、(C)硬化剤、(D)ホスファゼン化合物を含有してなるハロゲンを含まない難燃性接着剤組成物、並びにそれを用いた接着シート及びカバーレイフィルム。 (もっと読む)


【課題】接着物が高温環境下に長時間置かれても接着性が低下することの無い接着剤組成物を提供する。また、FPC用に使用した場合、ポリイミドフィルムに対して優れた接着強さを発現し、耐熱老化性及びはんだ耐熱性に優れた接着剤組成物を提供する。
【解決手段】ポリウレタン樹脂(A)、エポキシ樹脂(B)、トリアジン環を有するフェノール樹脂(C)及びフェノキシ樹脂(D)を含有する接着剤組成物であって、前記ポリウレタン樹脂(A)の融点が30〜150℃であることを特徴とする接着剤組成物。前記エポキシ樹脂(B)が、一分子中に2個のエポキシ基を有する樹脂(b1)と、多官能エポキシ樹脂(b2)の混合物であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】 無電解ニッケルめっき層の形成後に高温で加熱することなく、さらに無電解ニッケルめっき層の形成を複数回の工程で行うことなく、長期の熱負荷時の銅の拡散による密着強度の低下を抑制し、長期の熱負荷に対する耐熱性に優れ、且つ、高温短時間の熱負荷に対する耐熱性、ハンダ耐熱性にも優れるフレキシブルプリント基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 1回のめっきでポリイミドフィルムの両面に各厚みが0.1μmを超えて0.3μm未満の無電解ニッケルめっき層を形成した後、加熱した両面ニッケルめっき積層ポリイミドフィルムを用いて、配線加工により、ポリイミドフィルムの一方の面(A)は配線を有し、他方の面(B)は一部又は全面にポリイミドフィルムが露出する部分を有するフレキシブルプリント基板を製造する。または、イミド化時に最高加熱温度530℃以上で熱処理したポリイミドフィルム、または490℃以上で熱処理したポリイミドフィルムの両面に、1回のめっきで、無電解ニッケルめっき層を形成した後、100〜180℃の範囲で2.5時間以上加熱した両面ニッケルめっき積層ポリイミドフィルムを用いて、配線加工により、フレキシブルプリント基板を製造する。 (もっと読む)


【課題】本発明の第一の目的は、水溶液による現像が可能で、優れた現像性を示し、かつ、高温高湿環境下に曝されてもその表面上に形成されるめっき膜(金属膜)と高密着性を示す被めっき層を形成し得る被めっき層形成用組成物を提供することにある。
【解決手段】式(A)で表されるユニット、および、式(B)で表されるユニットを少なくとも有するポリマー、を含有する被めっき層形成用組成物。 (もっと読む)


【課題】優れた半田耐熱性を示しつつ、プレスキュア時における流れ出しをも抑制できる接着剤フィルムを実現できる接着剤組成物、接着剤フィルム及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】(A)アクリル樹脂と、(B)エポキシ樹脂と、(C)第1硬化剤と、(D)第2硬化剤とを含み、第2硬化剤が、第1硬化剤よりも低い反応開始温度を有し、エポキシ樹脂(B)は、アクリル樹脂(A)100質量部に対して12.5〜50質量部の割合で配合され、第1硬化剤(C)は、アクリル樹脂100質量部に対して0.05〜0.5質量部の割合で配合され、第2硬化剤(D)は、エポキシ樹脂(B)の反応基数の20〜70%の反応基数を有するように配合されている接着剤組成物。 (もっと読む)


【課題】高周波領域での電気特性、特に低誘電率、低誘電正接を有する高周波回路基材用フィルム及びハンダ耐熱性、導体との密接接合性に優れた高周波回路基材を提供する。
【解決手段】(A):ポリフェニレンエーテルと、(B):(A)以外の熱可塑性樹脂とを、含有する熱可塑性樹脂組成物からなり、前記(A)ポリフェニレンエーテルの含有量が、前記(A)と前記(B)との合計量を100質量部としたとき、80質量部以上であり、76.5GHzにおける比誘電率が2.7以下で、誘電正接が0.003以下である高周波回路基材用フィルム、及び当該高周波回路基材用フィルムに厚み5〜50μmの銅層を積層した高周波回路基材を提供する。 (もっと読む)


【課題】透明フィルムと透明導電膜との密着性、柔軟性、及び耐熱性に優れた透明フレキシブルプリント配線板を提供する。
【解決手段】焼成工程に伴う寸法変化率が±0.2%以下の透明ポリイミドフィルム1を用意する。インクジェット法により、透明ポリイミドフィルム1上に、ITO微粒子及びバインダー含有するITOインクを所定のパターン状に印刷する。その後、このITOインクを230℃〜300℃で焼成することにより、バインダーの比率が5〜10重量%の透明導電膜2を形成する。 (もっと読む)


【課題】版レスで静電的に形成された金属粉体のパターンを転写体に転写する回路基板の製造方法及び装置の提供。
【解決手段】静電像坦持体と現像器と転写体に現像剤を転写する転写装置を具備する装置において、現像剤が導電性粒子であって、該転写体の表面に粘着剤が塗布されており、該導電性粒子を表面に保持した該静電潜像担持体と転写体上に塗布されている該粘着剤を接触させ粘着転写する工程とからなる事を特徴とする回路基板の製造方法及び装置。 (もっと読む)


【課題】金属板とセラミックス基板とが確実に接合され、熱サイクル信頼性の高いパワーモジュール用基板、ヒートシンク付パワーモジュール用基板、このパワーモジュール用基板を備えたパワーモジュール及びこのパワーモジュール用基板の製造方法、ヒートシンク付パワーモジュール用基板の製造方法を提供する。
【解決手段】セラミックス基板11の表面に、アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる金属板12,13が積層されて接合されたパワーモジュール用基板10であって、金属板12,13には、Agが固溶されており、金属板12,13のうちセラミックス基板11との界面近傍におけるAg濃度が0.05質量%以上10質量%以下の範囲内に設定されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】高温環境下で使用されても硬度及び折曲性に優れ且つプラスチック基材に対する密着性に優れる導電層を形成できる電子線硬化用導電性ペースト及びこれを用いた回路基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】導電粉と、ラジカル重合性組成物と、可塑剤とを含み、前記可塑剤が、前記ラジカル重合性組成物100質量部に対して5〜20質量部の割合で配合されていることを特徴とする電子線硬化用導電性ペースト。 (もっと読む)


【課題】接着物が高温環境下に長時間置かれた場合でも、接着性が低下することのない接着剤組成物を提供する。また、FPC用に使用した場合に、ポリイミドフィルムに対して優れた接着強さを発現し、耐熱老化性に優れた接着剤組成物を提供する。
【解決手段】ポリウレタン樹脂(A)、エポキシ樹脂(B)及びエポキシ樹脂硬化剤(C)を含有する接着剤組成物であって、前記ポリウレタン樹脂(A)の融点が30〜150℃であり、かつ、エポキシ樹脂硬化剤(C)が下記一般式(1)で示される構造を有するフェノールノボラック樹脂であることを特徴とする接着剤組成物。 (もっと読む)


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